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sobre objetivos de recubrimiento
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objetivos de recubrimiento1,000+ fábricas verificadas

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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SrRuO3 objetivo de estroncio Rutenato Cerámica esputante objetivo de delgado óptico Revestimiento de película

SrRuO3 objetivo de estroncio Rutenato Cerámica esputante objetivo de delgado óptico Revestimiento de película

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Selenio como Cerámica de Germanio Indio Fósforo para el Recubrimiento de Películas Ópticas mediante Sputtering

Objetivo de Selenio como Cerámica de Germanio Indio Fósforo para el Recubrimiento de Películas Ópticas mediante Sputtering

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de estaño de selenio para pulverización de cerámica para recubrimiento de película

Objetivo de estaño de selenio para pulverización de cerámica para recubrimiento de película

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Cerámica de Óxido de Lantano y Radio LaRaO para Recubrimiento de Películas Ópticas Finas

Objetivo de Cerámica de Óxido de Lantano y Radio LaRaO para Recubrimiento de Películas Ópticas Finas

US$ 140,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

US$ 55,00
1 Pieza(MOQ)
Resistencia al calor y excelente estabilidad química objetivo de titanio para recubrimiento al vacío

Resistencia al calor y excelente estabilidad química objetivo de titanio para recubrimiento al vacío

US$ 60,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Placa de objetivo de titanio de alta pureza ASTM B265 Gr1 para recubrimiento al vacío

99.99% Placa de objetivo de titanio de alta pureza ASTM B265 Gr1 para recubrimiento al vacío

US$ 10,00
3 pcs(MOQ)
Buen objetivo de tubo de níquel puro con buena conductividad térmica para recubrimiento

Buen objetivo de tubo de níquel puro con buena conductividad térmica para recubrimiento

US$ 125,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro, Objetivo de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro, Objetivo de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$ 30,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cerámica de Estañato de Bario 99.9% Basno3 Objetivos para Recubrimiento

Objetivo de Sputtering de Cerámica de Estañato de Bario 99.9% Basno3 Objetivos para Recubrimiento

US$ 110,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
Tiv (70/30wt%) Aleación de Titanio y Vanadio para Objetivo de Sputtering para Recubrimiento Personalizado

Tiv (70/30wt%) Aleación de Titanio y Vanadio para Objetivo de Sputtering para Recubrimiento Personalizado

US$ 45,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Hoja de objetivo de sputtering de zirconio de alta calidad Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

Hoja de objetivo de sputtering de zirconio de alta calidad Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de hoja de sputtering de circonio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de circonio

Objetivo de hoja de sputtering de circonio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de circonio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Tubo de objetivo de circonio Zr702 Objetivo de circonio para recubrimiento PVD

Tubo de objetivo de circonio Zr702 Objetivo de circonio para recubrimiento PVD

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Recubrimiento PVD Redondo Plano de Bismuto Bi Fábrica

Objetivo de Sputtering de Recubrimiento PVD Redondo Plano de Bismuto Bi Fábrica

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering tubular plano de Ti/W tungsteno para recubrimiento PVD a precio competitivo

Objetivo de sputtering tubular plano de Ti/W tungsteno para recubrimiento PVD a precio competitivo

US$ 300,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Recubrimiento PVD Planar Redondo de Molibdeno Mo Fábrica

Objetivo de Sputtering de Recubrimiento PVD Planar Redondo de Molibdeno Mo Fábrica

US$ 80,00-500,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Molybdeno Mo Multi-PCS Construcción 99.99% Puro China Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Molybdeno Mo Multi-PCS Construcción 99.99% Puro China Recubrimiento PVD

US$ 80,00-500,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

Venta directa de fábrica de objetivo de sputtering de cromo utilizado para preparar películas delgadas de galgas de deformación resistivas

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de sputtering de aleación de titanio de ytterbio de alta pureza para recubrimientos avanzados

Objetivo de sputtering de aleación de titanio de ytterbio de alta pureza para recubrimientos avanzados

