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sobre objetivos de sputtering de cerámica de óxido
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objetivos de sputtering de cerámica de óxido40+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Cerámica de Óxido de Lantano y Radio LaRaO para Recubrimiento de Películas Ópticas Finas

Objetivo de Cerámica de Óxido de Lantano y Radio LaRaO para Recubrimiento de Películas Ópticas Finas

US$ 140,00
1 Kg(MOQ)
SiO2 Objetivo Cerámico de Sputtering Óxido de Silicio Objetivo Cerámico de Sputtering para Recubrimiento de Película PVD

SiO2 Objetivo Cerámico de Sputtering Óxido de Silicio Objetivo Cerámico de Sputtering para Recubrimiento de Película PVD

US$ 25,00-100,00
1 Kg(MOQ)
In2O3 Objetivo de cerámica de óxido de indio para sputtering para LCD/panel táctil

In2O3 Objetivo de cerámica de óxido de indio para sputtering para LCD/panel táctil

US$ 650,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Óxido de Cobalto 99.9% Disco de Cerámica Coo

Objetivo de Sputtering de Óxido de Cobalto 99.9% Disco de Cerámica Coo

US$ 110,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de cerámica ITO de alta pureza para aplicaciones de recubrimiento de óxido conductor transparente

Objetivo de sputtering de cerámica ITO de alta pureza para aplicaciones de recubrimiento de óxido conductor transparente

US$ 110,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Óxido de Vanadio Xinkang 99.9% Materiales Cerámicos Vo2 Objetivos

Objetivo de Sputtering de Óxido de Vanadio Xinkang 99.9% Materiales Cerámicos Vo2 Objetivos

US$ 100,00-120,00
1 pieces(MOQ)
99.99% Al2O3 Objetivo de cerámica de alúmina óxido de aluminio para sputtering

99.99% Al2O3 Objetivo de cerámica de alúmina óxido de aluminio para sputtering

US$ 28,00-50,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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3n, 4n, 5n Personalizado Al2O3 Objetivos de Cerámica Óxido de Aluminio para Sputtering

3n, 4n, 5n Personalizado Al2O3 Objetivos de Cerámica Óxido de Aluminio para Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de cerámica Zto de óxido de zinc y estaño para recubrimiento de película delgada

Objetivo de cerámica Zto de óxido de zinc y estaño para recubrimiento de película delgada

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Plomo de Cerámica Pura Pbo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Plomo de Cerámica Pura Pbo

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Óxidos de Zirconio de Alta Pureza 99.99% Objetivos de Cerámica de Dióxido de Zirconio Zro2 Objetivos de Sputtering de Dióxido de Zirconio

Óxidos de Zirconio de Alta Pureza 99.99% Objetivos de Cerámica de Dióxido de Zirconio Zro2 Objetivos de Sputtering de Dióxido de Zirconio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Ganzhou Zhanhai New Material Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytrio Premium 4n-5n para Catalizadores

Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytrio Premium 4n-5n para Catalizadores

US$ 50,00-70,00
1 Kg(MOQ)
Óxido de Ytrio de Alta Pureza Y2o3 en Polvo para Aplicaciones Cerámicas

Óxido de Ytrio de Alta Pureza Y2o3 en Polvo para Aplicaciones Cerámicas

US$ 50,00-70,00
1 Kg(MOQ)
Polvo de Tierras Raras de Alta Pureza 99.995% Y2o3 Gránulo para Objetivo de Sputtering Cerámico

Polvo de Tierras Raras de Alta Pureza 99.995% Y2o3 Gránulo para Objetivo de Sputtering Cerámico

US$ 50,00-65,00
25 Kg(MOQ)
99.999% Óxido de Yttrio de Tierra Rara Y2o3 CAS 1314-36-9, Material de Producto de Circonia Premium

99.999% Óxido de Yttrio de Tierra Rara Y2o3 CAS 1314-36-9, Material de Producto de Circonia Premium

