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sobre objetivo de óxido de indio
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objetivo de óxido de indio20+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
In2O3 Objetivo de cerámica de óxido de indio para sputtering para LCD/panel táctil

In2O3 Objetivo de cerámica de óxido de indio para sputtering para LCD/panel táctil

US$ 650,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo ITO Alto Density>99.8% Baja Densidad: 60% Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño para Panel Táctil LCD/LED

Objetivo ITO Alto Density>99.8% Baja Densidad: 60% Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño para Panel Táctil LCD/LED

US$ 340,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Óxido de Indio y Aluminio Cerámico para Panel Táctil LCD/LED

Objetivo de Óxido de Indio y Aluminio Cerámico para Panel Táctil LCD/LED

US$ 340,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.99 Proveedor de blanco de óxido de indio y estaño puro ITO para recubrimiento PVD

99.99 Proveedor de blanco de óxido de indio y estaño puro ITO para recubrimiento PVD

US$ 50,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos cerámicos de óxido de indio y estaño de tamaño personalizado

Objetivos cerámicos de óxido de indio y estaño de tamaño personalizado

US$ 20,00-30,00
10 Piezas(MOQ)
99.99% Blanco de cerámica de óxido de indio y estaño ITO puro para recubrimiento PVD

99.99% Blanco de cerámica de óxido de indio y estaño ITO puro para recubrimiento PVD

US$ 35,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo Cerámico 99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño

Objetivo Cerámico 99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño

US$ 110,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Cuo-In2o3 Objetivos Cerámicos Óxido de Cobre - Objetivo de Sputtering Óxido de Indio

Cuo-In2o3 Objetivos Cerámicos Óxido de Cobre - Objetivo de Sputtering Óxido de Indio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Objetivo de cerámica de ZnO, objetivo de óxido de zinc para pulverización para recubrimiento óptico

99.99% Objetivo de cerámica de ZnO, objetivo de óxido de zinc para pulverización para recubrimiento óptico

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Objetivo cerámico Igzo de óxido de indio, galio y zinc para pulverización

99.99% Objetivo cerámico Igzo de óxido de indio, galio y zinc para pulverización

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de óxido de indio y estaño

Objetivo de óxido de indio y estaño

US$ 7.800,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Óxido de Indio y Estaño ITO para Sputtering al Vacío PVD Objetivo Creen

Objetivo de Óxido de Indio y Estaño ITO para Sputtering al Vacío PVD Objetivo Creen

US$ 4.600,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Objetivo de metal ITO de alta pureza 4n óxido de indio y óxido de estaño In2o3 y Sno2

Objetivo de metal ITO de alta pureza 4n óxido de indio y óxido de estaño In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Rotación de cobre de destino de pulverización de cobre de fábrica para conductor semiconductor recubierto de metal

Rotación de cobre de destino de pulverización de cobre de fábrica para conductor semiconductor recubierto de metal

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Cobre objetivo de pulverización de múltiples arcos de placas de cobre de revestimiento PVD de fábrica Semiconductor rotativo

Cobre objetivo de pulverización de múltiples arcos de placas de cobre de revestimiento PVD de fábrica Semiconductor rotativo

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Fábrica de Guangdong puro mayorista del 99,95% de la placa de lámina de cobre de Sputtering Meta Fabricación

Fábrica de Guangdong puro mayorista del 99,95% de la placa de lámina de cobre de Sputtering Meta Fabricación

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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Objetivo de óxido de indio, en2o3 blanco

Objetivo de óxido de indio, en2o3 blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Iwo Objetivo, células solares Hit Iwo Destino, destino de óxido Indium-Tungsten

Iwo Objetivo, células solares Hit Iwo Destino, destino de óxido Indium-Tungsten

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de ITO, OLED / LED / Tp destino ITO, Ito de semiconductores LED Slug

Objetivo de ITO, OLED / LED / Tp destino ITO, Ito de semiconductores LED Slug

Negociable
1 Pieza(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

99,99% ITO objetivo 97: 3 95: 5 90: 10 Indium Tin Oxide esputtering objetivo para película conductiva

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Unión ITO placa de destino Indio Tin Oxide esputtering Target 99,99% 4n Ceramic Target.

