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sobre cu objetivo
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cu objetivo300+ fábricas verificadas

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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99.99% Pureza 4n Objetivo de Sputtering de Aleación de Cobre Níquel Cu Ni Recubrimiento PVD

99.99% Pureza 4n Objetivo de Sputtering de Aleación de Cobre Níquel Cu Ni Recubrimiento PVD

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de aleación de Cu/Ni de alta pureza personalizado fábrica de China

Objetivo de sputtering de aleación de Cu/Ni de alta pureza personalizado fábrica de China

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cobre T2 Rojo Cu Fabricación a Precio Económico

Objetivo de Sputtering de Cobre T2 Rojo Cu Fabricación a Precio Económico

US$ 100,00-500,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cobre Rojo de Alta Calidad T2 con Unión de Níquel

Objetivo de Sputtering de Cobre Rojo de Alta Calidad T2 con Unión de Níquel

US$ 100,00-500,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Material Metálico Xinkang 4n-6n Objetivo de Cobre PVD Vacío Cu Objetivo de Sputtering de Cobre

Material Metálico Xinkang 4n-6n Objetivo de Cobre PVD Vacío Cu Objetivo de Sputtering de Cobre

US$ 45,00-125,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica objetivo de cobre multi arco Cu 99.95% para recubrimiento

Precio de fábrica objetivo de cobre multi arco Cu 99.95% para recubrimiento

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
Metal Cobre T2 Rojo Cu Objetivo de Sputtering Objetivo Redondo Plano de Cobre

Metal Cobre T2 Rojo Cu Objetivo de Sputtering Objetivo Redondo Plano de Cobre

US$ 50,00-125,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering Cerámico Si3n4 con unión de Cu

Objetivo de Sputtering Cerámico Si3n4 con unión de Cu

US$ 30,00-700,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

Fábrica china de alta pureza 6n cobre (Cu) 99.9999% objetivo de sputtering

US$ 89,00-180,00
1.000 kilograms(MOQ)
C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

US$ 79,99
50 Kg(MOQ)
99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

99.9999% 6n Placas de respaldo de objetivos de sputtering de cobre de alta pureza

US$ 335,00-350,00
100 Kg(MOQ)
99.9999% Pellets de Cobre Puro 6n 3mm Cu-Ofe/C10100 para Deposición al Vacío &3D Impresión

99.9999% Pellets de Cobre Puro 6n 3mm Cu-Ofe/C10100 para Deposición al Vacío &3D Impresión

US$ 45,99-59,99
100 kilograms(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN en stock 99.99 % Alta pureza de cobre Cu objetivo de sputtering

Marca TMAXCN en stock 99.99 % Alta pureza de cobre Cu objetivo de sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de evaporación térmica manual TEM&SEM para deposición de carbono, Ag, Cu

Máquina de evaporación térmica manual TEM&SEM para deposición de carbono, Ag, Cu

US$ 6.000,00
1 Pieza(MOQ)
Sistema de Deposición por Sputtering PVD de Metal de Múltiples Modos en Glovebox 4-Target para I+D

Sistema de Deposición por Sputtering PVD de Metal de Múltiples Modos en Glovebox 4-Target para I+D

US$ 50.000,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN - VTC-3RF Opción de Sputtering Magnetrón de CC 3 Cabezas 1" Máquina de Recubrimiento por Sputtering de Plasma RF

Marca TMAXCN - VTC-3RF Opción de Sputtering Magnetrón de CC 3 Cabezas 1" Máquina de Recubrimiento por Sputtering de Plasma RF

US$ 12.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Objetivo de Sputtering de Cobre Cu Metal Cobre Objetivo Rotatorio para Sputtering Magnetrón

Objetivo de Sputtering de Cobre Cu Metal Cobre Objetivo Rotatorio para Sputtering Magnetrón

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Cr3c2 Objetivos de Sputtering de Cerámica de Carburo de Cromo

