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sobre objetivo de indio
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objetivo de indio40+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Óxido de Indio y Aluminio Cerámico para Panel Táctil LCD/LED

Objetivo de Óxido de Indio y Aluminio Cerámico para Panel Táctil LCD/LED

US$ 340,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de GeTeSnIn, objetivo de germanio, antimonio, telurio y aleación de indio para chips de memoria y circuitos integrados

Objetivo de GeTeSnIn, objetivo de germanio, antimonio, telurio y aleación de indio para chips de memoria y circuitos integrados

US$ 500,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Selenio como Germanio Indio Silicio Objetivo Cerámico de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada Óptica

Objetivo de Selenio como Germanio Indio Silicio Objetivo Cerámico de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada Óptica

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.99 Proveedor de blanco de óxido de indio y estaño puro ITO para recubrimiento PVD

99.99 Proveedor de blanco de óxido de indio y estaño puro ITO para recubrimiento PVD

US$ 50,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
99.99 Óxido de Indio Puro In2o3 Proveedor de Objetivos de Sputtering para Recubrimiento PVD

99.99 Óxido de Indio Puro In2o3 Proveedor de Objetivos de Sputtering para Recubrimiento PVD

US$ 120,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo ITO, objetivo de indio, objetivos de óxido de estaño, objetivos cerámicos para recubrimiento PVD

Objetivo ITO, objetivo de indio, objetivos de óxido de estaño, objetivos cerámicos para recubrimiento PVD

US$ 110,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Blanco de cerámica de óxido de indio y estaño ITO puro para recubrimiento PVD

99.99% Blanco de cerámica de óxido de indio y estaño ITO puro para recubrimiento PVD

US$ 35,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Cuo-In2o3 Objetivos Cerámicos Óxido de Cobre - Objetivo de Sputtering Óxido de Indio

Cuo-In2o3 Objetivos Cerámicos Óxido de Cobre - Objetivo de Sputtering Óxido de Indio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Objetivo de aleación CuIn, objetivo de sputtering de cobre e indio

99.9% Objetivo de aleación CuIn, objetivo de sputtering de cobre e indio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Objetivo de Cerámica Izo Óxido de Indio y Zinc para Sputtering

99.95% Objetivo de Cerámica Izo Óxido de Indio y Zinc para Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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Objetivo ITO para LCD, PDP, OLED, objetivo compuesto de estaño, indio y oxígeno

Objetivo ITO para LCD, PDP, OLED, objetivo compuesto de estaño, indio y oxígeno

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99.99% -99.9999% Placa de Sputtering de Titanio Ti Objetivo de Titanio para Recubrimiento al Vacío

99.99% -99.9999% Placa de Sputtering de Titanio Ti Objetivo de Titanio para Recubrimiento al Vacío

US$ 100,00-200,00
10 Piezas(MOQ)
99.99% Polvo de Bismuto, Óxido de Bismuto, Perlas de Bismuto Aguja

99.99% Polvo de Bismuto, Óxido de Bismuto, Perlas de Bismuto Aguja

US$ 20,00-100,00
1 g(MOQ)
4n-6n Polvo de bismuto, óxido de bismuto, perlas de bismuto aguja

4n-6n Polvo de bismuto, óxido de bismuto, perlas de bismuto aguja

US$ 40,00-1.000,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Indio en el servicio de unión de fábrica de dianas de pulverización

Indio en el servicio de unión de fábrica de dianas de pulverización

US$ 150,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Indio de alta calidad en blanco de pulverización para recubrimiento PVD

Indio de alta calidad en blanco de pulverización para recubrimiento PVD

US$ 150,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Valor de fabricación del precio del indio en el objetivo de pulverización en China

Valor de fabricación del precio del indio en el objetivo de pulverización en China

US$ 150,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Placa de Indio en Metal para Máquina PVD

Objetivo de Sputtering de Placa de Indio en Metal para Máquina PVD

US$ 150,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de Óxido de Indio y Estaño ITO para Sputtering al Vacío PVD Objetivo Creen

