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sobre objetivos ito
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objetivos ito70+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering ITO con 99.99% Pureza

Objetivo de Sputtering ITO con 99.99% Pureza

US$ 35,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Óxido Conductivo Transparente ITO con Dimensiones Personalizables y Alta Pureza

Objetivo de Sputtering de Óxido Conductivo Transparente ITO con Dimensiones Personalizables y Alta Pureza

US$ 110,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
Disco redondo de material cerámico ITO, objetivo de óxido de indio y estaño para recubrimiento de película delgada

Disco redondo de material cerámico ITO, objetivo de óxido de indio y estaño para recubrimiento de película delgada

US$ 100,00-120,00
1 pieces(MOQ)
Objetivo PVD In2o3: Sno2 Objetivo compuesto ITO para pulverización

Objetivo PVD In2o3: Sno2 Objetivo compuesto ITO para pulverización

US$ 30,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

US$ 30,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetrón de Objetivo de Fondo Simple para Recubrimientos de ITO

Revestidor de Sputtering Magnetrón de Objetivo de Fondo Simple para Recubrimientos de ITO

US$ 19.000,00-21.000,00
1 set(MOQ)
Máquina de recubrimiento por sputtering de magnetrón de vacío de laboratorio para películas de ITO

Máquina de recubrimiento por sputtering de magnetrón de vacío de laboratorio para películas de ITO

US$ 17.850,00-18.600,00
1 set(MOQ)
Máquina de recubrimiento de magnetrón de RF de alto vacío para la deposición de película de ITO

Máquina de recubrimiento de magnetrón de RF de alto vacío para la deposición de película de ITO

US$ 18.000,00-23.000,00
1 set(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
3n, 4n, 5n Personalizado Al2O3 Objetivos de Cerámica Óxido de Aluminio para Sputtering

3n, 4n, 5n Personalizado Al2O3 Objetivos de Cerámica Óxido de Aluminio para Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Nbc Apunta a Objetivos de Sputtering de Cerámica de Carburo de Niobio

Nbc Apunta a Objetivos de Sputtering de Cerámica de Carburo de Niobio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Objetivo de Sputtering de Carburo de Titanio Cerámico de Titanio

99.9% Objetivo de Sputtering de Carburo de Titanio Cerámico de Titanio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Negociable
1 Piece(MOQ)
Objetivo de metal ITO de alta pureza 4n óxido de indio y óxido de estaño In2o3 y Sno2

Objetivo de metal ITO de alta pureza 4n óxido de indio y óxido de estaño In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de óxido de indio y estaño

Objetivo de óxido de indio y estaño

US$ 7.800,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Óxido de Indio y Estaño ITO para Sputtering al Vacío PVD Objetivo Creen

Objetivo de Óxido de Indio y Estaño ITO para Sputtering al Vacío PVD Objetivo Creen

US$ 4.600,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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Objetivo ITO para LCD, PDP, OLED, objetivo compuesto de estaño, indio y oxígeno

Objetivo ITO para LCD, PDP, OLED, objetivo compuesto de estaño, indio y oxígeno

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99.95% Blanco de Sputtering de Rutenio de Forma Especial Pura, Blanco de Ru para Recubrimiento de Sputtering de Memoria

99.95% Blanco de Sputtering de Rutenio de Forma Especial Pura, Blanco de Ru para Recubrimiento de Sputtering de Memoria

US$ 8.000,00-60.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Objetivo ITO Alto Density>99.8% Baja Densidad: 60% Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño para Panel Táctil LCD/LED

Objetivo ITO Alto Density>99.8% Baja Densidad: 60% Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño para Panel Táctil LCD/LED

US$ 340,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
PVD de alta pureza de la placa de revestimiento de vacío de ITO empalmado pegado magnetrón Sputtering Objetivos

PVD de alta pureza de la placa de revestimiento de vacío de ITO empalmado pegado magnetrón Sputtering Objetivos

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Rotación de cobre de destino de pulverización de cobre de fábrica para conductor semiconductor recubierto de metal

Rotación de cobre de destino de pulverización de cobre de fábrica para conductor semiconductor recubierto de metal

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Comercio al por mayor de Sputtering meta las fábricas de materiales para la industria de semiconductores

