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sobre objetivos de sputtering de niv
  • Innovación tecnológica
  • Cadenas de suministro confiables
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objetivos de sputtering de niv9 fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.95% Blanco Niv Magnetrón Níquel Vanadio Objetivo de Sputtering Niv7wt%

99.95% Blanco Niv Magnetrón Níquel Vanadio Objetivo de Sputtering Niv7wt%

US$ 55,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
Niv7wt% Objetivo Rotatorio 99.95% Objetivo de Tubo de Aleación de Níquel y Vanadio de Niv Puro para Sputtering

Niv7wt% Objetivo Rotatorio 99.95% Objetivo de Tubo de Aleación de Níquel y Vanadio de Niv Puro para Sputtering

US$ 55,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de material de níquel y vanadio en forma de rectángulo, unido con placa de respaldo de cobre

Objetivo de sputtering de material de níquel y vanadio en forma de rectángulo, unido con placa de respaldo de cobre

US$ 10,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering Magnetrón de Alta Pureza Niv

Objetivo de Sputtering Magnetrón de Alta Pureza Niv

US$ 55,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Objetivos de aleación de níquel de alta pureza Niv objetivo de sputtering de níquel y vanadio

Objetivos de aleación de níquel de alta pureza Niv objetivo de sputtering de níquel y vanadio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Cuo-In2o3 Objetivos Cerámicos Óxido de Cobre - Objetivo de Sputtering Óxido de Indio

Cuo-In2o3 Objetivos Cerámicos Óxido de Cobre - Objetivo de Sputtering Óxido de Indio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Nisi2 Objetivos de Cerámica Objetivos de Sputtering de Silicuro de Níquel

99.9% Nisi2 Objetivos de Cerámica Objetivos de Sputtering de Silicuro de Níquel

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de aleación de níquel y titanio para pulverización para recubrimiento PVD

Objetivo de aleación de níquel y titanio para pulverización para recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Objetivo de aleación de NIV níquel de vanadio objetivo de esputo de aleación para LCD/semiconductor

Objetivo de aleación de NIV níquel de vanadio objetivo de esputo de aleación para LCD/semiconductor

US$ 100,00
1 Kg(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

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Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

China Rare Metal Material Co., Ltd.

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Los objetivos de Sputtering cerámica

Los objetivos de Sputtering cerámica

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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99.9% Precio del objetivo de níquel de alta pureza, objetivo de aleación de níquel, objetivo de pulverización de níquel

99.9% Precio del objetivo de níquel de alta pureza, objetivo de aleación de níquel, objetivo de pulverización de níquel

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Níquel 99.99% Objetivo de Ni de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Níquel 99.99% Objetivo de Ni de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Venta caliente de objetivo de sputtering de níquel con alta pureza

Venta caliente de objetivo de sputtering de níquel con alta pureza

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de recubrimiento por pulverización de níquel, objetivo magnético decorativo para recubrimiento de metal

99.99% Objetivo de recubrimiento por pulverización de níquel, objetivo magnético decorativo para recubrimiento de metal

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/2

Jiangsu Himalaya Semiconductor Co., Ltd.

7 años
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Máquina de deposición de recubrimiento PVD por vacío de múltiples cámaras de alta densidad para películas semiconductoras avanzadas

Máquina de deposición de recubrimiento PVD por vacío de múltiples cámaras de alta densidad para películas semiconductoras avanzadas

US$ 50.000,00-150.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Aleación de metal NIV níquel vanadio Magnetrón esputante objetivo para el vacío Revestimiento

Aleación de metal NIV níquel vanadio Magnetrón esputante objetivo para el vacío Revestimiento

US$ 10,00
10 Piezas(MOQ)
Niv7 Rotary sputtering Target 4n% 99,99 aleación de vanadio de níquel para Revestimiento de PVD de magnetrón

Niv7 Rotary sputtering Target 4n% 99,99 aleación de vanadio de níquel para Revestimiento de PVD de magnetrón

US$ 70,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Material de evaporación Niv7 aleación de níquel-vanadio Rotary Magnetron sputtering Target Alta densidad

Material de evaporación Niv7 aleación de níquel-vanadio Rotary Magnetron sputtering Target Alta densidad

US$ 70,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Alta densidad Niv7wt% Rotary Target NIV Pipe Target Nickel Vanadium Objetivo de pulverización de tubos de aleación

Alta densidad Niv7wt% Rotary Target NIV Pipe Target Nickel Vanadium Objetivo de pulverización de tubos de aleación

US$ 70,00-130,00
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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3N Alta pureza níquel-vanadio esputante de la placa plana de destino / rotación Objetivos

3N Alta pureza níquel-vanadio esputante de la placa plana de destino / rotación Objetivos

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
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