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sobre objetivos ito
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objetivos ito70+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo PVD In2o3: Sno2 Objetivo compuesto ITO para pulverización

Objetivo PVD In2o3: Sno2 Objetivo compuesto ITO para pulverización

US$ 30,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering In2o3/Sno2 90/10wt% Objetivo para Sputtering

99.99% Objetivo de Sputtering In2o3/Sno2 90/10wt% Objetivo para Sputtering

US$ 100,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Material superconductor ITO para máquina de recubrimiento metálico

Material superconductor ITO para máquina de recubrimiento metálico

US$ 50,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Material cerámico ITO óxido de indio y estaño objetivo

Material cerámico ITO óxido de indio y estaño objetivo

US$ 80,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

US$ 30,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetrón de Objetivo de Fondo Simple para Recubrimientos de ITO

Revestidor de Sputtering Magnetrón de Objetivo de Fondo Simple para Recubrimientos de ITO

US$ 19.000,00-21.000,00
1 set(MOQ)
Máquina de recubrimiento de magnetrón de RF de alto vacío para la deposición de película de ITO

Máquina de recubrimiento de magnetrón de RF de alto vacío para la deposición de película de ITO

US$ 18.000,00-23.000,00
1 set(MOQ)
Máquina de recubrimiento por sputtering de magnetrón de vacío de laboratorio para películas de ITO

Máquina de recubrimiento por sputtering de magnetrón de vacío de laboratorio para películas de ITO

US$ 17.850,00-18.600,00
1 set(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99 % Alta Pureza Gd2o3 Objetivo Cerámico Óxido de Gadolinio Objetivo de Sputtering

99.99 % Alta Pureza Gd2o3 Objetivo Cerámico Óxido de Gadolinio Objetivo de Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Cuo-In2o3 Objetivos Cerámicos Óxido de Cobre - Objetivo de Sputtering Óxido de Indio

Cuo-In2o3 Objetivos Cerámicos Óxido de Cobre - Objetivo de Sputtering Óxido de Indio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
3n, 4n, 5n Alto Puro Fe2o3 Objetivo Cerámico Óxido de Hierro Objetivo de Sputtering

3n, 4n, 5n Alto Puro Fe2o3 Objetivo Cerámico Óxido de Hierro Objetivo de Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Negociable
1 Piece(MOQ)
Objetivo de metal ITO de alta pureza 4n óxido de indio y óxido de estaño In2o3 y Sno2

Objetivo de metal ITO de alta pureza 4n óxido de indio y óxido de estaño In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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Objetivo ITO para LCD, PDP, OLED, objetivo compuesto de estaño, indio y oxígeno

Objetivo ITO para LCD, PDP, OLED, objetivo compuesto de estaño, indio y oxígeno

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99.95% Blanco de Sputtering de Rutenio de Forma Especial Pura, Blanco de Ru para Recubrimiento de Sputtering de Memoria

99.95% Blanco de Sputtering de Rutenio de Forma Especial Pura, Blanco de Ru para Recubrimiento de Sputtering de Memoria

US$ 8.000,00-60.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Objetivo ITO Alto Density>99.8% Baja Densidad: 60% Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño para Panel Táctil LCD/LED

Objetivo ITO Alto Density>99.8% Baja Densidad: 60% Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño para Panel Táctil LCD/LED

US$ 340,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de Óxido de Indio y Estaño ITO para Sputtering al Vacío PVD Objetivo Creen

Objetivo de Óxido de Indio y Estaño ITO para Sputtering al Vacío PVD Objetivo Creen

US$ 4.600,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
PVD de alta pureza de la placa de revestimiento de vacío de ITO empalmado pegado magnetrón Sputtering Objetivos

PVD de alta pureza de la placa de revestimiento de vacío de ITO empalmado pegado magnetrón Sputtering Objetivos

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Comercio al por mayor de Sputtering meta las fábricas de materiales para la industria de semiconductores

Comercio al por mayor de Sputtering meta las fábricas de materiales para la industria de semiconductores

