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sobre objetivo de cobre e indio
  • Innovación tecnológica
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objetivo de cobre e indio20+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio Xinkang Cerámico 99.99% In2o3 Disco de Placa de Cobre de Unión

Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio Xinkang Cerámico 99.99% In2o3 Disco de Placa de Cobre de Unión

US$ 110,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
Personalizar objetivos planos de placa de cobre Cu con unión de indio y panel trasero de cobre

Personalizar objetivos planos de placa de cobre Cu con unión de indio y panel trasero de cobre

US$ 45,00-125,00
1 Pieza(MOQ)
In2o3 Objetivo de óxido de indio para sputtering con placa de respaldo de cobre

In2o3 Objetivo de óxido de indio para sputtering con placa de respaldo de cobre

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Placa de respaldo de cobre Ofhc para unión de objetivo de sputtering indio

Placa de respaldo de cobre Ofhc para unión de objetivo de sputtering indio

US$ 15,00-699,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.9% Objetivo de aleación CuIn, objetivo de sputtering de cobre e indio

99.9% Objetivo de aleación CuIn, objetivo de sputtering de cobre e indio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Cuo-In2o3 Objetivos Cerámicos Óxido de Cobre - Objetivo de Sputtering Óxido de Indio

Cuo-In2o3 Objetivos Cerámicos Óxido de Cobre - Objetivo de Sputtering Óxido de Indio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de sputtering de zirconio de alta pureza para recubrimiento al vacío

Objetivo de sputtering de zirconio de alta pureza para recubrimiento al vacío

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de metal de rutenio de alta pureza 99.99% para recubrimiento PVD

Objetivo de metal de rutenio de alta pureza 99.99% para recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Objetivo de CuInGaS, objetivo cerámico de cobre, indio, galio y azufre para recubrimiento de película delgada óptica

Objetivo de CuInGaS, objetivo cerámico de cobre, indio, galio y azufre para recubrimiento de película delgada óptica

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

Fábrica de Guangdong placa de cobre de óxido de estaño indio ITO Sputtering Objetivos

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Rotación de cobre de destino de pulverización de cobre de fábrica para conductor semiconductor recubierto de metal

Rotación de cobre de destino de pulverización de cobre de fábrica para conductor semiconductor recubierto de metal

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Tubo de cobre sin oxígeno de alta pureza de fábrica con pulverización pureza de material objetivo 99,98% Semiconductor

Tubo de cobre sin oxígeno de alta pureza de fábrica con pulverización pureza de material objetivo 99,98% Semiconductor

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)
Comercio al por mayor de Sputtering meta las fábricas de materiales para la industria de semiconductores

Comercio al por mayor de Sputtering meta las fábricas de materiales para la industria de semiconductores

US$ 10,00-15,00
1 Kg(MOQ)

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Fábrica Uvtm Sputtering Meta fabricante en China de 18 años para Msvd Experiece y PVD continua vacío recubrimiento sputter Vicky 13249153016 la línea de producción

Fábrica Uvtm Sputtering Meta fabricante en China de 18 años para Msvd Experiece y PVD continua vacío recubrimiento sputter Vicky 13249153016 la línea de producción

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Si se puede girar de forma cilíndrica de cátodos de destino de silicio de alta calidad Monilithic rectas y de forma Dogbone

Si se puede girar de forma cilíndrica de cátodos de destino de silicio de alta calidad Monilithic rectas y de forma Dogbone

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Uvtm blancos en la exposición de recubrimiento de Sputtering Vicky13249153016

Uvtm blancos en la exposición de recubrimiento de Sputtering Vicky13249153016

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de cobre, objetivo de recubrimiento al vacío

Objetivo de cobre, objetivo de recubrimiento al vacío

US$ 692,00
10 Piezas(MOQ)
Mini recubridor de plasma por pulverización con bomba de vacío, objetivo de oro, 1.5" muestra máxima

Mini recubridor de plasma por pulverización con bomba de vacío, objetivo de oro, 1.5" muestra máxima

US$ 5.600,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma mini a precio de fábrica con cámara de vidrio de cuarzo

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma mini a precio de fábrica con cámara de vidrio de cuarzo

US$ 3.300,00-4.400,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Jiangxi He Quan Chem Co., Ltd

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El 99,99% de óxido de estaño indio ITO Sputtering meta con la placa de cobre

El 99,99% de óxido de estaño indio ITO Sputtering meta con la placa de cobre

US$ 99,00-169,00
1 Piece(MOQ)

Changsha Xinkang Advanced Materials Co, Ltd

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Blanco de cobre de la farfulla del indio

Blanco de cobre de la farfulla del indio

Negociable
1 Pieza(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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sputtering

sputtering

US$ 18,00-20,00
1 Pieza(MOQ)

China Material Technology Co., Ltd.

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60 mm de diámetro Cuingase Target-Copper indio, galio Selenide Target-Sputtering Objetivo (Mat-cn).

60 mm de diámetro Cuingase Target-Copper indio, galio Selenide Target-Sputtering Objetivo (Mat-cn).