US$ 50,00-65,00
25 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Recubridor de magnetrón de sputtering de doble objetivo RF de cerámica, dieléctrico, óptico, óxido, película dura, película de PTFE

Recubridor de magnetrón de sputtering de doble objetivo RF de cerámica, dieléctrico, óptico, óxido, película dura, película de PTFE

US$ 26.500,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento PVD por magnetrón de sputtering de vacío de doble objetivo para películas semiconductoras

Máquina de recubrimiento PVD por magnetrón de sputtering de vacío de doble objetivo para películas semiconductoras

US$ 26.500,00
1 Pieza(MOQ)
Tres Objetivos de Recubrimiento por Sputtering Magnetrón (500W DC&500W RF)

Tres Objetivos de Recubrimiento por Sputtering Magnetrón (500W DC&500W RF)

US$ 39.500,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por magnetrón de sputtering PVD en vacío personalizable para películas de aleación

Máquina de recubrimiento por magnetrón de sputtering PVD en vacío personalizable para películas de aleación

US$ 36.500,00-39.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

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Ybco Yba2Cu3O7 itrio de óxido de cobre de bario de Sputtering meta

Ybco Yba2Cu3O7 itrio de óxido de cobre de bario de Sputtering meta

US$ 250,00-500,00
1 Pieza(MOQ)

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Varilla de metal de gadolinio con alta calidad de objetivo de metal raro

Varilla de metal de gadolinio con alta calidad de objetivo de metal raro

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytterbio de Alta Pureza para Aplicaciones Electrónicas

Objetivo de Sputtering de Óxido de Ytterbio de Alta Pureza para Aplicaciones Electrónicas

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de yttrio de alta calidad en forma redonda para uso industrial

Objetivo de sputtering de yttrio de alta calidad en forma redonda para uso industrial

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
99.9% Placa de metal de gadolinio puro Gd objetivo de pulverización para uso magnético de tierras raras

99.9% Placa de metal de gadolinio puro Gd objetivo de pulverización para uso magnético de tierras raras

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Itrio Óxido de Zirconio Ysz(ZRO2/S2o3 99,99% de Sputtering Meta Objetivo de cerámica

Itrio Óxido de Zirconio Ysz(ZRO2/S2o3 99,99% de Sputtering Meta Objetivo de cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Óxido de galio Sputtering Meta Ga2o3 la pureza del 99,99% de 4n

Óxido de galio Sputtering Meta Ga2o3 la pureza del 99,99% de 4n

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Óxido ferroso Feo 4n Sputtering Target para recubrimiento PVD

Óxido ferroso Feo 4n Sputtering Target para recubrimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

US$ 21.000,00-26.000,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de Sputtering Magnetrón de Tres Objetivos de Corriente Continua para Película de PTFE

Recubridor de Sputtering Magnetrón de Tres Objetivos de Corriente Continua para Película de PTFE

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetrón Personalizado con 3 Objetivos para la Preparación de Metal

Revestidor de Sputtering Magnetrón Personalizado con 3 Objetivos para la Preparación de Metal

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Pieza(MOQ)
Cuatro máquinas de recubrimiento por sputtering magnetrón de objetivo para semiconductores

Cuatro máquinas de recubrimiento por sputtering magnetrón de objetivo para semiconductores

US$ 8.730,00-8.900,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de metal Igzo 4n In2o3 Ga2o3 ZnO Indio Zinc Galio

Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de metal Igzo 4n In2o3 Ga2o3 ZnO Indio Zinc Galio

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de óxido de indio, en2o3 blanco

Objetivo de óxido de indio, en2o3 blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ITO, ITO blanco de Sputtering Planar película de vidrio, Tp/tn/STN/TFT-LCD Meta ITO

ITO, ITO blanco de Sputtering Planar película de vidrio, Tp/tn/STN/TFT-LCD Meta ITO