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Fábrica de Guangdong puro mayorista del 99,95% de la placa de lámina de cobre de Sputtering Meta Fabricación

Fábrica de Guangdong puro mayorista del 99,95% de la placa de lámina de cobre de Sputtering Meta Fabricación

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Uv Tech Material Ltd

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ITO 97: 3 93:7 90 10 95: 5wt% 99,99% de la Pureza de Sputtering Retangular Rotary y la placa de referencia para el revestimiento de vacío de vidrio

ITO 97: 3 93:7 90 10 95: 5wt% 99,99% de la Pureza de Sputtering Retangular Rotary y la placa de referencia para el revestimiento de vacío de vidrio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización Nbox Nb2O5 Destino Sputter girar la pureza del 99,95% de la cadera pic@Uvtm Vicky-Chan destino de exportación. COM Sial Znal Znsn Nicr Azo ITO

Objetivo de pulverización Nbox Nb2O5 Destino Sputter girar la pureza del 99,95% de la cadera pic@Uvtm Vicky-Chan destino de exportación. COM Sial Znal Znsn Nicr Azo ITO

Negociable
1 Pieza(MOQ)
PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de recubrimiento de vidrio Msvd contenedor de carga para la exportación Vicky-Chan@Uvtm. COM

Objetivos de recubrimiento de vidrio Msvd contenedor de carga para la exportación Vicky-Chan@Uvtm. COM

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Weihai Chenyu Vacuum Technology Co., Ltd

4 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Máquina de recubrimiento de película conductora transparente de alto rendimiento con objetivo de ITO y recubrimiento de argón

Máquina de recubrimiento de película conductora transparente de alto rendimiento con objetivo de ITO y recubrimiento de argón

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización catódica a gran escala con múltiples objetivos de cátodo para recubrimiento de argón

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica a gran escala con múltiples objetivos de cátodo para recubrimiento de argón

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Línea de producción de recubrimientos personalizada con requisitos específicos del cliente, máquina de recubrimiento de Ar

Línea de producción de recubrimientos personalizada con requisitos específicos del cliente, máquina de recubrimiento de Ar

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por sputtering con magnetrón de grado industrial y gran capacidad para recubrimiento de argón

Equipo de recubrimiento por sputtering con magnetrón de grado industrial y gran capacidad para recubrimiento de argón

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Revestidor por Sputtering Magnetrón de CC con Cavidad de Acero Inoxidable para Película de ITO

Revestidor por Sputtering Magnetrón de CC con Cavidad de Acero Inoxidable para Película de ITO

US$ 8.730,00-8.900,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización magnetrón de polvo para equipo de recubrimiento ideal

Máquina de recubrimiento por pulverización magnetrón de polvo para equipo de recubrimiento ideal

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por sputtering magnetrón multifuncional línea de producción de recubrimiento automático

Máquina de recubrimiento por sputtering magnetrón multifuncional línea de producción de recubrimiento automático

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Pieza(MOQ)
Venta directa de fábrica de recubridor de magnetrón de sputtering montado debajo de un solo objetivo para recubrimientos de ITO

Venta directa de fábrica de recubridor de magnetrón de sputtering montado debajo de un solo objetivo para recubrimientos de ITO

US$ 8.900,00-13.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd

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Destino DE ITO

Destino DE ITO

Negociable
5 Piezas(MOQ)
ITO (tabletas) Sputtering meta

ITO (tabletas) Sputtering meta

Negociable
5 Piezas(MOQ)

Lead Optima Element Tech Co., Ltd

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ITO destino con la placa de cobre metálico pegado

ITO destino con la placa de cobre metálico pegado

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Deyang Aijialun Vacuum Technology Co., Ltd.

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ITO Sputtering meta

ITO Sputtering meta

US$ 20,00-1.000,00
1 Set(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Taizhou ATS Optical Material Co., Ltd.

