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sobre objetivo de sputtering de igzo
  • Innovación tecnológica
  • Cadenas de suministro confiables
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objetivo de sputtering de igzo8 fábricas verificadas

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.99% Objetivo cerámico Igzo de óxido de indio, galio y zinc para pulverización

99.99% Objetivo cerámico Igzo de óxido de indio, galio y zinc para pulverización

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Alianzas de Ti-Cr Objetivo de Titanio Cromo Objetivo de Sputtering para Recubrimiento

99.9% Alianzas de Ti-Cr Objetivo de Titanio Cromo Objetivo de Sputtering para Recubrimiento

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro Metal Cromo Objetivos de Cátodo de Arco

99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro Metal Cromo Objetivos de Cátodo de Arco

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de metal de rutenio de alta pureza 99.99% para recubrimiento PVD

Objetivo de metal de rutenio de alta pureza 99.99% para recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Material objetivo de IGZO (óxido de zinc galio-indico) de alta pureza para espumación de magnetrón PVD, recubrimiento de vacío, investigación y material experimental

Material objetivo de IGZO (óxido de zinc galio-indico) de alta pureza para espumación de magnetrón PVD, recubrimiento de vacío, investigación y material experimental

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de Cerámica de Dióxido de Manganeso Mno2 Servicio Personalizado

Objetivo de Cerámica de Dióxido de Manganeso Mno2 Servicio Personalizado

US$ 110,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
Tamaño personalizado de alta pureza de silicio, objetivo de silicio policristalino plano para semiconductores

Tamaño personalizado de alta pureza de silicio, objetivo de silicio policristalino plano para semiconductores

US$ 30,00-3.000,00
1 pieces(MOQ)
Óxido de Lantano Estroncio Manganeso de Alta Pureza 99.99% Objetivo de Sputtering Lasrmno3

Óxido de Lantano Estroncio Manganeso de Alta Pureza 99.99% Objetivo de Sputtering Lasrmno3

US$ 110,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Óxido de Titanio de Tamaño Personalizado para Recubrimiento por Sputtering de Alta Pureza Tiox 99.9%

Objetivo de Óxido de Titanio de Tamaño Personalizado para Recubrimiento por Sputtering de Alta Pureza Tiox 99.9%

US$ 110,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta calidad Izo Metal Target In2o3 y ZnO Indio Trióxido y Óxido de Zinc

Precio de fábrica Vender alta calidad Izo Metal Target In2o3 y ZnO Indio Trióxido y Óxido de Zinc

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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sputtering

sputtering

US$ 18,00-20,00
1 Pieza(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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Objetivo Igzo, TFT Igzo Indium-Gallium Canal de la capa de óxido de Zinc blanco

Objetivo Igzo, TFT Igzo Indium-Gallium Canal de la capa de óxido de Zinc blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Línea de producción de máquina de recubrimiento al vacío PVD en línea continua para paneles solares Hcvac

Línea de producción de máquina de recubrimiento al vacío PVD en línea continua para paneles solares Hcvac

US$ 500.000,00-5.000.000,00
1 Set(MOQ)
Línea de recubrimiento por sputtering al vacío PVD en línea Hcvac, máquina de recubrimiento de vidrio ITO

Línea de recubrimiento por sputtering al vacío PVD en línea Hcvac, máquina de recubrimiento de vidrio ITO

US$ 1.500.000,00-5.000.000,00
1 Set(MOQ)
Sistema de máquina de sputtering vertical en línea Hcvac para cerámicas, obleas, polímeros, metal, vidrio

Sistema de máquina de sputtering vertical en línea Hcvac para cerámicas, obleas, polímeros, metal, vidrio

US$ 150.000,00-500.000,00
1 Set(MOQ)
Línea de producción de vidrio de baja conductividad con recubrimiento de película conductora ITO mediante sputtering de magnetrón Hcvac

Línea de producción de vidrio de baja conductividad con recubrimiento de película conductora ITO mediante sputtering de magnetrón Hcvac

US$ 150.000,00-500.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 4N 99.99% Blanco de IGZO de alta pureza para recubrimiento al vacío/recubrimiento PVD

ACETRON 4N 99.99% Blanco de IGZO de alta pureza para recubrimiento al vacío/recubrimiento PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Blanco redondo de óxido de indio, galio y zinc de alta pureza para recubrimiento en vacío/PVD

ACETRON 4N 99.99% Blanco redondo de óxido de indio, galio y zinc de alta pureza para recubrimiento en vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Blanco rotatorio de IGZO de alta pureza para recubrimiento por vacío/PVD

ACETRON 4N 99.99% Blanco rotatorio de IGZO de alta pureza para recubrimiento por vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Blanco de Sputtering IGZO de Alta Pureza para Recubrimiento en Vacío/PVD

ACETRON 4N 99.99% Blanco de Sputtering IGZO de Alta Pureza para Recubrimiento en Vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
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