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ATO, Destino, ventana de infrarrojos Film ATO, el antimonio de óxido de estaño blanco

ATO, Destino, ventana de infrarrojos Film ATO, el antimonio de óxido de estaño blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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Rotary Tiox destino, principalmente para la aplicación de recubrimiento de vidrio Low-E, el magnetrón Sputtering Meta, meta de óxido de titanio

Rotary Tiox destino, principalmente para la aplicación de recubrimiento de vidrio Low-E, el magnetrón Sputtering Meta, meta de óxido de titanio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ITO Sputtering Meta con alta densidad de óxido de estaño indio y la pureza

ITO Sputtering Meta con alta densidad de óxido de estaño indio y la pureza

Negociable
2 Piezas(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Óxido de ytterbio material objetivo Yb2O3, Investigación Científica material experimental, esputtering Coating, evaporación Coating, Semiconductor

Óxido de ytterbio material objetivo Yb2O3, Investigación Científica material experimental, esputtering Coating, evaporación Coating, Semiconductor

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Material objetivo de aluminio óxido de zinc de alta pureza (AZO), óxido de zinc (ZnO) dopado con óxido de aluminio (Al2O3), objetivo de óxido de esputo de magnetrón, unión de placa trasera.

Material objetivo de aluminio óxido de zinc de alta pureza (AZO), óxido de zinc (ZnO) dopado con óxido de aluminio (Al2O3), objetivo de óxido de esputo de magnetrón, unión de placa trasera.

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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Igh Pureza 99.9%Min 1-10inch Ruo2 Óxido de Rutenio Targ

Igh Pureza 99.9%Min 1-10inch Ruo2 Óxido de Rutenio Targ

US$ 2.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Polvo de Bismuto, Óxido de Bismuto, Perlas de Bismuto Aguja

99.99% Polvo de Bismuto, Óxido de Bismuto, Perlas de Bismuto Aguja

US$ 20,00-100,00
1 g(MOQ)
4n-6n Polvo de bismuto, óxido de bismuto, perlas de bismuto aguja

4n-6n Polvo de bismuto, óxido de bismuto, perlas de bismuto aguja

US$ 40,00-1.000,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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Al2O3 blanco de Sputtering cerámica

Al2O3 blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Bi2O3 blanco de Sputtering cerámica

Bi2O3 blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Changsha Advanced Engineering Materials Limited

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Óxido de Niobio (Nb2O5) Objetivos de sputtering

Óxido de Niobio (Nb2O5) Objetivos de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Jiangxi CNP New Chemical Materials Co., Ltd.

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Óxido de estaño (SnO2) Material de evaporación en forma de pellet 1-10mm Pureza 99.99% Objetivo de pulverización

Óxido de estaño (SnO2) Material de evaporación en forma de pellet 1-10mm Pureza 99.99% Objetivo de pulverización

US$ 200,00
1 Kg(MOQ)
1/4

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de cerámica

Objetivo de Sputtering de cerámica

US$ 45,00
1 Pieza(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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ITO Tamaño personalizable el 99,99% de óxido de estaño indio gira ITO blanco de Sputtering cerámica

ITO Tamaño personalizable el 99,99% de óxido de estaño indio gira ITO blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Tianjin Jilian Technology Co., Ltd.

3 años·5.0
·Empresa Comercial
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Pólder de objetivo de pulverización de óxido de magnesio (MGO) CAS1309-48-4

Pólder de objetivo de pulverización de óxido de magnesio (MGO) CAS1309-48-4

US$ 550,00-1.500,00
10 Montones(MOQ)
1/4

EHW APPLIED MATERIALS CO., LTD.

