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sobre objetivos de recubrimiento
  • Innovación tecnológica
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  • Capacidades de fabricación sustanciales

objetivos de recubrimiento1,000+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro, Objetivo de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro, Objetivo de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$ 30,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

US$ 35,00-40,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Tungsteno Titanio Wti para Recubrimiento PVD

99.99% Objetivo de Sputtering de Tungsteno Titanio Wti para Recubrimiento PVD

US$ 100,00-2.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo Planar de Aluminio de Alta Pureza Xinkang 99.9995% para Aplicaciones de Recubrimiento al Vacío

Objetivo Planar de Aluminio de Alta Pureza Xinkang 99.9995% para Aplicaciones de Recubrimiento al Vacío

US$ 55,00-135,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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SrRuO3 objetivo de estroncio Rutenato Cerámica esputante objetivo de delgado óptico Revestimiento de película

SrRuO3 objetivo de estroncio Rutenato Cerámica esputante objetivo de delgado óptico Revestimiento de película

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Germanio Antimonio Selenio Fósforo para recubrimiento óptico de película delgada

Objetivo de Germanio Antimonio Selenio Fósforo para recubrimiento óptico de película delgada

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de AsSeTe como objetivo de sputtering de selenio y telurio cerámico para recubrimiento de película delgada óptica

Objetivo de AsSeTe como objetivo de sputtering de selenio y telurio cerámico para recubrimiento de película delgada óptica

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de cerámica de telurio y selenio TeSe para recubrimiento de película delgada óptica

Objetivo de cerámica de telurio y selenio TeSe para recubrimiento de película delgada óptica

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

99.9% Objetivo de recubrimiento al vacío de níquel, cromo y aluminio para el proceso PVD, objetivo de cromo y tantalio

US$ 55,00
1 Pieza(MOQ)
Venta caliente Alta dureza Nueva placa de Zirconio de recubrimiento de vacío objetivo Para uso industrial

Venta caliente Alta dureza Nueva placa de Zirconio de recubrimiento de vacío objetivo Para uso industrial

US$ 69,00
1 Pieza(MOQ)
Resistencia al calor y excelente estabilidad química objetivo de titanio para recubrimiento al vacío

Resistencia al calor y excelente estabilidad química objetivo de titanio para recubrimiento al vacío

US$ 60,00
1 Pieza(MOQ)
Tubo de cromo resistente a la corrosión de color blanco plateado para recubrimiento al vacío

Tubo de cromo resistente a la corrosión de color blanco plateado para recubrimiento al vacío

US$ 30,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Hoja de objetivo de sputtering de zirconio de alta calidad Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

Hoja de objetivo de sputtering de zirconio de alta calidad Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

Hoja de objetivo de zirconio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de zirconio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

Objetivo de Sputtering de Titanio Ti / Objetivo Rotatorio de Titanio para Semiconductores / Sputtering de Recubrimiento al Vacío

US$ 1,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de hoja de sputtering de circonio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de circonio

Objetivo de hoja de sputtering de circonio Zr702 Zr705 para recubrimiento PVD disco de circonio

US$ 1,00-3.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

Tipo de recubrimiento PVD más popular, uso de objetivo de sputtering de cromo tipo placa

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

Fabricante personalizado de bajo precio, metal de cromo puro de alta pureza, objetivo de sputtering de Cr para recubrimiento PVD

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica Vender 99.999% Objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

Precio de fábrica 99.999% objetivo de sputtering de cromo

US$ 60,00-150,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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4n 99.99% Objetivo de Sputtering de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

4n 99.99% Objetivo de Sputtering de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$ 50,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Aleación de Construcción Multi-PCS de Níquel Cromo 99.99% Recubrimiento PVD de China Puro

Objetivo de Sputtering de Aleación de Construcción Multi-PCS de Níquel Cromo 99.99% Recubrimiento PVD de China Puro

US$ 80,00-800,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Recubrimiento PVD Planar Redondo de Aluminio Al Fábrica

Objetivo de Sputtering de Recubrimiento PVD Planar Redondo de Aluminio Al Fábrica

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de aleación de recubrimiento PVD plano redondo de titanio y aluminio Tial fábrica

Objetivo de pulverización de aleación de recubrimiento PVD plano redondo de titanio y aluminio Tial fábrica

US$ 80,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Depósito de arco, pistola de recubrimiento por arco catódico, objetivo