Comercio al por mayor de Sputtering meta las fábricas de materiales para la industria de semiconductores

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Uv Tech Material Ltd

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Objetivo de pulverización Nbox Nb2O5 Destino Sputter girar la pureza del 99,95% de la cadera pic@Uvtm Vicky-Chan destino de exportación. COM Sial Znal Znsn Nicr Azo ITO

Objetivo de pulverización Nbox Nb2O5 Destino Sputter girar la pureza del 99,95% de la cadera pic@Uvtm Vicky-Chan destino de exportación. COM Sial Znal Znsn Nicr Azo ITO

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ITO 97: 3 93:7 90 10 95: 5wt% 99,99% de la Pureza de Sputtering Retangular Rotary y la placa de referencia para el revestimiento de vacío de vidrio

ITO 97: 3 93:7 90 10 95: 5wt% 99,99% de la Pureza de Sputtering Retangular Rotary y la placa de referencia para el revestimiento de vacío de vidrio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Si se puede girar de forma cilíndrica de cátodos de destino de silicio de alta calidad Monilithic rectas y de forma Dogbone

Si se puede girar de forma cilíndrica de cátodos de destino de silicio de alta calidad Monilithic rectas y de forma Dogbone

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de recubrimiento de vidrio Msvd contenedor de carga para la exportación Vicky-Chan@Uvtm. COM

Objetivos de recubrimiento de vidrio Msvd contenedor de carga para la exportación Vicky-Chan@Uvtm. COM

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Weihai Chenyu Vacuum Technology Co., Ltd

4 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Máquina de recubrimiento de película conductora transparente de alto rendimiento con objetivo de ITO y recubrimiento de argón

Máquina de recubrimiento de película conductora transparente de alto rendimiento con objetivo de ITO y recubrimiento de argón

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización catódica a gran escala con múltiples objetivos de cátodo para recubrimiento de argón

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica a gran escala con múltiples objetivos de cátodo para recubrimiento de argón

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento tipo lote personalizable con múltiples cátodos máquina de recubrimiento de Ar

Máquina de recubrimiento tipo lote personalizable con múltiples cátodos máquina de recubrimiento de Ar

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento de lentes ópticos de precisión con tecnología de recubrimiento antirreflectante

Máquina de recubrimiento de lentes ópticos de precisión con tecnología de recubrimiento antirreflectante

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Revestidor por Sputtering Magnetrón de CC con Cavidad de Acero Inoxidable para Película de ITO

Revestidor por Sputtering Magnetrón de CC con Cavidad de Acero Inoxidable para Película de ITO

US$ 8.730,00-8.900,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización magnetrón de polvo para equipo de recubrimiento ideal

Máquina de recubrimiento por pulverización magnetrón de polvo para equipo de recubrimiento ideal

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por sputtering magnetrón multifuncional línea de producción de recubrimiento automático

Máquina de recubrimiento por sputtering magnetrón multifuncional línea de producción de recubrimiento automático

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por sputtering Magnetron, recubridor de vidrio ITO con etapa rotativa

Máquina de recubrimiento por sputtering Magnetron, recubridor de vidrio ITO con etapa rotativa

US$ 30.000,00-39.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd

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ITO (tabletas) Sputtering meta

ITO (tabletas) Sputtering meta

Negociable
5 Piezas(MOQ)
Destino DE ITO

Destino DE ITO

Negociable
5 Piezas(MOQ)

Lead Optima Element Tech Co., Ltd

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ITO destino con la placa de cobre metálico pegado

ITO destino con la placa de cobre metálico pegado

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Deyang Aijialun Vacuum Technology Co., Ltd.

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ITO Sputtering meta

ITO Sputtering meta

US$ 20,00-1.000,00
1 Set(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Taizhou ATS Optical Material Co., Ltd.

26 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de silicio pieza de polisilicio

Objetivo de silicio pieza de polisilicio

US$ 26,00-28,00
1 piece(MOQ)
Objetivo de silicio, oblea de silicio, pieza de silicio monocristalino

Objetivo de silicio, oblea de silicio, pieza de silicio monocristalino

US$ 4,00-5,00
1 piece(MOQ)
Varilla de cristal único de silicio Si

Varilla de cristal único de silicio Si

US$ 5,00-6,00
1 piece(MOQ)
Silicio Granulado para Aplicaciones en Semiconductores

Silicio Granulado para Aplicaciones en Semiconductores

US$ 97,50-100,00
1 Kg(MOQ)
1/4

UV Tech Material Co., Ltd.