Objetivo de Óxido de Indio y Estaño ITO para Sputtering al Vacío PVD Objetivo Creen

US$ 4.600,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de óxido de indio y estaño

Objetivo de óxido de indio y estaño

US$ 7.800,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta calidad Izo Metal Target In2o3 y ZnO Indio Trióxido y Óxido de Zinc

Precio de fábrica Vender alta calidad Izo Metal Target In2o3 y ZnO Indio Trióxido y Óxido de Zinc

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Rotary indio Blanco en blanco de sputtering

Rotary indio Blanco en blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de recubrimiento de vidrio Msvd contenedor de carga para la exportación Vicky-Chan@Uvtm. COM

Objetivos de recubrimiento de vidrio Msvd contenedor de carga para la exportación Vicky-Chan@Uvtm. COM

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Fábrica Uvtm Sputtering Meta fabricante en China de 18 años para Msvd Experiece y PVD continua vacío recubrimiento sputter Vicky 13249153016 la línea de producción

Fábrica Uvtm Sputtering Meta fabricante en China de 18 años para Msvd Experiece y PVD continua vacío recubrimiento sputter Vicky 13249153016 la línea de producción

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Comercio al por mayor de Sputtering meta las fábricas de materiales para la industria de semiconductores

Comercio al por mayor de Sputtering meta las fábricas de materiales para la industria de semiconductores

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Fábrica de Guangdong puro mayorista del 99,95% de la placa de lámina de cobre de Sputtering Meta Fabricación

Fábrica de Guangdong puro mayorista del 99,95% de la placa de lámina de cobre de Sputtering Meta Fabricación

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Rotación de cobre de destino de pulverización de cobre de fábrica para conductor semiconductor recubierto de metal

Rotación de cobre de destino de pulverización de cobre de fábrica para conductor semiconductor recubierto de metal

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Material objetivo de IGZO (óxido de zinc galio-indico) de alta pureza para espumación de magnetrón PVD, recubrimiento de vacío, investigación y material experimental

Material objetivo de IGZO (óxido de zinc galio-indico) de alta pureza para espumación de magnetrón PVD, recubrimiento de vacío, investigación y material experimental

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

Alta Pureza 99.99% TANKII Metal Cromo Objetivos de Sputtering

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de cobre, objetivo de recubrimiento al vacío

Objetivo de cobre, objetivo de recubrimiento al vacío

US$ 692,00
10 Piezas(MOQ)
Mini recubridor de plasma por pulverización con bomba de vacío, objetivo de oro, 1.5" muestra máxima

Mini recubridor de plasma por pulverización con bomba de vacío, objetivo de oro, 1.5" muestra máxima

US$ 5.600,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de plasma por sputtering de un solo objetivo para películas de oro, platino, indio y plata

Revestidor de plasma por sputtering de un solo objetivo para películas de oro, platino, indio y plata

US$ 3.200,00
1 set(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma mini a precio de fábrica con cámara de vidrio de cuarzo

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma mini a precio de fábrica con cámara de vidrio de cuarzo

US$ 3.300,00-4.400,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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Objetivo Izo Izo conductiva transparente, objetivo de óxido Indium-Zinc

Objetivo Izo Izo conductiva transparente, objetivo de óxido Indium-Zinc

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Iwo Objetivo, células solares Hit Iwo Destino, destino de óxido Indium-Tungsten

Iwo Objetivo, células solares Hit Iwo Destino, destino de óxido Indium-Tungsten

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo Igzo, TFT Igzo Indium-Gallium Canal de la capa de óxido de Zinc blanco

Objetivo Igzo, TFT Igzo Indium-Gallium Canal de la capa de óxido de Zinc blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Indio, el estaño, el objetivo de Sputtering Insn

Indio, el estaño, el objetivo de Sputtering Insn

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Se puede girar de indio, Sputtering meta

Se puede girar de indio, Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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sputtering

sputtering

US$ 18,00-20,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aluminio

Objetivo de Sputtering de Aluminio

US$ 15,00
1 Pieza(MOQ)
Los objetivos de sputtering

Los objetivos de sputtering

US$ 60,00
1 Pieza(MOQ)

Tengzhou Fast Silver Trading Co., Limited.