US$ 190,00-199,00
1 Pieza(MOQ)
Disco de objetivo de sputtering de cerio personalizado premium para recubrimientos de alto rendimiento

Disco de objetivo de sputtering de cerio personalizado premium para recubrimientos de alto rendimiento

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo metálico de recubrimiento óptico de tierras raras de alta calidad para aplicaciones de precisión

Objetivo metálico de recubrimiento óptico de tierras raras de alta calidad para aplicaciones de precisión

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Yttrio de Alta Pureza para Recubrimiento Láser Avanzado

Objetivo de Sputtering de Yttrio de Alta Pureza para Recubrimiento Láser Avanzado

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de Silicio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

Objetivo de Silicio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

US$ 6.200,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de cromo de alta pureza para recubrimiento en vacío/PVD

Objetivo de cromo de alta pureza para recubrimiento en vacío/PVD

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

US$ 265.000,00
10 Piezas(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Platino de Alta Calidad para Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Platino de Alta Calidad para Recubrimiento al Vacío

US$ 160,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años
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Placa de Titanio con Agujero Curvado para Recubrimientos Ópticos Mejorados

Placa de Titanio con Agujero Curvado para Recubrimientos Ópticos Mejorados

US$ 190,00-198,00
10 Kg(MOQ)
Objetivos de sputtering de níquel resistente al desgaste para recubrimiento de sensores electrónicos automotrices

Objetivos de sputtering de níquel resistente al desgaste para recubrimiento de sensores electrónicos automotrices

US$ 120,00-140,00
50 kilograms(MOQ)
Placa de objetivo de titanio puro y aleación de titanio para recubrimientos ópticos y biomédicos

Placa de objetivo de titanio puro y aleación de titanio para recubrimientos ópticos y biomédicos

US$ 190,00-198,00
10 Kg(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel de Alta Densidad Msgp - Perfectamente Adecuados para Aplicaciones de Recubrimiento de Dispositivos Médicos

Objetivos de Sputtering de Níquel de Alta Densidad Msgp - Perfectamente Adecuados para Aplicaciones de Recubrimiento de Dispositivos Médicos

US$ 260,00-280,00
50 kilograms(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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Objetivo de rutenio de alta pureza en forma cuadrada para recubrimiento PVD, suministro de fabricante en China

Objetivo de rutenio de alta pureza en forma cuadrada para recubrimiento PVD, suministro de fabricante en China

US$ 2.000,00-30.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de metal de tantalio de alta pureza para recubrimiento de película delgada, objetivo de sputtering de titanio, rodio / rutenio

Objetivo de sputtering de metal de tantalio de alta pureza para recubrimiento de película delgada, objetivo de sputtering de titanio, rodio / rutenio

US$ 700,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Carburo de Silicio Sic 99.9% Recubrimiento por Sputtering Objetivo Cerámico

Objetivo de Carburo de Silicio Sic 99.9% Recubrimiento por Sputtering Objetivo Cerámico

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Osmio y Renio para Recubrimiento por Sputtering al Vacío

Objetivo de Sputtering de Osmio y Renio para Recubrimiento por Sputtering al Vacío

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

5 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Depósito de arco, pistola de recubrimiento por arco catódico, objetivo

Depósito de arco, pistola de recubrimiento por arco catódico, objetivo

US$ 2.500,00-2.600,00
3 sets(MOQ)
Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

US$ 6.900,00-7.000,00
2 sets(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN 99.9% Materiales de recubrimiento de alta pureza 3n Objetivo de sputtering de vanadio

Marca TMAXCN 99.9% Materiales de recubrimiento de alta pureza 3n Objetivo de sputtering de vanadio

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN 3n/4n/4n5 Materiales de recubrimiento PVD Wti Aleación de tungsteno y titanio Objetivo de sputtering

Marca TMAXCN 3n/4n/4n5 Materiales de recubrimiento PVD Wti Aleación de tungsteno y titanio Objetivo de sputtering