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Rotary el objetivo, ITO Planar magnetrón Sputtering meta, en2o3: Destino Sno2, 90:10 ITO, Ito, 5 de 95: 97: 3 ITO

Rotary el objetivo, ITO Planar magnetrón Sputtering meta, en2o3: Destino Sno2, 90:10 ITO, Ito, 5 de 95: 97: 3 ITO

Negociable
10 Kg(MOQ)
Heterojunction destino ITO, Ito de Alta Pureza Sputtering meta para Heterojunction, 97: 3 Hjt ITO blanco

Heterojunction destino ITO, Ito de Alta Pureza Sputtering meta para Heterojunction, 97: 3 Hjt ITO blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

Negociable
1 Pieza(MOQ)

EHW APPLIED MATERIALS CO., LTD.

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La calidad de alta pureza y disco de ito de Sputtering meta para el revestimiento de vacío y la máquina

La calidad de alta pureza y disco de ito de Sputtering meta para el revestimiento de vacío y la máquina

US$ 10,00-5.000,00
30 Piezas(MOQ)
ITO de alta calidad de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (90/10)

ITO de alta calidad de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (90/10)

US$ 10,00-5.000,00
1 Pieza(MOQ)
ITO objetivo para la conductora de recubrimiento de película transparente

ITO objetivo para la conductora de recubrimiento de película transparente

US$ 10,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
La pureza y calidad ito de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (95/5)

La pureza y calidad ito de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (95/5)

US$ 10,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 4N 99.99% Objetivo de ITO de alta pureza para recubrimiento PVD

ACETRON 4N 99.99% Objetivo de ITO de alta pureza para recubrimiento PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Objetivo de sputtering ITO para recubrimiento de película conductora

ACETRON 4N 99.99% Objetivo de sputtering ITO para recubrimiento de película conductora

US$ 99,00-9.999,00
1 Pieza(MOQ)
Personalización de Muestra ACETRON Gránulos de Óxido de Indio y Estaño ITO Pellets para Recubrimiento de Película Conductora

Personalización de Muestra ACETRON Gránulos de Óxido de Indio y Estaño ITO Pellets para Recubrimiento de Película Conductora

US$ 700,00-900,00
1 Kg(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Blanco de ITO de alta pureza para recubrimiento por vacío/PVD

ACETRON 4N 99.99% Blanco de ITO de alta pureza para recubrimiento por vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ITO, ITO blanco de Sputtering Planar película de vidrio, Tp/tn/STN/TFT-LCD Meta ITO

ITO, ITO blanco de Sputtering Planar película de vidrio, Tp/tn/STN/TFT-LCD Meta ITO

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de ITO, OLED / LED / Tp destino ITO, Ito de semiconductores LED Slug

Objetivo de ITO, OLED / LED / Tp destino ITO, Ito de semiconductores LED Slug

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Tablet óptico de precisión de ITO, ITO la evaporación, la tableta de óxido Indium-Tin

Tablet óptico de precisión de ITO, ITO la evaporación, la tableta de óxido Indium-Tin

Negociable
1 Kg(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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sputtering

sputtering

US$ 18,00-20,00
1 Pieza(MOQ)
Los objetivos de sputtering

Los objetivos de sputtering

US$ 60,00
1 Pieza(MOQ)

Jiangxi He Quan Chem Co., Ltd

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El 99,99% de óxido de estaño indio ITO Sputtering meta con la placa de cobre

El 99,99% de óxido de estaño indio ITO Sputtering meta con la placa de cobre

US$ 99,00-169,00
1 Piece(MOQ)

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Jubo Guneng(Suzhou) Thin Film Materials Co., Ltd.

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5n Revestimiento de mayor pureza Sputter Target Target

5n Revestimiento de mayor pureza Sputter Target Target

US$ 1.000,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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ITO Tamaño personalizable el 99,99% de óxido de estaño indio gira ITO blanco de Sputtering cerámica

ITO Tamaño personalizable el 99,99% de óxido de estaño indio gira ITO blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd.

