Inicioarrow-rightÍndice de Fábrica Chinaarrow-rightblanco de pulverización de indio fábricaarrow-rightlista de proveedores
Filtrar
Categoría
Más
Certificación de Gestión
Más
Capacidad de R&D
Ingresos Anuales
Número de empleados
Provincia & Región
Más
sobre blanco de pulverización de indio
  • Innovación tecnológica
  • Cadenas de suministro confiables
  • Capacidades de fabricación sustanciales

blanco de pulverización de indio30+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

Enviar Consulta
In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
En objetivo de indio para sputtering para panel LCD/táctil

En objetivo de indio para sputtering para panel LCD/táctil

US$ 340,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de CuInGaS, objetivo cerámico de cobre, indio, galio y azufre para recubrimiento de película delgada óptica

Objetivo de CuInGaS, objetivo cerámico de cobre, indio, galio y azufre para recubrimiento de película delgada óptica

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo ITO Alto Density>99.8% Baja Densidad: 60% Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño para Panel Táctil LCD/LED

Objetivo ITO Alto Density>99.8% Baja Densidad: 60% Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño para Panel Táctil LCD/LED

US$ 340,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

Enviar Consulta
99.99% Objetivo de Sputtering de Indio Puro Objetivo Redondo de Indio para Recubrimiento de Película Delgada

99.99% Objetivo de Sputtering de Indio Puro Objetivo Redondo de Indio para Recubrimiento de Película Delgada

US$ 40,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo Cerámico 99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño

Objetivo Cerámico 99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño

US$ 110,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de cerámica de cobre indio galio selenio CIGS de alta pureza

Objetivo de sputtering de cerámica de cobre indio galio selenio CIGS de alta pureza

US$ 30,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering Cerámico Personalizado ITO90/10wt% Objetivo de Óxido de Indio y Estaño

Objetivo de Sputtering Cerámico Personalizado ITO90/10wt% Objetivo de Óxido de Indio y Estaño

US$ 70,00-105,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
Enviar Consulta
Cuo-In2o3 Objetivos Cerámicos Óxido de Cobre - Objetivo de Sputtering Óxido de Indio

Cuo-In2o3 Objetivos Cerámicos Óxido de Cobre - Objetivo de Sputtering Óxido de Indio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Objetivo de Cerámica Izo Óxido de Indio y Zinc para Sputtering

99.95% Objetivo de Cerámica Izo Óxido de Indio y Zinc para Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Objetivo cerámico Igzo de óxido de indio, galio y zinc para pulverización

99.99% Objetivo cerámico Igzo de óxido de indio, galio y zinc para pulverización

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
Indio de alta calidad en blanco de pulverización para recubrimiento PVD

Indio de alta calidad en blanco de pulverización para recubrimiento PVD

US$ 150,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering Planar Indio en Metal Personalizado

Objetivo de Sputtering Planar Indio en Metal Personalizado

US$ 150,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Indio de Primera Clase en Fábrica de Objetivos de Sputtering en China

Indio de Primera Clase en Fábrica de Objetivos de Sputtering en China

US$ 150,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Indio en el servicio de unión de fábrica de dianas de pulverización

Indio en el servicio de unión de fábrica de dianas de pulverización

US$ 150,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

Enviar Consulta
Objetivo de Óxido de Indio y Estaño ITO para Sputtering al Vacío PVD Objetivo Creen

Objetivo de Óxido de Indio y Estaño ITO para Sputtering al Vacío PVD Objetivo Creen

US$ 4.600,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

Enviar Consulta
Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Fábrica de Guangdong puro mayorista del 99,95% de la placa de lámina de cobre de Sputtering Meta Fabricación

Fábrica de Guangdong puro mayorista del 99,95% de la placa de lámina de cobre de Sputtering Meta Fabricación

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Rotación de cobre de destino de pulverización de cobre de fábrica para conductor semiconductor recubierto de metal

Rotación de cobre de destino de pulverización de cobre de fábrica para conductor semiconductor recubierto de metal

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Comercio al por mayor de Sputtering meta las fábricas de materiales para la industria de semiconductores