99.99% Cr3c2 Objetivos de Sputtering de Cerámica de Carburo de Cromo

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Wsi2 Objetivos de Cerámica Objetivos de Disiliciuro de Tungsteno para Sputtering

99.99% Wsi2 Objetivos de Cerámica Objetivos de Disiliciuro de Tungsteno para Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Nbc Apunta a Objetivos de Sputtering de Cerámica de Carburo de Niobio

Nbc Apunta a Objetivos de Sputtering de Cerámica de Carburo de Niobio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Geomaster Group

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Ensamblaje de Prisma Geomaster Premier (Prisma, Soporte y Objetivo) para Instrumentos de Topografía, Niveles Automáticos, Teodolitos, Estaciones Totales, Estaciones Robóticas

Ensamblaje de Prisma Geomaster Premier (Prisma, Soporte y Objetivo) para Instrumentos de Topografía, Niveles Automáticos, Teodolitos, Estaciones Totales, Estaciones Robóticas

US$ 25,00
50 Piezas(MOQ)
Ensamblaje de Prisma Geomaster Premier (Prisma, Soporte y Objetivo) para Instrumentos de Topografía, Niveles Automáticos, Teodolitos, Estaciones Totales, Estaciones Robóticas

Ensamblaje de Prisma Geomaster Premier (Prisma, Soporte y Objetivo) para Instrumentos de Topografía, Niveles Automáticos, Teodolitos, Estaciones Totales, Estaciones Robóticas

US$ 25,00
50 Piezas(MOQ)
Geomaster 64mm Prisma Recubierto de Cobre con Soporte Negro para Teodolitos, Estaciones Totales, Estaciones Robóticas, Estaciones de Escaneo, Multiestaciones

Geomaster 64mm Prisma Recubierto de Cobre con Soporte Negro para Teodolitos, Estaciones Totales, Estaciones Robóticas, Estaciones de Escaneo, Multiestaciones

US$ 45,00
50 Piezas(MOQ)
Geomaster L-Bar recubierto de cobre a prueba de agua (3"×3") Prismas mini de monitoreo (38.1mm) para instrumentos de topografía, escáneres, multistaciones, rastreadores láser

Geomaster L-Bar recubierto de cobre a prueba de agua (3"×3") Prismas mini de monitoreo (38.1mm) para instrumentos de topografía, escáneres, multistaciones, rastreadores láser

US$ 17,35
50 Piezas(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Precio de fábrica venta de objetivo de aleación de cobre de holmio

Precio de fábrica venta de objetivo de aleación de cobre de holmio

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de praseodimio granular CAS No 7440-10-0 Pr 2n5 3n

Varilla de metal de praseodimio granular CAS No 7440-10-0 Pr 2n5 3n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de terbio objetivo granular CAS No 7440-27-9 Tb 3n 4n

Varilla de metal de terbio objetivo granular CAS No 7440-27-9 Tb 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
Varilla de metal de lutecio granular con número CAS 7439-94-3 Lu 3n 4n

Varilla de metal de lutecio granular con número CAS 7439-94-3 Lu 3n 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Objetivo de pulverización de CU/objetivo rotatorio de cobre para conductor/semiconductor recubierto de metal

Objetivo de pulverización de CU/objetivo rotatorio de cobre para conductor/semiconductor recubierto de metal

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

US$ 500,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de Cobre de Alta Pureza para Sputtering al Vacío

Objetivo de Cobre de Alta Pureza para Sputtering al Vacío

US$ 2.200,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Resistencia al calor y excelente estabilidad química objetivo redondo de niobio

Resistencia al calor y excelente estabilidad química objetivo redondo de niobio

US$ 19,00
5 Piezas(MOQ)
99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

US$ 55,00
1 Pieza(MOQ)
Excelente estabilidad química y ductilidad objetivo redondo de titanio

Excelente estabilidad química y ductilidad objetivo redondo de titanio

US$ 10,00
1 pcs(MOQ)
Resistencia al calor, resistencia y tenacidad del objetivo redondo de titanio