Depósito de arco, pistola de recubrimiento por arco catódico, objetivo

US$ 2.500,00-2.600,00
3 sets(MOQ)
Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

Objetivo de magnetrón cilíndrico para recubrimiento PVD en vacío de tubos de titanio, materiales en bruto para recubrimiento, cátodos

US$ 800,00-1.500,00
1 Pieza(MOQ)
Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

Bloque de titanio de alta pureza personalizado, material de titanio, material de recubrimiento por ionización multi-arco, objetivo metálico

US$ 500,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

US$ 6.900,00-7.000,00
2 sets(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Objetivo de sputtering de magnetrón de alta pureza de hafnio/Hf de la marca TMAXCN para recubrimiento al vacío

Objetivo de sputtering de magnetrón de alta pureza de hafnio/Hf de la marca TMAXCN para recubrimiento al vacío

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN 99.5% Objetivo de cerámica de carburo de silicio para pulverización para recubrimiento

Marca TMAXCN 99.5% Objetivo de cerámica de carburo de silicio para pulverización para recubrimiento

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 3n5 Blanco de Cromo/Cr Objetivo de Sputtering para Recubrimiento PVD

Marca TMAXCN Alta Pureza 3n5 Blanco de Cromo/Cr Objetivo de Sputtering para Recubrimiento PVD

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Hierro Níquel Fe-Ni Blanco de Pulverización para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

Marca TMAXCN Alta Pureza 99.95% Hierro Níquel Fe-Ni Blanco de Pulverización para Recubrimiento de Película Delgada de Metal

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

Objetivos de PVD de aleación de aluminio y titanio, objetivos de sputtering de titanio, objetivo de aleación de Tial para recubrimiento

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

Personalización de objetivo de sputtering de titanio para necesidades de recubrimiento especializadas

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

Objetivo de Titanio de Alta Pureza 99.99% para Máquina de Recubrimiento por Vacío / PVD

US$ 10,00-25,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.9% Objetivo de Sputtering de Aleación de Zinc y Aluminio para Recubrimiento al Vacío

99.9% Objetivo de Sputtering de Aleación de Zinc y Aluminio para Recubrimiento al Vacío

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Óxido de Indio y Estaño (ITO) de Alta Pureza 99.99% para Recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.95% Objetivos de Sputtering de Tantalio Puro para Recubrimiento de Películas Delgadas

99.95% Objetivos de Sputtering de Tantalio Puro para Recubrimiento de Películas Delgadas

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Silicuro de Titanio de Alta Pureza Tisi2 Recubrimiento por Sputtering

Objetivos de Sputtering de Silicuro de Titanio de Alta Pureza Tisi2 Recubrimiento por Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 años·5.0
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Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

Objetivo de Sputtering de Cromo en Forma de Rectángulo con Maquinado de Agujeros para Recubrimiento Metálico de Precisión

US$ 99,00-180,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Níquel de Alta Densidad Msgp - Perfectamente Adecuados para Aplicaciones de Recubrimiento de Dispositivos Médicos

Objetivos de Sputtering de Níquel de Alta Densidad Msgp - Perfectamente Adecuados para Aplicaciones de Recubrimiento de Dispositivos Médicos

US$ 260,00-280,00
50 kilograms(MOQ)
Objetivos de sputtering de níquel resistente al desgaste para recubrimiento de sensores electrónicos automotrices

Objetivos de sputtering de níquel resistente al desgaste para recubrimiento de sensores electrónicos automotrices

US$ 120,00-140,00
50 kilograms(MOQ)
Placa de Titanio con Agujero Curvado para Recubrimientos Ópticos Mejorados

Placa de Titanio con Agujero Curvado para Recubrimientos Ópticos Mejorados

US$ 190,00-198,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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4n Objetivo de Sputtering de Wolframio, 99.99% Objetivo de Tungsteno para Recubrimiento por Sputtering

4n Objetivo de Sputtering de Wolframio, 99.99% Objetivo de Tungsteno para Recubrimiento por Sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Rutenio, Objetivo de Ru para Recubrimiento de Memoria por Sputtering

Objetivo de Sputtering de Rutenio, Objetivo de Ru para Recubrimiento de Memoria por Sputtering

US$ 8.000,00-60.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.999%, Redondo, Escalonado, Objetivo Irregular o Recubrimiento de Película Delgada

Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Pureza 99.999%, Redondo, Escalonado, Objetivo Irregular o Recubrimiento de Película Delgada