Negociable
1 Pieza(MOQ)
La pureza en2o3 de óxido de indio en polvo, se utiliza para producir ITO Sputtering Meta, óxido de indio en trióxido de polvo2o3

La pureza en2o3 de óxido de indio en polvo, se utiliza para producir ITO Sputtering Meta, óxido de indio en trióxido de polvo2o3

Negociable
50 Kg(MOQ)
En trióxido de óxido de indio2o3 en polvo, de alta pureza del 99,99% de polvo de trióxido de indio, en2o3 Precio de polvo de óxido de indio

En trióxido de óxido de indio2o3 en polvo, de alta pureza del 99,99% de polvo de trióxido de indio, en2o3 Precio de polvo de óxido de indio

Negociable
50 Kg(MOQ)

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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Objetivo ITO para LCD, PDP, OLED, objetivo compuesto de estaño, indio y oxígeno

Objetivo ITO para LCD, PDP, OLED, objetivo compuesto de estaño, indio y oxígeno

Negociable
1 Pieza(MOQ)
99.99% Polvo de Bismuto, Óxido de Bismuto, Perlas de Bismuto Aguja

99.99% Polvo de Bismuto, Óxido de Bismuto, Perlas de Bismuto Aguja

US$ 20,00-100,00
1 g(MOQ)
4n-6n Polvo de bismuto, óxido de bismuto, perlas de bismuto aguja

4n-6n Polvo de bismuto, óxido de bismuto, perlas de bismuto aguja

US$ 40,00-1.000,00
1 Kg(MOQ)
1/4

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Los objetivos de sputtering

Los objetivos de sputtering

US$ 60,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aluminio

Objetivo de Sputtering de Aluminio

US$ 15,00
1 Pieza(MOQ)

Tengzhou Fast Silver Trading Co., Limited.

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Izo destino Sputter de indio, el óxido de zinc para la Deposición de película fina

Izo destino Sputter de indio, el óxido de zinc para la Deposición de película fina

US$ 450,00
1 Pieza(MOQ)
Óxido conductiva transparente ito de película delgada de óxido de estaño indio destino Sputter

Óxido conductiva transparente ito de película delgada de óxido de estaño indio destino Sputter

US$ 450,00
1 Pieza(MOQ)

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Jiangxi He Quan Chem Co., Ltd

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El 99,99% de óxido de estaño indio ITO Sputtering meta con la placa de cobre

El 99,99% de óxido de estaño indio ITO Sputtering meta con la placa de cobre

US$ 99,00-169,00
1 Piece(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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ITO Tamaño personalizable el 99,99% de óxido de estaño indio gira ITO blanco de Sputtering cerámica

ITO Tamaño personalizable el 99,99% de óxido de estaño indio gira ITO blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

De ITO Target / In2O3: SnO2 = 90: 10% en peso / de ITO planar Blanco de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)

EHW APPLIED MATERIALS CO., LTD.

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ITO objetivo para la conductora de recubrimiento de película transparente

ITO objetivo para la conductora de recubrimiento de película transparente

US$ 10,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
La calidad de alta pureza y disco de ito de Sputtering meta para el revestimiento de vacío y la máquina

La calidad de alta pureza y disco de ito de Sputtering meta para el revestimiento de vacío y la máquina

US$ 10,00-5.000,00
30 Piezas(MOQ)
ITO de alta calidad de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (90/10)

ITO de alta calidad de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (90/10)

US$ 10,00-5.000,00
1 Pieza(MOQ)
La pureza y calidad ito de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (95/5)

La pureza y calidad ito de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (95/5)

US$ 10,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Línea de producción de recubrimiento de óxido de indio y estaño en vidrio ITO por PVD en vacío

Línea de producción de recubrimiento de óxido de indio y estaño en vidrio ITO por PVD en vacío

US$ 1.500.000,00-5.000.000,00
1 Set(MOQ)
Sistema de máquina de sputtering en línea Hcvac para diapositivas de vidrio recubiertas de óxido de indio y estaño

Sistema de máquina de sputtering en línea Hcvac para diapositivas de vidrio recubiertas de óxido de indio y estaño

US$ 150.000,00-500.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering magnetrón

Máquina de recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering magnetrón

US$ 1.500.000,00-5.000.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento de óxido de indio y estaño Hcvac, recubridor por sputtering magnetrón PVD

Máquina de recubrimiento de óxido de indio y estaño Hcvac, recubridor por sputtering magnetrón PVD

US$ 150.000,00-500.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Soplado de ITO (Óxido de Indio y Estaño) Soplado Continuo para Sistema de Recubrimiento Uniforme

Soplado de ITO (Óxido de Indio y Estaño) Soplado Continuo para Sistema de Recubrimiento Uniforme

US$ 2.000.000,00
1 sets(MOQ)
Línea de recubrimiento por sputtering magnetrón de vidrio de óxido de indio y estaño

Línea de recubrimiento por sputtering magnetrón de vidrio de óxido de indio y estaño

US$ 800.000,00-3.000.000,00
1 Pieza(MOQ)
Recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering por magnetrón en línea de sputtering por magnetrón

Recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering por magnetrón en línea de sputtering por magnetrón

US$ 1.500.000,00-2.500.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering magnetrón

Máquina de recubrimiento de vidrio con película de óxido de indio y estaño mediante sputtering magnetrón