Resistencia al calor, resistencia y tenacidad del objetivo redondo de titanio

US$ 10,00
5 Piezas(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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China Cu High Purity aleación de cobre esputante objetivo para PVD Revestimiento

China Cu High Purity aleación de cobre esputante objetivo para PVD Revestimiento

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Cobre objetivo de pulverización de múltiples arcos de placas de cobre de revestimiento PVD de fábrica Semiconductor rotativo

Cobre objetivo de pulverización de múltiples arcos de placas de cobre de revestimiento PVD de fábrica Semiconductor rotativo

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
La pureza el 99,9995% de cobre Cu Sputtering meta para el conductor Metal-Coated Semiconductor electrónica

La pureza el 99,9995% de cobre Cu Sputtering meta para el conductor Metal-Coated Semiconductor electrónica

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Rotación de cobre de destino de pulverización de cobre de fábrica para conductor semiconductor recubierto de metal

Rotación de cobre de destino de pulverización de cobre de fábrica para conductor semiconductor recubierto de metal

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

8 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Anodo Estacionario de W-Cu para Consumibles de Tubo de Rayos X

Anodo Estacionario de W-Cu para Consumibles de Tubo de Rayos X

US$ 25,00-40,00
30 Piezas(MOQ)
6mm Boquilla de Pulverización de Plasma para F4 Pistola

6mm Boquilla de Pulverización de Plasma para F4 Pistola

US$ 95,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Se puede girar destino cobre Cu Sputtering meta de película delgada de color cobre

Se puede girar destino cobre Cu Sputtering meta de película delgada de color cobre

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Cobre puro metálico (Cu) objetivo con 99,9999% de pureza, Magnetron esputtering Cobre objetivo en forma de partículas

Cobre puro metálico (Cu) objetivo con 99,9999% de pureza, Magnetron esputtering Cobre objetivo en forma de partículas

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Cobre puro metálico (Cu) objetivo con 99,9999% de pureza, Magnetron esputtering Cobre objetivo en forma de partículas, Cuinse2 objetivo

Cobre puro metálico (Cu) objetivo con 99,9999% de pureza, Magnetron esputtering Cobre objetivo en forma de partículas, Cuinse2 objetivo

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Rheniumet Ltd.

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3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

US$ 1.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Rhenio Re Redondo para la Industria de Películas Delgadas Desde China

99.99% Objetivo de Sputtering de Rhenio Re Redondo para la Industria de Películas Delgadas Desde China

US$ 200,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Rhenio de Alta Pureza en Depósito de Película Fina

Objetivo de Rhenio de Alta Pureza en Depósito de Película Fina

US$ 1.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Luoyang Modi Tungsten & Molybdenum Material Co., Ltd.

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Ta-Mo Alloy Plate Tantalum Molybdenum Sputtering Target

Ta-Mo Alloy Plate Tantalum Molybdenum Sputtering Target

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Mo1 Molybdenum Round Sputtering Target From Luoyang Factory

99.95% Mo1 Molybdenum Round Sputtering Target From Luoyang Factory

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Molybdenum Round Metal Sputtering Target

99.95% Molybdenum Round Metal Sputtering Target

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
High Purity Sputtering Target Material Molybdenum Sputtering Target

High Purity Sputtering Target Material Molybdenum Sputtering Target

US$ 57,00-72,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de metal de gadolinio de alta pureza premium para aplicaciones industriales

Objetivo de metal de gadolinio de alta pureza premium para aplicaciones industriales

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Material de objetivo de gadolinio avanzado para soluciones de recubrimiento mejoradas

Material de objetivo de gadolinio avanzado para soluciones de recubrimiento mejoradas

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Personalizar objetivo de metal de gadolinio grueso premium en venta

Personalizar objetivo de metal de gadolinio grueso premium en venta

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Gadolinium de Alta Pureza 99.9% para Aplicaciones Personalizadas