Negociable
10 Piezas(MOQ)
Objetivo de cromo 99.95%Min objetivo de Cr para recubrimiento por pulverización en semiconductores

Objetivo de cromo 99.95%Min objetivo de Cr para recubrimiento por pulverización en semiconductores

US$ 1.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de Silicio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

Objetivo de Silicio de Alta Pureza para Recubrimiento por Vacío/PVD

US$ 6.200,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de cromo de alta pureza para recubrimiento en vacío/PVD

Objetivo de cromo de alta pureza para recubrimiento en vacío/PVD

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

99.99% Blanco de Sputtering de Aleación de Estaño de Oro de Alta Pureza

US$ 265.000,00
10 Piezas(MOQ)
Objetivo de recubrimiento PVD de plata y cobre, objetivo plano redondo

Objetivo de recubrimiento PVD de plata y cobre, objetivo plano redondo

US$ 12.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shandong Quansheng Material Technology Group Co., LTD

3 años
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Alta Calidad 15mm Objetivo Redondo de Tantalio para Recubrimiento al Vacío

Alta Calidad 15mm Objetivo Redondo de Tantalio para Recubrimiento al Vacío

US$ 351,00-601,00
5 Kg(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Tungsteno Superior para Aplicaciones Avanzadas de Recubrimiento

Objetivos de Sputtering de Tungsteno Superior para Aplicaciones Avanzadas de Recubrimiento

US$ 56,00-61,00
5 Kg(MOQ)
Hoja de tungsteno pulido con acabado espejo para recubrimiento de rayos X

Hoja de tungsteno pulido con acabado espejo para recubrimiento de rayos X

US$ 55,00-60,00
1 Kg(MOQ)
Hojas de Molybdeno de Alta Pureza para Recubrimiento al Vacío Avanzado

Hojas de Molybdeno de Alta Pureza para Recubrimiento al Vacío Avanzado

US$ 78,00-88,00
100 Kg(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

Recubrimiento al vacío de objetivo de titanio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante Proveedor de Objetivos de Titanio

Fabricante Proveedor de Objetivos de Titanio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante de máquina de recubrimiento PVD para grifos de acero inoxidable

Fabricante de máquina de recubrimiento PVD para grifos de acero inoxidable

US$ 15.000,00-150.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento PVD horizontal de mejor precio de China, equipo de recubrimiento, línea de recubrimiento para pulseras

Máquina de recubrimiento PVD horizontal de mejor precio de China, equipo de recubrimiento, línea de recubrimiento para pulseras

US$ 23.000,00-89.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Fuente de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío para el Proceso de Recubrimiento PVD

Fuente de Sputtering Magnetrón de Alto Vacío para el Proceso de Recubrimiento PVD

US$ 1.800,00-2.000,00
1 set(MOQ)
Recubridor de Plasma de Triple Objetivo de Acero Inoxidable en Polvo con 150W Fuente de Alimentación de Alta Tensión de Corriente Continua para Instrumento Quirúrgico

Recubridor de Plasma de Triple Objetivo de Acero Inoxidable en Polvo con 150W Fuente de Alimentación de Alta Tensión de Corriente Continua para Instrumento Quirúrgico

US$ 12.000,00-13.000,00
1 Pieza(MOQ)
Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

Al, objetivo de sputtering de Cr para evaporación térmica y máquina de sputtering magnetrón

US$ 30,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Recubridor de plasma de doble objetivo de escritorio para muestras de SEM y cromo

Recubridor de plasma de doble objetivo de escritorio para muestras de SEM y cromo

US$ 7.900,00-8.500,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

US$ 80,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Titanio Puro Mejor Precio Gr2 Objetivo de Titanio para Sputtering al Vacío Recubrimiento con Objetivo de Titanio

Objetivo de Titanio Puro Mejor Precio Gr2 Objetivo de Titanio para Sputtering al Vacío Recubrimiento con Objetivo de Titanio

US$ 100,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio para máquina de recubrimiento al vacío por arco múltiple

Objetivo de titanio por sputtering, objetivo de sputtering de titanio, recubrimiento al vacío, objetivo de titanio para máquina de recubrimiento al vacío por arco múltiple

US$ 35,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

Objetivo de molibdeno para recubrimiento por pulverización al vacío

US$ 45,00
1 kg(MOQ)
Objetivo de sputtering de molibdeno de alta pureza, disco de molibdeno

Objetivo de sputtering de molibdeno de alta pureza, disco de molibdeno

US$ 40,00
1 kg(MOQ)
Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Placa de molibdeno de alta calidad

Placa de molibdeno de alta calidad

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
1/2

Shanghai Rui Tai Photoelectric Technology Co., Ltd.