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Pequeño Laboratorio 2 Objetivo Rotatorio PVD Metal Compacto Recubridor de Plasma por Sputtering para Recubrimientos de Oro, Platino, Indio y Plata

Pequeño Laboratorio 2 Objetivo Rotatorio PVD Metal Compacto Recubridor de Plasma por Sputtering para Recubrimientos de Oro, Platino, Indio y Plata

US$ 11.000,00-12.000,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de Sputtering de Plasma de Oro, Platino, Indio y Plata con Triple Objetivo Rotatorio

Recubridor de Sputtering de Plasma de Oro, Platino, Indio y Plata con Triple Objetivo Rotatorio

US$ 8.900,00-9.100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xianxian Zhonglu Tongda Testing Instrument and Equipment Factory

10 años
·Empresa Comercial
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Equipo de laboratorio de análisis elemental no destructivo y rápido espectrómetro de fluorescencia de rayos X

Equipo de laboratorio de análisis elemental no destructivo y rápido espectrómetro de fluorescencia de rayos X

US$ 39.500,00-40.000,00
1 Pieza(MOQ)
Plataforma de Pruebas de Composición Química de Alta Precisión del Laboratorio de Investigación Espectrómetro de Fluorescencia de Rayos X

Plataforma de Pruebas de Composición Química de Alta Precisión del Laboratorio de Investigación Espectrómetro de Fluorescencia de Rayos X

US$ 39.500,00-40.000,00
1 Pieza(MOQ)
Dispositivo de Medición de Elementos de Tecnología de Detección Avanzada de Amplia Aplicación Espectrómetro de Fluorescencia de Rayos X

Dispositivo de Medición de Elementos de Tecnología de Detección Avanzada de Amplia Aplicación Espectrómetro de Fluorescencia de Rayos X

US$ 39.500,00-40.000,00
1 Pieza(MOQ)
Solución de análisis de elementos de muestra de matriz múltiple de respuesta rápida mediante espectrómetro de fluorescencia de rayos X

Solución de análisis de elementos de muestra de matriz múltiple de respuesta rápida mediante espectrómetro de fluorescencia de rayos X

US$ 39.500,00-40.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
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Crisol de tungsteno de ultra alta temperatura para aplicaciones de crecimiento de cristales

Crisol de tungsteno de ultra alta temperatura para aplicaciones de crecimiento de cristales

US$ 79,00-168,00
10 Kg(MOQ)
Crisol de Tungsteno de Alta Pureza (99.95%) Utilizado para el Crecimiento de Cristales de Zafiro

Crisol de Tungsteno de Alta Pureza (99.95%) Utilizado para el Crecimiento de Cristales de Zafiro

US$ 79,00-168,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Wuxi Taixie Metal Material Co., Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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Alambre de indio Disco de indio Alambre

Alambre de indio Disco de indio Alambre

US$ 375,00
100 Kg(MOQ)
Ingot de indio Barra de indio Banda de indio Bloque de indio 99.99 Alambre de indio

Ingot de indio Barra de indio Banda de indio Bloque de indio 99.99 Alambre de indio

US$ 300,00
50 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Polvo de Selenuro de Cobre Indio Galio de Alta Pureza CIGS Cu en Ga Se 99.99% -100mesh

Polvo de Selenuro de Cobre Indio Galio de Alta Pureza CIGS Cu en Ga Se 99.99% -100mesh

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

KYKY Technology Co., Ltd.

26 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Recubridor de Sputtering de Ion DC

Recubridor de Sputtering de Ion DC

Negociable
1 Set(MOQ)
1/3

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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Objetivo de recubrimiento por pulverización de aleación de aluminio y titanio, objetivo de aleación Tial, objetivo de aleación Ticr, objetivo de aleación

Objetivo de recubrimiento por pulverización de aleación de aluminio y titanio, objetivo de aleación Tial, objetivo de aleación Ticr, objetivo de aleación

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Material de recubrimiento de alta pureza del 99,99% de objetivo de plata AG

Material de recubrimiento de alta pureza del 99,99% de objetivo de plata AG

US$ 180,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
El 99,999% de plata de alta pureza Sputtering Meta 4n AG Objetivo y meta giratorios de plata

El 99,999% de plata de alta pureza Sputtering Meta 4n AG Objetivo y meta giratorios de plata

US$ 180,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
De plata de alta pureza Sputtering Meta, metas de Sputtering AG

De plata de alta pureza Sputtering Meta, metas de Sputtering AG

US$ 180,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
1/2

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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El hierro (Fe) de Sputtering meta

El hierro (Fe) de Sputtering meta

US$ 45,00
1 Pieza(MOQ)
Sputtering meta para la alta calidad Copper-Indium-galio

Sputtering meta para la alta calidad Copper-Indium-galio

Negociable
1 Pieza(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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4n ta puro blanco de Sputtering tántalo indio, el pegado en la placa de cobre

4n ta puro blanco de Sputtering tántalo indio, el pegado en la placa de cobre

Negociable
2 Piezas(MOQ)
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