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Hbf52-17o Horno de alta temperatura de laboratorio para objetivo ITO y horno de sinterización de cerámica

Hbf52-17o Horno de alta temperatura de laboratorio para objetivo ITO y horno de sinterización de cerámica

US$ 500,00-23.675,00
1 Pieza(MOQ)
El Bf150-17 Horno de Campana de Alta Temperatura es Adecuado para el Proceso Integrado de Desengrase y Sinterización del Material de Objetivo ITO

El Bf150-17 Horno de Campana de Alta Temperatura es Adecuado para el Proceso Integrado de Desengrase y Sinterización del Material de Objetivo ITO

US$ 500,00-60.000,00
1 Pieza(MOQ)
El Bf125-17 modelo es adecuado para su uso en hornos de crisol para la sinterización de materiales de objetivo ITO en horno de mufla

El Bf125-17 modelo es adecuado para su uso en hornos de crisol para la sinterización de materiales de objetivo ITO en horno de mufla

US$ 400,00-52.958,00
1 SET(MOQ)
El Hbf75-17o Horno de Caja de Alta Temperatura, Ampliamente Utilizado en el Campo de la Fabricación de Materiales de Objetivo ITO

El Hbf75-17o Horno de Caja de Alta Temperatura, Ampliamente Utilizado en el Campo de la Fabricación de Materiales de Objetivo ITO

US$ 500,00-22.583,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Máquina de recubrimiento al vacío por sputtering magnetrón de vidrio conductivo ITO, sistema de sputtering PVD para recubrimiento de vidrio ITO

Máquina de recubrimiento al vacío por sputtering magnetrón de vidrio conductivo ITO, sistema de sputtering PVD para recubrimiento de vidrio ITO

US$ 2.000.000,00
1 sets(MOQ)
Sistema de Sputtering PVD de Recubrimiento de Vidrio ITO

Sistema de Sputtering PVD de Recubrimiento de Vidrio ITO

US$ 1.500.000,00-2.500.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por sputtering magnetrón de vidrio conductivo ITO

Máquina de recubrimiento por sputtering magnetrón de vidrio conductivo ITO

US$ 1.500.000,00-2.000.000,00
1 Pieza(MOQ)
Soplado de ITO (Óxido de Indio y Estaño) Soplado Continuo para Sistema de Recubrimiento Uniforme

Soplado de ITO (Óxido de Indio y Estaño) Soplado Continuo para Sistema de Recubrimiento Uniforme

US$ 2.000.000,00
1 sets(MOQ)
1/4

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Máquina de recubrimiento de vidrio por sputtering con magnetrón Hcvac, línea de fabricación de película ITO

Máquina de recubrimiento de vidrio por sputtering con magnetrón Hcvac, línea de fabricación de película ITO

US$ 150.000,00-500.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento conductivo transparente ITO por sputtering magnetrón Hcvac en línea

Máquina de recubrimiento conductivo transparente ITO por sputtering magnetrón Hcvac en línea

US$ 150.000,00-500.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento al vacío PVD en línea Hcvac para Low-E, CIGS, ITO, recubridor de película Af

Máquina de recubrimiento al vacío PVD en línea Hcvac para Low-E, CIGS, ITO, recubridor de película Af

US$ 150.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento al vacío PVD continua para película ITO película electrocrómica

Máquina de recubrimiento al vacío PVD continua para película ITO película electrocrómica

US$ 250.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Máquinas de sputtering de vidrio conductor ITO continuo Cczk-Ion

Máquinas de sputtering de vidrio conductor ITO continuo Cczk-Ion

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de fabricación de vidrio conductivo ITO, tecnología de sputtering magnetrón PVD

Máquina de fabricación de vidrio conductivo ITO, tecnología de sputtering magnetrón PVD

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento de vidrio por sputtering magnetrón línea de fabricación de película ITO

Máquina de recubrimiento de vidrio por sputtering magnetrón línea de fabricación de película ITO

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
Líneas de producción de vidrio ITO por sputtering de forma continua, máquinas de vidrio conductivo ITO, máquina de película ITO

Líneas de producción de vidrio ITO por sputtering de forma continua, máquinas de vidrio conductivo ITO, máquina de película ITO

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
1/4
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