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sobre objetivo de sputtering de hafnio
  • Innovación tecnológica
  • Cadenas de suministro confiables
  • Capacidades de fabricación sustanciales

objetivo de sputtering de hafnio10+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Hfo2 Materiales cerámicos de óxido de hafnio para sputtering magnetrón, opciones de tamaño disponibles

Hfo2 Materiales cerámicos de óxido de hafnio para sputtering magnetrón, opciones de tamaño disponibles

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de hafnio de alta pureza para recubrimiento al vacío

Objetivo de sputtering de hafnio de alta pureza para recubrimiento al vacío

US$ 200,00-2.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Puro Hfo2 Objetivo de Óxido de Hafnio para Sputtering Magnetrón

99.99% Puro Hfo2 Objetivo de Óxido de Hafnio para Sputtering Magnetrón

US$ 200,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Materiales Cerámicos de Óxido de Hafnio Personalizados Hfo2 Objetivo para Sputtering Magnetrónico

Materiales Cerámicos de Óxido de Hafnio Personalizados Hfo2 Objetivo para Sputtering Magnetrónico

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Material de objetivo de pulverización para recubrimiento al vacío, objetivo curvado, proceso de alta pureza, placa de hafnio

Material de objetivo de pulverización para recubrimiento al vacío, objetivo curvado, proceso de alta pureza, placa de hafnio

Negociable
2 Kg(MOQ)
Placa de objetivo de sputtering de metal hafnio de resistencia al desgaste fuerte y multifuncional al por mayor

Placa de objetivo de sputtering de metal hafnio de resistencia al desgaste fuerte y multifuncional al por mayor

Negociable
10 Kg(MOQ)
Hoja y placa de hafnio de alta precisión personalizadas de alta calidad OEM ODM

Hoja y placa de hafnio de alta precisión personalizadas de alta calidad OEM ODM

Negociable
10 Kg(MOQ)
Placa de hafnio personalizada de OEM con buena resistencia a la corrosión y alta tenacidad para recubrimiento al vacío

Placa de hafnio personalizada de OEM con buena resistencia a la corrosión y alta tenacidad para recubrimiento al vacío

Negociable
10 Kg(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.99% Objetivos de Sputtering de Carburo de Hafnio Hfc

99.99% Objetivos de Sputtering de Carburo de Hafnio Hfc

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Hf Hafnio de Alta Pureza 99.95% para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Hf Hafnio de Alta Pureza 99.95% para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Objetivo de sputtering de magnetrón de alta pureza de hafnio/Hf de la marca TMAXCN para recubrimiento al vacío

Objetivo de sputtering de magnetrón de alta pureza de hafnio/Hf de la marca TMAXCN para recubrimiento al vacío

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Revestimiento de metal de hafnio/Hf de alta pureza de la marca TMAXCN, objetivo de sputtering

Revestimiento de metal de hafnio/Hf de alta pureza de la marca TMAXCN, objetivo de sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Hafnio HF de alta pureza, objetivo de dióxido de Hafnio Hfo2, objetivo Hfzro2, objetivo de recubrimiento de vacío de magnetrón PVD

Objetivo de Hafnio HF de alta pureza, objetivo de dióxido de Hafnio Hfo2, objetivo Hfzro2, objetivo de recubrimiento de vacío de magnetrón PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Hafnio HF de alta pureza, objetivo de dióxido de Hafnio Hfo2, objetivo Hfzro2, objetivo de recubrimiento de vacío de magnetrón PVD, Tamaño personalizable

Objetivo de Hafnio HF de alta pureza, objetivo de dióxido de Hafnio Hfo2, objetivo Hfzro2, objetivo de recubrimiento de vacío de magnetrón PVD, Tamaño personalizable

Negociable
1 Pieza(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Cromo Sputtering Objetivo

Cromo Sputtering Objetivo

US$ 20,00
1 Pieza(MOQ)
Los objetivos de sputtering

Los objetivos de sputtering

US$ 60,00
1 Pieza(MOQ)

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

Alta Pureza Zr702 Zr705 Objetivo de Zirconio Conductividad Térmica Objetivo de Sputtering

US$ 0,05-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Able Target Limited

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PrAlloy que farfulla el bolso de Targetomotion (GB-0005)

PrAlloy que farfulla el bolso de Targetomotion (GB-0005)