Objetivo de Sputtering de Gadolinium de Alta Pureza 99.9% para Aplicaciones Personalizadas

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

US$ 45,00
1 kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Molibdeno Pulido (99.95% puro)

Objetivo de Sputtering de Molibdeno Pulido (99.95% puro)

US$ 40,00-60,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de sputtering de molibdeno de alta pureza, disco de molibdeno

Objetivo de sputtering de molibdeno de alta pureza, disco de molibdeno

US$ 40,00
1 kg(MOQ)
1mm Hoja de Molybdeno Gruesa, Hoja de Molybdeno de Alta Pureza

1mm Hoja de Molybdeno Gruesa, Hoja de Molybdeno de Alta Pureza

US$ 30,00
1 kg(MOQ)
1/2

Zhuzhou Hongtong Tungsten Carbide Co., Ltd.

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Objetivo de ánodo rotatorio CT para tubos de rayos X consumibles hecho de molibdeno y tungsteno

Objetivo de ánodo rotatorio CT para tubos de rayos X consumibles hecho de molibdeno y tungsteno

US$ 65,00-70,00
10 Piezas(MOQ)
Anodo Estacionario para Tubo de Rayos X

Anodo Estacionario para Tubo de Rayos X

US$ 65,00-70,00
10 Piezas(MOQ)
Proporcionar productos semiterminados y terminados de objetivo de ánodo estacionario para partes de tubos de rayos X

Proporcionar productos semiterminados y terminados de objetivo de ánodo estacionario para partes de tubos de rayos X

US$ 65,00-70,00
10 Piezas(MOQ)
Suministro de fábrica de puro 99.95% lingote de metal de tantalio

Suministro de fábrica de puro 99.95% lingote de metal de tantalio

US$ 350,00-400,00
100 Kg(MOQ)
1/4

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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6n Objetivos de Sputtering de Cobre Cu de Alta Pureza

6n Objetivos de Sputtering de Cobre Cu de Alta Pureza

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
3N~6n placa de destino de pulverización de cobre Cu de alta pureza /cobre Cu Objetivo de metal

3N~6n placa de destino de pulverización de cobre Cu de alta pureza /cobre Cu Objetivo de metal

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
6n Objetivo de Sputtering de Cobre Cu de Alta Pureza Placa Plana

6n Objetivo de Sputtering de Cobre Cu de Alta Pureza Placa Plana

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Gránulos de Cobre Puro Cu Pellets de Evaporación

99.99% Gránulos de Cobre Puro Cu Pellets de Evaporación

US$ 200,00-10.000,00
1 Kg(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Cobre Cu de Alta Pureza 99.9995% para Electrónica de Cobre Ofhc

Objetivo de Sputtering de Cobre Cu de Alta Pureza 99.9995% para Electrónica de Cobre Ofhc

US$ 50,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
99.999%High Objetivo de Cobre Puro (4N-6N) Placa de Cobre Objetivo de Recubrimiento por Sputtering de Cobre

99.999%High Objetivo de Cobre Puro (4N-6N) Placa de Cobre Objetivo de Recubrimiento por Sputtering de Cobre

US$ 50,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Crisol de Cobre de Alta Pureza 99.999% para una Conductividad Térmica Óptima

Crisol de Cobre de Alta Pureza 99.999% para una Conductividad Térmica Óptima

US$ 50,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cobre Libre de Oxígeno con Recubrimiento al Vacío 99.999 Placa de Cobre de Pureza

Objetivo de Sputtering de Cobre Libre de Oxígeno con Recubrimiento al Vacío 99.999 Placa de Cobre de Pureza

US$ 50,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
1/2

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 4N 99. 99% Blanco de aleación de cobre de alta pureza para recubrimiento por vacío/PVD

ACETRON 4N 99. 99% Blanco de aleación de cobre de alta pureza para recubrimiento por vacío/PVD