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Alta calidad de Nb2ox Sputtering meta para el revestimiento de vacío y la máquina

Alta calidad de Nb2ox Sputtering meta para el revestimiento de vacío y la máquina

US$ 10,00-5.000,00
1 Pieza(MOQ)
La calidad de alta pureza y disco de ito de Sputtering meta para el revestimiento de vacío y la máquina

La calidad de alta pureza y disco de ito de Sputtering meta para el revestimiento de vacío y la máquina

US$ 10,00-5.000,00
30 Piezas(MOQ)
ITO de alta calidad de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (90/10)

ITO de alta calidad de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (90/10)

US$ 10,00-5.000,00
1 Pieza(MOQ)
La pureza y calidad ito de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (95/5)

La pureza y calidad ito de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (95/5)

US$ 10,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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4n TiO2 Objetivos de Óxido de Titanio Objetivos Rotativos Objetivos Planos

4n TiO2 Objetivos de Óxido de Titanio Objetivos Rotativos Objetivos Planos

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
4n Nbo2 Objetivos de óxido de niobio Objetivos planos

4n Nbo2 Objetivos de óxido de niobio Objetivos planos

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
4n Nbo2 Objetivos rotativos para recubrimiento al vacío

4n Nbo2 Objetivos rotativos para recubrimiento al vacío

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos redondos de óxido de titanio con 99.99% pureza

Objetivos redondos de óxido de titanio con 99.99% pureza

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 4N 99.99% Objetivo de ITO de alta pureza para recubrimiento PVD

ACETRON 4N 99.99% Objetivo de ITO de alta pureza para recubrimiento PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Blanco rotatorio de IGZO de alta pureza para recubrimiento al vacío/recubrimiento PVD

ACETRON 4N 99.99% Blanco rotatorio de IGZO de alta pureza para recubrimiento al vacío/recubrimiento PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Óxido de Titanio de Alta Pureza Rotatable para Recubrimiento en Vacío/PVD

ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Óxido de Titanio de Alta Pureza Rotatable para Recubrimiento en Vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Óxido de Indio y Estaño / ITO para recubrimiento conductor de pantallas

ACETRON 4N 99.99% Óxido de Indio y Estaño / ITO para recubrimiento conductor de pantallas

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)

HENAN RUNJING INSTRUMENT EQUIPMENT CO.,LTD

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Máquina de recubrimiento por sputtering de magnetrón RF de triple objetivo PVD para plating de joyería al vacío

Máquina de recubrimiento por sputtering de magnetrón RF de triple objetivo PVD para plating de joyería al vacío

US$ 28.000,00-45.000,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por sputtering de magnetrón de alto vacío para películas conductoras y ópticas

Equipo de recubrimiento por sputtering de magnetrón de alto vacío para películas conductoras y ópticas

US$ 55.000,00-65.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de recubrimiento por magnetrón de triple objetivo (con etapa de muestra montada en la parte superior) para experimentos de recubrimiento en laboratorio

Sistema de recubrimiento por magnetrón de triple objetivo (con etapa de muestra montada en la parte superior) para experimentos de recubrimiento en laboratorio

US$ 55.000,00-65.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen U-Spring Technology Co., Ltd

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Objetivo rotatorio U-Spring Tiox / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

Objetivo rotatorio U-Spring Tiox / objetivo de pulverización para pulverización magnetrónica y recubrimiento al vacío

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
Objetivo Rotatorio U-Spring Nb2ox / Objetivo de Sputtering para Sputtering Magnetrón y Recubrimiento al Vacío

Objetivo Rotatorio U-Spring Nb2ox / Objetivo de Sputtering para Sputtering Magnetrón y Recubrimiento al Vacío

US$ 2.000,00
1 Pcs(MOQ)
1/2

Guangdong Rongsin New Material Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de alta pureza y pellet de evaporación para recubrimiento PVD

Objetivo de sputtering de alta pureza y pellet de evaporación para recubrimiento PVD

US$ 1,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de magnetrón de sial, sial tiox nbox/mo/al/si/sip/sib/sicr, placa, hoja, tubo, objetivo de sputtering de magnetrón

Objetivo de magnetrón de sial, sial tiox nbox/mo/al/si/sip/sib/sicr, placa, hoja, tubo, objetivo de sputtering de magnetrón

US$ 1,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shaanxi Sgj International Co., Ltd.