Comercio al por mayor de Sputtering meta las fábricas de materiales para la industria de semiconductores

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Uv Tech Material Ltd

Enviar Consulta
Rotary indio Blanco en blanco de sputtering

Rotary indio Blanco en blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)
PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Se puede girar Tiox Sial Plata Sputtering meta el tubo de cátodos de alta calidad de pureza para la PVD Nano material de película delgada

Se puede girar Tiox Sial Plata Sputtering meta el tubo de cátodos de alta calidad de pureza para la PVD Nano material de película delgada

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
Enviar Consulta
Objetivo ITO para LCD, PDP, OLED, objetivo compuesto de estaño, indio y oxígeno

Objetivo ITO para LCD, PDP, OLED, objetivo compuesto de estaño, indio y oxígeno

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99.99% -99.9999% Placa de Sputtering de Titanio Ti Objetivo de Titanio para Recubrimiento al Vacío

99.99% -99.9999% Placa de Sputtering de Titanio Ti Objetivo de Titanio para Recubrimiento al Vacío

US$ 100,00-200,00
10 Piezas(MOQ)
99.99% Polvo de Bismuto, Óxido de Bismuto, Perlas de Bismuto Aguja

99.99% Polvo de Bismuto, Óxido de Bismuto, Perlas de Bismuto Aguja

US$ 20,00-100,00
1 g(MOQ)
4n-6n Polvo de bismuto, óxido de bismuto, perlas de bismuto aguja

4n-6n Polvo de bismuto, óxido de bismuto, perlas de bismuto aguja

US$ 40,00-1.000,00
1 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
Enviar Consulta
Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Negociable
1 Piece(MOQ)
Objetivo de metal ITO de alta pureza 4n óxido de indio y óxido de estaño In2o3 y Sno2

Objetivo de metal ITO de alta pureza 4n óxido de indio y óxido de estaño In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
Material objetivo de IGZO (óxido de zinc galio-indico) de alta pureza para espumación de magnetrón PVD, recubrimiento de vacío, investigación y material experimental

Material objetivo de IGZO (óxido de zinc galio-indico) de alta pureza para espumación de magnetrón PVD, recubrimiento de vacío, investigación y material experimental

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
Enviar Consulta
Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

Enviar Consulta
Iwo Objetivo, células solares Hit Iwo Destino, destino de óxido Indium-Tungsten

Iwo Objetivo, células solares Hit Iwo Destino, destino de óxido Indium-Tungsten

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo Igzo, TFT Igzo Indium-Gallium Canal de la capa de óxido de Zinc blanco

Objetivo Igzo, TFT Igzo Indium-Gallium Canal de la capa de óxido de Zinc blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ITO, ITO blanco de Sputtering Planar película de vidrio, Tp/tn/STN/TFT-LCD Meta ITO

ITO, ITO blanco de Sputtering Planar película de vidrio, Tp/tn/STN/TFT-LCD Meta ITO

Negociable
1 Pieza(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

Enviar Consulta
Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

Negociable
1 Pieza(MOQ)
La pureza en2o3 de óxido de indio en polvo, se utiliza para producir ITO Sputtering Meta, óxido de indio en trióxido de polvo2o3

La pureza en2o3 de óxido de indio en polvo, se utiliza para producir ITO Sputtering Meta, óxido de indio en trióxido de polvo2o3

Negociable
50 Kg(MOQ)
Se puede girar de indio, Sputtering meta

Se puede girar de indio, Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

Enviar Consulta
Objetivo de Sputtering de Aluminio

Objetivo de Sputtering de Aluminio

US$ 15,00
1 Pieza(MOQ)
sputtering

sputtering

US$ 18,00-20,00
1 Pieza(MOQ)
Los objetivos de sputtering

Los objetivos de sputtering

US$ 60,00
1 Pieza(MOQ)

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
99.99% Objetivo de Sputtering de Cromo Recubrimiento de Cromo Objetivo de Cromo