26 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de silicio, oblea de silicio, pieza de silicio monocristalino

Objetivo de silicio, oblea de silicio, pieza de silicio monocristalino

US$ 4,00-5,00
1 piece(MOQ)
Objetivo de silicio pieza de polisilicio

Objetivo de silicio pieza de polisilicio

US$ 26,00-28,00
1 piece(MOQ)
Partículas de silicio policristalino de silicio monocrystalline gránulo de Si

Partículas de silicio policristalino de silicio monocrystalline gránulo de Si

US$ 97,50-100,00
1 Kg(MOQ)
Gránulo de silicio para usar como material semiconductor

Gránulo de silicio para usar como material semiconductor

US$ 97,50-100,00
1 Kg(MOQ)
1/4

UV Tech Material Co., Ltd.

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Rotary el objetivo, ITO Planar magnetrón Sputtering meta, en2o3: Destino Sno2, 90:10 ITO, Ito, 5 de 95: 97: 3 ITO

Rotary el objetivo, ITO Planar magnetrón Sputtering meta, en2o3: Destino Sno2, 90:10 ITO, Ito, 5 de 95: 97: 3 ITO

Negociable
10 Kg(MOQ)
Heterojunction destino ITO, Ito de Alta Pureza Sputtering meta para Heterojunction, 97: 3 Hjt ITO blanco

Heterojunction destino ITO, Ito de Alta Pureza Sputtering meta para Heterojunction, 97: 3 Hjt ITO blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Negociable
1 Pieza(MOQ)

EHW APPLIED MATERIALS CO., LTD.

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ITO objetivo para la conductora de recubrimiento de película transparente

ITO objetivo para la conductora de recubrimiento de película transparente

US$ 10,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
ITO de alta calidad de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (90/10)

ITO de alta calidad de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (90/10)

US$ 10,00-5.000,00
1 Pieza(MOQ)
La calidad de alta pureza y disco de ito de Sputtering meta para el revestimiento de vacío y la máquina

La calidad de alta pureza y disco de ito de Sputtering meta para el revestimiento de vacío y la máquina

US$ 10,00-5.000,00
30 Piezas(MOQ)
La pureza y calidad ito de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (95/5)

La pureza y calidad ito de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (95/5)

US$ 10,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 4N 99.99% Objetivo de sputtering ITO para recubrimiento de película conductora

ACETRON 4N 99.99% Objetivo de sputtering ITO para recubrimiento de película conductora

US$ 99,00-9.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Objetivo de ITO de alta pureza para recubrimiento PVD

ACETRON 4N 99.99% Objetivo de ITO de alta pureza para recubrimiento PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N Blanco tubular de ITO de alta pureza para recubrimiento al vacío/recubrimiento PVD

ACETRON 4N Blanco tubular de ITO de alta pureza para recubrimiento al vacío/recubrimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Sputtering Planar de Óxido de Indio y Estaño ITO para recubrimiento conductor de LCD/LED/OLED

ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Sputtering Planar de Óxido de Indio y Estaño ITO para recubrimiento conductor de LCD/LED/OLED

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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ITO, ITO blanco de Sputtering Planar película de vidrio, Tp/tn/STN/TFT-LCD Meta ITO

ITO, ITO blanco de Sputtering Planar película de vidrio, Tp/tn/STN/TFT-LCD Meta ITO

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de ITO, OLED / LED / Tp destino ITO, Ito de semiconductores LED Slug

Objetivo de ITO, OLED / LED / Tp destino ITO, Ito de semiconductores LED Slug

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ITO en polvo, óxido de estaño indio, ITO polvo amarillo azul

ITO en polvo, óxido de estaño indio, ITO polvo amarillo azul

Negociable
1 Kg(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Los objetivos de sputtering

Los objetivos de sputtering

US$ 60,00
1 Pieza(MOQ)
sputtering

sputtering

US$ 18,00-20,00
1 Pieza(MOQ)

Tengzhou Fast Silver Trading Co., Limited.