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Sgj Metal Advanced Industrial 99.95% Varilla/ Barra/ Tubo/ Manga/ Casquillo/ Tubería de Tantalio-Ta para Soldadura al Vacío a 99.7% Ensamblaje de Cerámica de Alúmina

Sgj Metal Advanced Industrial 99.95% Varilla/ Barra/ Tubo/ Manga/ Casquillo/ Tubería de Tantalio-Ta para Soldadura al Vacío a 99.7% Ensamblaje de Cerámica de Alúmina

US$ 1,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Coater de Sputtering Magnetrón DC/RF de banco para metales, óxidos, cerámicas y semiconductores

Coater de Sputtering Magnetrón DC/RF de banco para metales, óxidos, cerámicas y semiconductores

US$ 15.000,00
1 Pieza(MOQ)
Materiales de recubrimiento PVD de alta pureza de la marca TMAXCN Óxido de tungsteno Wo3 Objetivo de sputtering

Materiales de recubrimiento PVD de alta pureza de la marca TMAXCN Óxido de tungsteno Wo3 Objetivo de sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN - VTC-3RF Opción de Sputtering Magnetrón de CC 3 Cabezas 1" Máquina de Recubrimiento por Sputtering de Plasma RF

Marca TMAXCN - VTC-3RF Opción de Sputtering Magnetrón de CC 3 Cabezas 1" Máquina de Recubrimiento por Sputtering de Plasma RF

US$ 12.000,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN - VTC-600-3HD-LD Máquina de recubrimiento por pulverización de alta vacuidad DC/RF 3 Cabezal 2 Recubridor por pulverización de plasma magnetrón

Marca TMAXCN - VTC-600-3HD-LD Máquina de recubrimiento por pulverización de alta vacuidad DC/RF 3 Cabezal 2 Recubridor por pulverización de plasma magnetrón

US$ 18.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Línea de producción de recubrimiento de óxido de indio y estaño en vidrio ITO por PVD en vacío

Línea de producción de recubrimiento de óxido de indio y estaño en vidrio ITO por PVD en vacío

US$ 1.500.000,00-5.000.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento de óxido de indio y estaño Hcvac, recubridor por sputtering magnetrón PVD

Máquina de recubrimiento de óxido de indio y estaño Hcvac, recubridor por sputtering magnetrón PVD

US$ 150.000,00-500.000,00
1 Set(MOQ)
Sistema de Sputtering de Vacío Hcvac Máquina de Platinado al Vacío Máquina de Recubrimiento de Película delgada

Sistema de Sputtering de Vacío Hcvac Máquina de Platinado al Vacío Máquina de Recubrimiento de Película delgada

US$ 60.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering magnetrón

Máquina de recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering magnetrón

US$ 1.500.000,00-5.000.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd.

14 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Componentes de cerámica de nitruro de boro para aplicaciones en hornos de alta temperatura

Componentes de cerámica de nitruro de boro para aplicaciones en hornos de alta temperatura

US$ 10,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
99bn Tubo Cerámico de Alta Pureza Blanca Protege el Tubo de Nitruro de Boro Aislado

99bn Tubo Cerámico de Alta Pureza Blanca Protege el Tubo de Nitruro de Boro Aislado

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Aplicaciones de Horno de Alta Temperatura Tubo Redondo de Cerámica

Aplicaciones de Horno de Alta Temperatura Tubo Redondo de Cerámica

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Hoja Cerámica de Nitrógeno de Boro Personalizada de Alta Pureza Innovacera 99%

Hoja Cerámica de Nitrógeno de Boro Personalizada de Alta Pureza Innovacera 99%

US$ 10,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
1/4
12
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