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Izo destino Sputter de indio, el óxido de zinc para la Deposición de película fina

Izo destino Sputter de indio, el óxido de zinc para la Deposición de película fina

US$ 450,00
1 Pieza(MOQ)
Óxido conductiva transparente ito de película delgada de óxido de estaño indio destino Sputter

Óxido conductiva transparente ito de película delgada de óxido de estaño indio destino Sputter

US$ 450,00
1 Pieza(MOQ)

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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99.99% Objetivo de Sputtering de Cromo Recubrimiento de Cromo Objetivo de Cromo

99.99% Objetivo de Sputtering de Cromo Recubrimiento de Cromo Objetivo de Cromo

US$ 100,00-600,00
2 Piezas(MOQ)
1/4

Jiangxi He Quan Chem Co., Ltd

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El 99,99% de óxido de estaño indio ITO Sputtering meta con la placa de cobre

El 99,99% de óxido de estaño indio ITO Sputtering meta con la placa de cobre

US$ 99,00-169,00
1 Piece(MOQ)

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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ITO Tamaño personalizable el 99,99% de óxido de estaño indio gira ITO blanco de Sputtering cerámica

ITO Tamaño personalizable el 99,99% de óxido de estaño indio gira ITO blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Changsha Xinkang Advanced Materials Co, Ltd

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Blanco de cobre de la farfulla del indio

Blanco de cobre de la farfulla del indio

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Indium Wire Factory

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Blanco de Sputtering del indio

Blanco de Sputtering del indio

Negociable

China Material Technology Co., Ltd.

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60 mm de diámetro Cuingase Target-Copper indio, galio Selenide Target-Sputtering Objetivo (Mat-cn).

60 mm de diámetro Cuingase Target-Copper indio, galio Selenide Target-Sputtering Objetivo (Mat-cn).

Negociable
1 Pieza(MOQ)

EHW APPLIED MATERIALS CO., LTD.

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ITO objetivo para la conductora de recubrimiento de película transparente

ITO objetivo para la conductora de recubrimiento de película transparente

US$ 10,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
La calidad de alta pureza y disco de ito de Sputtering meta para el revestimiento de vacío y la máquina

La calidad de alta pureza y disco de ito de Sputtering meta para el revestimiento de vacío y la máquina

US$ 10,00-5.000,00
30 Piezas(MOQ)
ITO de alta calidad de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (90/10)

ITO de alta calidad de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (90/10)

US$ 10,00-5.000,00
1 Pieza(MOQ)
La pureza y calidad ito de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (95/5)

La pureza y calidad ito de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (95/5)

US$ 10,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Recubridor de Sputtering de Plasma de Oro, Platino, Indio y Plata con Triple Objetivo Rotatorio

Recubridor de Sputtering de Plasma de Oro, Platino, Indio y Plata con Triple Objetivo Rotatorio

US$ 8.900,00-9.100,00
1 Pieza(MOQ)
Pequeño Laboratorio 2 Objetivo Rotatorio PVD Metal Compacto Recubridor de Plasma por Sputtering para Recubrimientos de Oro, Platino, Indio y Plata

Pequeño Laboratorio 2 Objetivo Rotatorio PVD Metal Compacto Recubridor de Plasma por Sputtering para Recubrimientos de Oro, Platino, Indio y Plata

US$ 11.000,00-12.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma de oro, platino, indio y plata

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma de oro, platino, indio y plata

US$ 4.000,00-5.000,00
1 set(MOQ)
1/4

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Máquina de recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering magnetrón

Máquina de recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering magnetrón

US$ 1.500.000,00-5.000.000,00
1 Set(MOQ)
Sistema de máquina de sputtering en línea Hcvac para diapositivas de vidrio recubiertas de óxido de indio y estaño