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Cromo Cromo/Cr Objetivo de Sputtering Magnetrón PVD para Recubrimiento al Vacío

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Cromo Cromo/Cr Objetivo de Sputtering Magnetrón PVD para Recubrimiento al Vacío

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Hierro Níquel Fe-Ni Blanco de Pulverización para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Hierro Níquel Fe-Ni Blanco de Pulverización para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.9% Objetivo de tungsteno de carburo de tungsteno para recubrimientos de DLC

99.9% Objetivo de tungsteno de carburo de tungsteno para recubrimientos de DLC

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Objetivo de cerámica de ZnO, objetivo de óxido de zinc para pulverización para recubrimiento óptico

99.99% Objetivo de cerámica de ZnO, objetivo de óxido de zinc para pulverización para recubrimiento óptico

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Objetivo de Sputtering de Aleación de Zinc y Aluminio para Recubrimiento al Vacío

99.9% Objetivo de Sputtering de Aleación de Zinc y Aluminio para Recubrimiento al Vacío

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de metal de rutenio de alta pureza 99.99% para recubrimiento PVD

Objetivo de metal de rutenio de alta pureza 99.99% para recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 años
·Empresa Comercial
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Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Material objetivo cromo para máquina de recubrimiento al vacío

Material objetivo cromo para máquina de recubrimiento al vacío

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante de máquina de recubrimiento PVD para grifos de acero inoxidable

Fabricante de máquina de recubrimiento PVD para grifos de acero inoxidable

US$ 15.000,00-150.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento al vacío PVD, maquinaria de recubrimiento al vacío PVD, equipo de recubrimiento PVD, máquina de recubrimiento PVD

Máquina de recubrimiento al vacío PVD, maquinaria de recubrimiento al vacío PVD, equipo de recubrimiento PVD, máquina de recubrimiento PVD

US$ 25.000,00-88.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Fuente de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío para el Proceso de Recubrimiento PVD

Fuente de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío para el Proceso de Recubrimiento PVD

US$ 1.800,00-2.000,00
1 set(MOQ)
Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

US$ 30,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de Plasma de Triple Objetivo de Acero Inoxidable en Polvo con 150W Fuente de Alimentación de Alta Tensión de Corriente Continua para Instrumento Quirúrgico

Recubridor de Plasma de Triple Objetivo de Acero Inoxidable en Polvo con 150W Fuente de Alimentación de Alta Tensión de Corriente Continua para Instrumento Quirúrgico

US$ 12.000,00-13.000,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de plasma de doble objetivo de escritorio para muestras de SEM y cromo

Recubridor de plasma de doble objetivo de escritorio para muestras de SEM y cromo

US$ 7.900,00-8.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

4.5
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Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio para máquina de recubrimiento al vacío por arco múltiple

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio para máquina de recubrimiento al vacío por arco múltiple

US$ 35,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 80,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

US$ 80,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

US$ 45,00
1 kg(MOQ)
Objetivo de sputtering de molibdeno de alta pureza, disco de molibdeno

Objetivo de sputtering de molibdeno de alta pureza, disco de molibdeno

US$ 40,00
1 kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Molibdeno Pulido (99.95% puro)

Objetivo de Sputtering de Molibdeno Pulido (99.95% puro)

US$ 40,00-60,00
1 Kg(MOQ)
Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
1/2

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
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Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

US$ 30,00-60,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Molybdeno de Alta Pureza para Aplicaciones Industriales Avanzadas

Objetivo de Molybdeno de Alta Pureza para Aplicaciones Industriales Avanzadas

US$ 30,00-60,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de molibdeno forjado de nanogrado para recubrimiento PVD uniforme

Objetivo de molibdeno forjado de nanogrado para recubrimiento PVD uniforme

US$ 30,00-60,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Shandong Quansheng Material Technology Group Co., LTD

3 años
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Alta Calidad 15mm Objetivo Redondo de Tantalio para Recubrimiento al Vacío