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Óxido conductiva transparente ito de película delgada de óxido de estaño indio destino Sputter

Óxido conductiva transparente ito de película delgada de óxido de estaño indio destino Sputter

US$ 450,00
1 Pieza(MOQ)

Jiangxi He Quan Chem Co., Ltd

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El 99,99% de óxido de estaño indio ITO Sputtering meta con la placa de cobre

El 99,99% de óxido de estaño indio ITO Sputtering meta con la placa de cobre

US$ 99,00-169,00
1 Piece(MOQ)

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Jubo Guneng(Suzhou) Thin Film Materials Co., Ltd.

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5n Revestimiento de mayor pureza Sputter Target Target

5n Revestimiento de mayor pureza Sputter Target Target

US$ 1.000,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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ITO Tamaño personalizable el 99,99% de óxido de estaño indio gira ITO blanco de Sputtering cerámica

ITO Tamaño personalizable el 99,99% de óxido de estaño indio gira ITO blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd.

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Hbf52-17o Horno de caja de alta temperatura ampliamente utilizado en la sinterización de material de objetivo ITO, horno de mufla industrial

Hbf52-17o Horno de caja de alta temperatura ampliamente utilizado en la sinterización de material de objetivo ITO, horno de mufla industrial

US$ 21.900,00-21.933,00
1 Pieza(MOQ)
Hbf52-17o Horno de caja de alta temperatura, ampliamente utilizado en el control de temperatura de estabilidad del material de objetivo ITO de ± 1 º C

Hbf52-17o Horno de caja de alta temperatura, ampliamente utilizado en el control de temperatura de estabilidad del material de objetivo ITO de ± 1 º C

US$ 21.900,00-21.933,00
1 Pieza(MOQ)
El Bf150-17 Horno de Campana de Alta Temperatura se utiliza en la aplicación de materiales de objetivo ITO

El Bf150-17 Horno de Campana de Alta Temperatura se utiliza en la aplicación de materiales de objetivo ITO

US$ 500,00-60.000,00
1 Pieza(MOQ)
El Hbf52-17o Horno de Alta Temperatura se utiliza ampliamente en el proceso de sinterización a alta temperatura de materiales de objetivo ITO

El Hbf52-17o Horno de Alta Temperatura se utiliza ampliamente en el proceso de sinterización a alta temperatura de materiales de objetivo ITO

US$ 21.900,00-21.933,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Sistema de recubrimiento por pulverización en línea Hcvac para película conductora de ITO, Azo, ZnO

Sistema de recubrimiento por pulverización en línea Hcvac para película conductora de ITO, Azo, ZnO

US$ 150.000,00-500.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento al vacío de hojas de vidrio ITO para pantallas táctiles de panel de visualización

Máquina de recubrimiento al vacío de hojas de vidrio ITO para pantallas táctiles de panel de visualización

US$ 150.000,00-500.000,00
1 Set(MOQ)
Película ITO Solar Célula Película Conductora Transparente Producción por Sputtering Magnetrón en Línea

Película ITO Solar Célula Película Conductora Transparente Producción por Sputtering Magnetrón en Línea

US$ 150.000,00-500.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento por sputtering de magnetrón en línea Hcvac para pantallas de visualización recubrimiento ITO

Máquina de recubrimiento por sputtering de magnetrón en línea Hcvac para pantallas de visualización recubrimiento ITO

US$ 80.000,00-300.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

4.5
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Máquina de fabricación de vidrio conductivo ITO, tecnología de sputtering magnetrón PVD

Máquina de fabricación de vidrio conductivo ITO, tecnología de sputtering magnetrón PVD

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento de vidrio por sputtering magnetrón línea de fabricación de película ITO

Máquina de recubrimiento de vidrio por sputtering magnetrón línea de fabricación de película ITO

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
Máquinas de sputtering de vidrio conductor ITO continuo Cczk-Ion

Máquinas de sputtering de vidrio conductor ITO continuo Cczk-Ion

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
Línea de recubrimiento por sputtering automático para vidrio, línea de producción y fabricación de recubrimiento de vidrio, línea de sputtering de vidrio ITO

Línea de recubrimiento por sputtering automático para vidrio, línea de producción y fabricación de recubrimiento de vidrio, línea de sputtering de vidrio ITO

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
1/4
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