US$ 1.500.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Wuxi Taixie Metal Material Co., Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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Alambre de indio Disco de indio Alambre

Alambre de indio Disco de indio Alambre

US$ 375,00
100 Kg(MOQ)
Ingot de indio Barra de indio Banda de indio Bloque de indio 99.99 Alambre de indio

Ingot de indio Barra de indio Banda de indio Bloque de indio 99.99 Alambre de indio

US$ 300,00
50 Kg(MOQ)
Hoja de indio para disipación de calor, embalaje y soldadura a baja temperatura, oblea de indio de alta pureza, lámina de indio metálico, placa de indio metálico

Hoja de indio para disipación de calor, embalaje y soldadura a baja temperatura, oblea de indio de alta pureza, lámina de indio metálico, placa de indio metálico

US$ 50,00
100 Piezas(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Sistema de Sputtering al Vacío para Cristales Recubiertos de Óxido de Indio y Estaño / Máquina de Recubrimiento al Vacío Antihuellas

Sistema de Sputtering al Vacío para Cristales Recubiertos de Óxido de Indio y Estaño / Máquina de Recubrimiento al Vacío Antihuellas

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento de óxido de indio y estaño, recubridor por sputtering magnetrón PVD

Máquina de recubrimiento de óxido de indio y estaño, recubridor por sputtering magnetrón PVD

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Shanghai Epoch Material Co., Ltd.

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CAS 1312-43-2 Material Semiconductores Nano Polvo Óxido de Indio In2o3 Nanopolvo / Nanopartículas

CAS 1312-43-2 Material Semiconductores Nano Polvo Óxido de Indio In2o3 Nanopolvo / Nanopartículas

US$ 220,00-500,00
1 Kg(MOQ)
1/3

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Compacto Mini Recubridor de Plasma por Sputtering para Cromo y Óxido Negro

Compacto Mini Recubridor de Plasma por Sputtering para Cromo y Óxido Negro

US$ 4.800,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron

Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron

Negociable
1 Pieza(MOQ)

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 4N Tableta de ITO de alta pureza para recubrimiento conductor de pantallas

ACETRON 4N Tableta de ITO de alta pureza para recubrimiento conductor de pantallas

US$ 700,00-900,00
1 Kg(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Blanco redondo de ITO de alta pureza para recubrimiento conductor de pantallas de panel

ACETRON 4N 99.99% Blanco redondo de ITO de alta pureza para recubrimiento conductor de pantallas de panel

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Óxido de Indio y Estaño / ITO para recubrimiento conductor de LCD/LED/OLED

ACETRON 4N 99.99% Óxido de Indio y Estaño / ITO para recubrimiento conductor de LCD/LED/OLED

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Sputtering ITO para recubrimiento conductor de pantallas de panel

ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Sputtering ITO para recubrimiento conductor de pantallas de panel

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Granule de material ITO de óxido de estaño al 4n 99,99% de alta pureza Para revestimiento óptico

Granule de material ITO de óxido de estaño al 4n 99,99% de alta pureza Para revestimiento óptico

US$ 750,00-900,00
1 Kg(MOQ)
Granule de estaño al 99,99% de alta pureza de óxido de estaño al ITO

Granule de estaño al 99,99% de alta pureza de óxido de estaño al ITO

US$ 750,00-900,00
1 Kg(MOQ)
99,99% de material de revestimiento óptico Indium Tin Oxide ITO Tablet

99,99% de material de revestimiento óptico Indium Tin Oxide ITO Tablet

US$ 750,00-900,00
1 Kg(MOQ)
Tableta de estaño óxido de estaño al 99,99% de alta pureza ITO Sinter

Tableta de estaño óxido de estaño al 99,99% de alta pureza ITO Sinter

US$ 750,00-900,00
1 Kg(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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Tamaño grande 99,99% de ito de óxido de estaño indio Objetivo Objetivo giratorio y el pegado

Tamaño grande 99,99% de ito de óxido de estaño indio Objetivo Objetivo giratorio y el pegado

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de cerámica de alta pureza ITO, AZO, TZO, Tiox, Nbox, Gzo, Sic, ZRO2, Al2O3 de Sputtering meta

Objetivo de cerámica de alta pureza ITO, AZO, TZO, Tiox, Nbox, Gzo, Sic, ZRO2, Al2O3 de Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)
La pureza del Indio, óxido de estaño de Sputtering meta el 99,99% de cerámica de 4n objetivo ITO

La pureza del Indio, óxido de estaño de Sputtering meta el 99,99% de cerámica de 4n objetivo ITO

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/2

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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Boro de alta calidad de Sputtering meta

Boro de alta calidad de Sputtering meta

US$ 45,00
1 Pieza(MOQ)
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