US$ 99,00-9.999,00
1 Pieza(MOQ)
Material de evaporación de granulos de cobre de alta pureza ACETRON, objetivo de pulverización

Material de evaporación de granulos de cobre de alta pureza ACETRON, objetivo de pulverización

US$ 10,00-2.999,00
1 Kg(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Blanco de Cobre de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

ACETRON 4N 99.99% Blanco de Cobre de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 5N 99.999% Blanco de aleación de cobre de alta pureza para recubrimiento por vacío/PVD

ACETRON 5N 99.999% Blanco de aleación de cobre de alta pureza para recubrimiento por vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Dos pistolas hacia arriba recubridor de magnetrón por sputtering

Dos pistolas hacia arriba recubridor de magnetrón por sputtering

US$ 26.500,00
1 Pieza(MOQ)
Triple 2 Pulgada Rotativa Objetivo Vacío Plasma Recubridor para Recubrimiento de Película de Cu

Triple 2 Pulgada Rotativa Objetivo Vacío Plasma Recubridor para Recubrimiento de Película de Cu

US$ 8.500,00-9.500,00
1 Pieza(MOQ)
3 Cabezas Compactas de Escritorio 2" Recubridor de Sputtering Magnetrón

3 Cabezas Compactas de Escritorio 2" Recubridor de Sputtering Magnetrón

US$ 28.000,00-28.999,00
1 Pieza(MOQ)
2 Recubridor de Sputtering PVD de Plasma de pulgadas para investigación de películas delgadas de Au, Ag, Cu

2 Recubridor de Sputtering PVD de Plasma de pulgadas para investigación de películas delgadas de Au, Ag, Cu

US$ 4.000,00-5.000,00
1 set(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Cobre Cu Plane de esputo objetivo

Cobre Cu Plane de esputo objetivo

US$ 10,00
10 Piezas(MOQ)
OFC Cobre Cu Granule Fabricación China Alta pureza 99,999% 5n

OFC Cobre Cu Granule Fabricación China Alta pureza 99,999% 5n

US$ 100,00-200,00
1 Kg(MOQ)
Cobre de alta pureza Cu Plane de pulverización de Targtet Factory

Cobre de alta pureza Cu Plane de pulverización de Targtet Factory

US$ 10,00
10 Piezas(MOQ)
Alta pureza Cu Liner de cobre crisoles de cobre Fabricación China

Alta pureza Cu Liner de cobre crisoles de cobre Fabricación China

US$ 5,00-50,00
10 Piezas(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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Girar el cobre de alta pureza del 99,99% de Diana rocía objetivo Cu

Girar el cobre de alta pureza del 99,99% de Diana rocía objetivo Cu

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Cu Sputtering Meta, meta de cobre, la pureza del material importado, magnetrón Sputtering meta

Cu Sputtering Meta, meta de cobre, la pureza del material importado, magnetrón Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Adaptado de cobre de alta pureza de los objetivos de Sputtering Cu

Adaptado de cobre de alta pureza de los objetivos de Sputtering Cu

US$ 0,01-0,09
1 Pieza(MOQ)
Cobre Planar Sputtering meta el CD/DVD de laca de tinta

Cobre Planar Sputtering meta el CD/DVD de laca de tinta

US$ 0,01-0,09
1 Pieza(MOQ)

Hebei Zhongyi Import and Export Co., Ltd.

3 años
·Empresa Comercial
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Recubrimiento cerámico de disulfuro de tungsteno puro Ws2 para un recubrimiento de alta calidad mediante pulverización

Recubrimiento cerámico de disulfuro de tungsteno puro Ws2 para un recubrimiento de alta calidad mediante pulverización

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Disulfuro de Tungsteno de Alta Pureza Ws2 para Aplicaciones de Recubrimiento

Objetivo de Sputtering de Disulfuro de Tungsteno de Alta Pureza Ws2 para Aplicaciones de Recubrimiento

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

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Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

Objetivo Wti / Objetivos de Sputtering / Alta Calidad Wti

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4
113
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