Alta Calidad 15mm Objetivo Redondo de Tantalio para Recubrimiento al Vacío

US$ 351,00-601,00
1 Kg(MOQ)
Hojas de molibdeno de alta pureza premium para recubrimiento al vacío

Hojas de molibdeno de alta pureza premium para recubrimiento al vacío

US$ 78,00-88,00
100 Kg(MOQ)
Placa de tungsteno de gran tamaño para recubrimiento al vacío y objetivos de pulverización

Placa de tungsteno de gran tamaño para recubrimiento al vacío y objetivos de pulverización

US$ 56,00-61,00
1 Kg(MOQ)
Hoja de tungsteno pulido con acabado espejo para recubrimiento de rayos X

Hoja de tungsteno pulido con acabado espejo para recubrimiento de rayos X

US$ 55,00-60,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Shanghai Rui Tai Photoelectric Technology Co., Ltd.

10 años·5.0
·Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Cuarzo Avanzado para Soluciones de Recubrimiento Óptimas

Objetivo de Sputtering de Cuarzo Avanzado para Soluciones de Recubrimiento Óptimas

US$ 3,00-5,00
100 Piezas(MOQ)
Ventanas protectoras de sílice fundida, placas de vidrio óptico, lámina óptica

Ventanas protectoras de sílice fundida, placas de vidrio óptico, lámina óptica

US$ 6,00-10,00
100 Piezas(MOQ)
Hojas de Lentes Ópticos Ultra Claras Premium para una Mayor Claridad

Hojas de Lentes Ópticos Ultra Claras Premium para una Mayor Claridad

US$ 6,00-10,00
100 Piezas(MOQ)
Filtros ópticos de vidrio, filtro óptico de banda estrecha, lente láser, filtro de banda pasante IR

Filtros ópticos de vidrio, filtro óptico de banda estrecha, lente láser, filtro de banda pasante IR

US$ 20,00-35,00
100 Piezas(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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Objetivo de Oro Puro para Recubrimiento por Sputtering al Vacío

Objetivo de Oro Puro para Recubrimiento por Sputtering al Vacío

US$ 200,00
10 g(MOQ)
Materiales de recubrimiento al vacío de alta pureza Acetron pellets de cobre

Materiales de recubrimiento al vacío de alta pureza Acetron pellets de cobre

US$ 200,00
1 g(MOQ)
0.39mm Alambre de Cobre Baño de Oro, Alambre de Oro al por mayor, Alambre de Cobre, Alambre de Oro Baño de Oro, Alambre de Cobre Baño de Oro Aleación

0.39mm Alambre de Cobre Baño de Oro, Alambre de Oro al por mayor, Alambre de Cobre, Alambre de Oro Baño de Oro, Alambre de Cobre Baño de Oro Aleación

US$ 300,00
10 g(MOQ)
0.39mm Alambre de Cobre Baño de Oro, Alambre de Oro al por mayor, Alambre de Cobre, Alambre de Oro Baño de Oro, Alambre de Cobre Baño de Oro Aleación

0.39mm Alambre de Cobre Baño de Oro, Alambre de Oro al por mayor, Alambre de Cobre, Alambre de Oro Baño de Oro, Alambre de Cobre Baño de Oro Aleación

US$ 60,00
10 g(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

US$ 500,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

US$ 35.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Tower Machinery Co., Ltd

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Sistema de objetivos de gong de acero colgante para disparo de centro de fuego Ar500

Sistema de objetivos de gong de acero colgante para disparo de centro de fuego Ar500

US$ 19,00-25,00
100 Piezas(MOQ)
Ar500 Soporte de objetivo de tiro de gong de acero con agujeros redondos

Ar500 Soporte de objetivo de tiro de gong de acero con agujeros redondos

US$ 19,00-25,00
100 Piezas(MOQ)
Sistema de soporte para objetivos de metal de acero con placas de acero para tiro de precisión

Sistema de soporte para objetivos de metal de acero con placas de acero para tiro de precisión

US$ 30,00-40,00
100 Piezas(MOQ)
Sistema de soporte para objetivos de tiro multifuncional completo de acero