Sistema de máquina de sputtering en línea Hcvac para diapositivas de vidrio recubiertas de óxido de indio y estaño

US$ 150.000,00-500.000,00
1 Set(MOQ)
Línea de producción de recubrimiento de óxido de indio y estaño en vidrio ITO por PVD en vacío

Línea de producción de recubrimiento de óxido de indio y estaño en vidrio ITO por PVD en vacío

US$ 1.500.000,00-5.000.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento al vacío PVD continuo por sputtering magnetrón de células solares de vidrio Hcvac

Máquina de recubrimiento al vacío PVD continuo por sputtering magnetrón de células solares de vidrio Hcvac

US$ 150.000,00-500.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Soplado de ITO (Óxido de Indio y Estaño) Soplado Continuo para Sistema de Recubrimiento Uniforme

Soplado de ITO (Óxido de Indio y Estaño) Soplado Continuo para Sistema de Recubrimiento Uniforme

US$ 2.000.000,00
1 sets(MOQ)
Recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering por magnetrón en línea de sputtering por magnetrón

Recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering por magnetrón en línea de sputtering por magnetrón

US$ 1.500.000,00-2.500.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering magnetrón

Máquina de recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering magnetrón

US$ 1.500.000,00
1 Set(MOQ)
Línea de recubrimiento por sputtering magnetrón de vidrio de óxido de indio y estaño

Línea de recubrimiento por sputtering magnetrón de vidrio de óxido de indio y estaño

US$ 800.000,00-3.000.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Hebei Flyir Technology Co., Ltd

7 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Detector de Infrarrojos de Onda Media Flyir Box 260mm× 150mm× 110mm con CE

Detector de Infrarrojos de Onda Media Flyir Box 260mm× 150mm× 110mm con CE

US$ 1.405,00-4.215,00
1 Pieza(MOQ)
Caja Aprobada por ISO Flyir 260mm× 150mm× 110mm Detector de Matriz de Plano Focal Infrarrojo

Caja Aprobada por ISO Flyir 260mm× 150mm× 110mm Detector de Matriz de Plano Focal Infrarrojo

US$ 9.830,00
1 (MOQ)
Detector IR Mwir de alta sensibilidad de rendimiento típico de China 320X256

Detector IR Mwir de alta sensibilidad de rendimiento típico de China 320X256

US$ 9.830,00
1 (MOQ)
1/2/4 Salida de un núcleo de imagen térmica MWIR de un año 320X256 Detector

1/2/4 Salida de un núcleo de imagen térmica MWIR de un año 320X256 Detector

US$ 9.830,00
1 (MOQ)
1/4

Xianxian Zhonglu Tongda Testing Instrument and Equipment Factory

10 años
·Empresa Comercial
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Instrumento de espectrometría de fluorescencia de rayos X para el análisis de composición de materiales de múltiples elementos de alta precisión

Instrumento de espectrometría de fluorescencia de rayos X para el análisis de composición de materiales de múltiples elementos de alta precisión

US$ 39.500,00-40.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de Detección de Elementos Metálicos de Aleación de Control de Calidad Industrial por Espectrometría de Fluorescencia de Rayos X

Sistema de Detección de Elementos Metálicos de Aleación de Control de Calidad Industrial por Espectrometría de Fluorescencia de Rayos X

US$ 39.500,00-40.000,00
1 Pieza(MOQ)
Plataforma de Pruebas de Composición Química de Alta Precisión del Laboratorio de Investigación Espectrómetro de Fluorescencia de Rayos X

Plataforma de Pruebas de Composición Química de Alta Precisión del Laboratorio de Investigación Espectrómetro de Fluorescencia de Rayos X

US$ 39.500,00-40.000,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de laboratorio de análisis elemental no destructivo y rápido espectrómetro de fluorescencia de rayos X

Equipo de laboratorio de análisis elemental no destructivo y rápido espectrómetro de fluorescencia de rayos X

US$ 39.500,00-40.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4
12
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