99.99% Objetivo de Sputtering de Cromo Recubrimiento de Cromo Objetivo de Cromo

US$ 100,00-600,00
2 Piezas(MOQ)
1/4

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

Enviar Consulta
Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Jiangxi He Quan Chem Co., Ltd

Enviar Consulta
El 99,99% de óxido de estaño indio ITO Sputtering meta con la placa de cobre

El 99,99% de óxido de estaño indio ITO Sputtering meta con la placa de cobre

US$ 99,00-169,00
1 Piece(MOQ)

Changsha Xinkang Advanced Materials Co, Ltd

Enviar Consulta
Blanco de cobre de la farfulla del indio

Blanco de cobre de la farfulla del indio

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

Enviar Consulta
ITO Tamaño personalizable el 99,99% de óxido de estaño indio gira ITO blanco de Sputtering cerámica

ITO Tamaño personalizable el 99,99% de óxido de estaño indio gira ITO blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

Enviar Consulta
De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)

China Material Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
60 mm de diámetro Cuingase Target-Copper indio, galio Selenide Target-Sputtering Objetivo (Mat-cn).

60 mm de diámetro Cuingase Target-Copper indio, galio Selenide Target-Sputtering Objetivo (Mat-cn).

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Indium Wire Factory

Enviar Consulta
Blanco de Sputtering del indio

Blanco de Sputtering del indio

Negociable

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
Mini recubridor de plasma por pulverización con bomba de vacío, objetivo de oro, 1.5" muestra máxima

Mini recubridor de plasma por pulverización con bomba de vacío, objetivo de oro, 1.5" muestra máxima

US$ 5.600,00
1 Pieza(MOQ)
Compacto Mini Escritorio Polaron Plasma Sputter Coater para Materiales Metálicos

Compacto Mini Escritorio Polaron Plasma Sputter Coater para Materiales Metálicos

US$ 4.800,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de plasma por sputtering de un solo objetivo para películas de oro, platino, indio y plata

Revestidor de plasma por sputtering de un solo objetivo para películas de oro, platino, indio y plata

US$ 3.200,00
1 set(MOQ)
Cyky-300-1HD Recubridor de Sputtering Magnetrón de Un Solo Objetivo

Cyky-300-1HD Recubridor de Sputtering Magnetrón de Un Solo Objetivo

US$ 25.000,00-26.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
Enviar Consulta
Recubridor de Sputtering de Plasma de Oro, Platino, Indio y Plata con Triple Objetivo Rotatorio

Recubridor de Sputtering de Plasma de Oro, Platino, Indio y Plata con Triple Objetivo Rotatorio

US$ 8.900,00-9.100,00
1 Pieza(MOQ)
Pequeño Laboratorio 2 Objetivo Rotatorio PVD Metal Compacto Recubridor de Plasma por Sputtering para Recubrimientos de Oro, Platino, Indio y Plata

Pequeño Laboratorio 2 Objetivo Rotatorio PVD Metal Compacto Recubridor de Plasma por Sputtering para Recubrimientos de Oro, Platino, Indio y Plata

US$ 11.000,00-12.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma de oro, platino, indio y plata

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma de oro, platino, indio y plata

US$ 4.000,00-5.000,00
1 set(MOQ)
1/4

EHW APPLIED MATERIALS CO., LTD.

Enviar Consulta
La calidad de alta pureza y disco de ito de Sputtering meta para el revestimiento de vacío y la máquina

La calidad de alta pureza y disco de ito de Sputtering meta para el revestimiento de vacío y la máquina

US$ 10,00-5.000,00
30 Piezas(MOQ)
ITO de alta calidad de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (90/10)

ITO de alta calidad de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (90/10)

US$ 10,00-5.000,00
1 Pieza(MOQ)
La pureza y calidad ito de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (95/5)

La pureza y calidad ito de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (95/5)

US$ 10,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
Máquina de recubrimiento de óxido de indio y estaño Hcvac, recubridor por sputtering magnetrón PVD

Máquina de recubrimiento de óxido de indio y estaño Hcvac, recubridor por sputtering magnetrón PVD