US$ 1,00
1 Pieza(MOQ)

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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Planar de titanio de alta pureza Sputtering meta de 2n6 a 4n, 4n5, 5n

Planar de titanio de alta pureza Sputtering meta de 2n6 a 4n, 4n5, 5n

US$ 30,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
El titanio de Sputtering meta en la Pureza

El titanio de Sputtering meta en la Pureza

US$ 30,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
El hafnio Sputtering meta para la venta

El hafnio Sputtering meta para la venta

US$ 10,00
1 Pieza(MOQ)
Buen precio para el hafnio Sputtering Meta, el 99,95% de pureza

Buen precio para el hafnio Sputtering Meta, el 99,95% de pureza

US$ 10,00
1 Pieza(MOQ)

Ganzhou Wanfeng Advanced Materials Technology Co., Ltd.

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Precio del Óxido de Hafnio

Precio del Óxido de Hafnio

US$ 950,00-1.500,00
1 KG(MOQ)
1/4

Shandong Titanium Nickel Special Steel Co., Ltd

5.0
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Molybdeno puro (Mo) de alto punto de fusión aleaciones comunes de molibdeno Mo-30W, Mo-50W barra de aleación

Molybdeno puro (Mo) de alto punto de fusión aleaciones comunes de molibdeno Mo-30W, Mo-50W barra de aleación

US$ 21,00-25,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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1-3mm Hfo2 Granule sinterizado Hafnio Oxido personalizado Alta pureza 99,99% 4n

1-3mm Hfo2 Granule sinterizado Hafnio Oxido personalizado Alta pureza 99,99% 4n

US$ 700,00-900,00
1 Kg(MOQ)
Material de revestimiento óptico Hfo2% pureza 4n 99,99 Hafnio dióxido Sinter Tableta de gránulo

Material de revestimiento óptico Hfo2% pureza 4n 99,99 Hafnio dióxido Sinter Tableta de gránulo

US$ 700,00-900,00
1 Kg(MOQ)
Materiales de evaporación 4n 99,99% de alta pureza Hfo2 Hafnio Oxide granule Tableta

Materiales de evaporación 4n 99,99% de alta pureza Hfo2 Hafnio Oxide granule Tableta

US$ 700,00-900,00
1 Kg(MOQ)
Dióxido de hafnio Hfo2 Negro Gris Espanolita tableta para óptica Revestimiento

Dióxido de hafnio Hfo2 Negro Gris Espanolita tableta para óptica Revestimiento

US$ 700,00-900,00
1 Kg(MOQ)

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 3N 99.9% Objetivo de Hafnio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

ACETRON 3N 99.9% Objetivo de Hafnio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
Materiales de recubrimiento al vacío de alta pureza ACETRON Óxido de cerio CeO2 Gránulos

Materiales de recubrimiento al vacío de alta pureza ACETRON Óxido de cerio CeO2 Gránulos

US$ 10,00-2.999,00
1 Kg(MOQ)
Gránulos de Óxido de Hafnio de Alta Pureza ACETRON HfO2 Materiales de Evaporación Objetivo de Sputtering

Gránulos de Óxido de Hafnio de Alta Pureza ACETRON HfO2 Materiales de Evaporación Objetivo de Sputtering

US$ 10,00-2.999,00
1 Kg(MOQ)
Materiales de Evaporación de Alta Pureza ACETRON HfO2 Pellets de Óxido de Hafnio

Materiales de Evaporación de Alta Pureza ACETRON HfO2 Pellets de Óxido de Hafnio

US$ 10,00-2.999,00
1 Kg(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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99.95% Objetivo de Sputtering de Zirconio Puro y 705 702 Placa de Zirconio

99.95% Objetivo de Sputtering de Zirconio Puro y 705 702 Placa de Zirconio

US$ 20,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
702 Objetivo de Sputtering de Circonio con 99.95% Objetivo de Pureza Zr

702 Objetivo de Sputtering de Circonio con 99.95% Objetivo de Pureza Zr

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Óxido de hafnio Sputtering Meta, Hfo2 Meta 99, 99% (ZrO2 < 0, 5%).

Óxido de hafnio Sputtering Meta, Hfo2 Meta 99, 99% (ZrO2 < 0, 5%).

US$ 20,00
1 Kg(MOQ)
1/2
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