Sistema de soporte para objetivos de tiro multifuncional completo de acero

US$ 30,00-40,00
100 Piezas(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de cobre, objetivo de recubrimiento al vacío

Objetivo de cobre, objetivo de recubrimiento al vacío

US$ 692,00
10 Piezas(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma de doble objetivo para película de AG Pd

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma de doble objetivo para película de AG Pd

US$ 3.000,00-5.000,00
1 set(MOQ)
Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

US$ 8.730,00-8.900,00
1 Pieza(MOQ)
Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

US$ 21.000,00-26.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
Bloques de aluminio metal para objetivo de sputtering de aluminio para investigación en laboratorio

Bloques de aluminio metal para objetivo de sputtering de aluminio para investigación en laboratorio

US$ 2.960,00
1 Tonelada(MOQ)
Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
Alambre de aluminio para objetivos rotativos de fundición, alambre de aluminio para recubrimiento al vacío

Alambre de aluminio para objetivos rotativos de fundición, alambre de aluminio para recubrimiento al vacío

US$ 2.960,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Material de objetivo de pulverización para recubrimiento al vacío, objetivo curvado, proceso de alta pureza, placa de hafnio

Material de objetivo de pulverización para recubrimiento al vacío, objetivo curvado, proceso de alta pureza, placa de hafnio

Negociable
2 Kg(MOQ)
Objetivo de la Junta de Tántalo para Proyectos Innovadores de Investigación y Desarrollo

Objetivo de la Junta de Tántalo para Proyectos Innovadores de Investigación y Desarrollo

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de tablero de tantalio para mecanizado de precisión y aplicaciones avanzadas

Objetivo de tablero de tantalio para mecanizado de precisión y aplicaciones avanzadas

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Objetivo de Sputtering de Zirconio de Alta Calidad 705 para Soluciones Personalizadas Hoy

Negociable
10 Kg(MOQ)
1/4

Zhuzhou Hongtong Tungsten Carbide Co., Ltd.

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Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Placa de Resistencia al Desgaste de Carburo de Tungsteno

Placa de Resistencia al Desgaste de Carburo de Tungsteno

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Carburo de tungsteno para 200X200mm placa en blanco

Carburo de tungsteno para 200X200mm placa en blanco

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Carburo de tungsteno para varios tamaños y formas de placas en blanco

Carburo de tungsteno para varios tamaños y formas de placas en blanco

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

US$ 79,99
50 Kg(MOQ)
Personalizado 2mm/3mm/5mm Alta Pureza 6n Pellets de Cobre Materiales de Evaporación

Personalizado 2mm/3mm/5mm Alta Pureza 6n Pellets de Cobre Materiales de Evaporación

US$ 35,00-67,00
100 kilograms(MOQ)
99.9999% Pellets de Cobre Puro 6n 3mm Cu-Ofe/C10100 para Deposición al Vacío &3D Impresión

99.9999% Pellets de Cobre Puro 6n 3mm Cu-Ofe/C10100 para Deposición al Vacío &3D Impresión

US$ 45,99-59,99
100 kilograms(MOQ)
C10100 Alta Pureza 4n 6n 7n 99.99999% Placa de Cobre Puro Placa de Cobre Electrolítico OFC

C10100 Alta Pureza 4n 6n 7n 99.99999% Placa de Cobre Puro Placa de Cobre Electrolítico OFC

US$ 35,00-67,00
100 kilograms(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Recubrimiento de Película Delgada PVD

Objetivo de Sputtering de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Recubrimiento de Película Delgada PVD

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento óptico consumibles Bn nitruro de boro barco de evaporación cerámico

Equipo de recubrimiento óptico consumibles Bn nitruro de boro barco de evaporación cerámico

US$ 5,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
Bote y crisol de cerámica de nitruro de boro para recubrimiento por evaporación

Bote y crisol de cerámica de nitruro de boro para recubrimiento por evaporación

US$ 5,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
1/4
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