US$ 150.000,00-500.000,00
1 Set(MOQ)
Sistema de máquina de sputtering en línea Hcvac para diapositivas de vidrio recubiertas de óxido de indio y estaño

Sistema de máquina de sputtering en línea Hcvac para diapositivas de vidrio recubiertas de óxido de indio y estaño

US$ 150.000,00-500.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering magnetrón

Máquina de recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering magnetrón

US$ 1.500.000,00-5.000.000,00
1 Set(MOQ)
Línea de producción de recubrimiento de óxido de indio y estaño en vidrio ITO por PVD en vacío

Línea de producción de recubrimiento de óxido de indio y estaño en vidrio ITO por PVD en vacío

US$ 1.500.000,00-5.000.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
Enviar Consulta
Máquina de recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering magnetrón

Máquina de recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering magnetrón

US$ 1.500.000,00
1 Set(MOQ)
Recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering por magnetrón en línea de sputtering por magnetrón

Recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering por magnetrón en línea de sputtering por magnetrón

US$ 1.500.000,00-2.500.000,00
1 Pieza(MOQ)
Soplado de ITO (Óxido de Indio y Estaño) Soplado Continuo para Sistema de Recubrimiento Uniforme

Soplado de ITO (Óxido de Indio y Estaño) Soplado Continuo para Sistema de Recubrimiento Uniforme

US$ 2.000.000,00
1 sets(MOQ)
Línea de recubrimiento por sputtering magnetrón de vidrio de óxido de indio y estaño

Línea de recubrimiento por sputtering magnetrón de vidrio de óxido de indio y estaño

US$ 800.000,00-3.000.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Hebei Guikun Titanium Industry Co., Ltd

7 años
·Empresa Comercial
Enviar Consulta
5n 99.999% Polvo de Alúmina de Alta Pureza para Cerámica

5n 99.999% Polvo de Alúmina de Alta Pureza para Cerámica

US$ 25,00-45,00
1 Kg(MOQ)
92% Al2O3 Moldeo de bola de cerámica de alúmina para molino de bolas

92% Al2O3 Moldeo de bola de cerámica de alúmina para molino de bolas

US$ 2,50-4,50
1 Kg(MOQ)
Alúmina calcinada de alta calidad para la industria

Alúmina calcinada de alta calidad para la industria

US$ 0,80-15,00
1 Kg(MOQ)
4n Óxido de Aluminio Al2O3 99.99% Alúmina Gamma

4n Óxido de Aluminio Al2O3 99.99% Alúmina Gamma

US$ 25,00-45,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

Enviar Consulta
Sistema de Sputtering al Vacío para Cristales Recubiertos de Óxido de Indio y Estaño / Máquina de Recubrimiento al Vacío Antihuellas

Sistema de Sputtering al Vacío para Cristales Recubiertos de Óxido de Indio y Estaño / Máquina de Recubrimiento al Vacío Antihuellas

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento de óxido de indio y estaño, recubridor por sputtering magnetrón PVD

Máquina de recubrimiento de óxido de indio y estaño, recubridor por sputtering magnetrón PVD

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
Enviar Consulta
Precio competitivo de la marca TMAXCN, alta pureza en lámina de objetivo de sputtering de indio

Precio competitivo de la marca TMAXCN, alta pureza en lámina de objetivo de sputtering de indio

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
1/4
12
Sobre Nosotros Declaración Acuerdo del usuario Política de privacidad Contactar a Made-in-China.com Productos Rápidos Perspectivas
Opciones de Idioma: English 简体中文 繁體中文 日本語 Français Español Deutsch Português Italiano Русский язык 한국어 العربية Nederlands हिन्दी ภาษาไทย Türkçe Tiếng Việt Bahasa Indonesia
Copyright ©2026 Focus Technology Co., Ltd. Todos los derechos reservados.
Focus no está responsable de la diferencia entre la versión en inglés y versiones en otros idiomas del sitio web. Si hay algún conflicto, la versión en inglés prevalecerá. Su uso de este sitio web está sujeto a, y constituye el reconocimiento y la aceptación de nuestros Términos y Condiciones.