10 años·5.0
·Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Cuarzo Avanzado para Soluciones de Recubrimiento Óptimas

Objetivo de Sputtering de Cuarzo Avanzado para Soluciones de Recubrimiento Óptimas

US$ 3,00-5,00
100 Piezas(MOQ)
Ventanas protectoras de sílice fundida, placas de vidrio óptico, lámina óptica

Ventanas protectoras de sílice fundida, placas de vidrio óptico, lámina óptica

US$ 6,00-10,00
100 Piezas(MOQ)
Filtro de agua de gravedad premium para una purificación y claridad superiores

Filtro de agua de gravedad premium para una purificación y claridad superiores

US$ 7.000,00
1 Pieza(MOQ)
Hojas de Lentes Ópticos Ultra Claras Premium para una Mayor Claridad

Hojas de Lentes Ópticos Ultra Claras Premium para una Mayor Claridad

US$ 6,00-10,00
100 Piezas(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Empresa Comercial
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Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

Objetivo de Molybdeno Puro Ultra Denso 99.9% 100mm Diámetro Recubrimiento de Película Delgada Opcional RoHS

US$ 30,00-60,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de Molybdeno de Alta Pureza para Aplicaciones Industriales Avanzadas

Objetivo de Molybdeno de Alta Pureza para Aplicaciones Industriales Avanzadas

US$ 30,00-60,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

Objetivo de tungsteno rotativo premium para aplicaciones de sputtering eficientes

US$ 50,00-270,00
10 Kg(MOQ)
Objetivo de sputtering de molibdeno personalizable con alta densidad para aplicaciones de recubrimiento de semiconductores y vidrio

Objetivo de sputtering de molibdeno personalizable con alta densidad para aplicaciones de recubrimiento de semiconductores y vidrio

US$ 30,00-80,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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Objetivo de Oro Puro para Recubrimiento por Sputtering al Vacío

Objetivo de Oro Puro para Recubrimiento por Sputtering al Vacío

US$ 200,00
10 g(MOQ)
Materiales de recubrimiento al vacío de alta pureza Acetron pellets de cobre

Materiales de recubrimiento al vacío de alta pureza Acetron pellets de cobre

US$ 200,00
1 g(MOQ)
0.39mm Alambre de Cobre Baño de Oro, Alambre de Oro al por mayor, Alambre de Cobre, Alambre de Oro Baño de Oro, Alambre de Cobre Baño de Oro Aleación

0.39mm Alambre de Cobre Baño de Oro, Alambre de Oro al por mayor, Alambre de Cobre, Alambre de Oro Baño de Oro, Alambre de Cobre Baño de Oro Aleación

US$ 300,00
10 g(MOQ)
0.39mm Material de alambre de cobre chapado en oro, alambre base, venta al por mayor de alambre de oro, alambre de cobre, material de alambre de oro chapado, aleación de alambre de cobre chapado en oro

0.39mm Material de alambre de cobre chapado en oro, alambre base, venta al por mayor de alambre de oro, alambre de cobre, material de alambre de oro chapado, aleación de alambre de cobre chapado en oro

US$ 300,00
10 g(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Objetivo de Sputtering Magnetrón Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

US$ 500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

Objetivo de Sputtering Rotatorio 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

US$ 1.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

99.99% Objetivo de Sputtering de Óxido de Galio Objetivo Plano Ga2o3 Objetivo

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

US$ 35.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Tower Machinery Co., Ltd

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Sistema de objetivos de gong de acero colgante para disparo de centro de fuego Ar500

Sistema de objetivos de gong de acero colgante para disparo de centro de fuego Ar500

US$ 19,00-25,00
100 Piezas(MOQ)
Ar500 Soporte de objetivo de tiro de gong de acero con agujeros redondos

Ar500 Soporte de objetivo de tiro de gong de acero con agujeros redondos

US$ 19,00-25,00
100 Piezas(MOQ)
Sistema de soporte para objetivos de tiro multifuncional completo de acero

Sistema de soporte para objetivos de tiro multifuncional completo de acero

US$ 30,00-40,00
100 Piezas(MOQ)
Sistema de soporte para objetivos de acero, kit completo combinado con base extra ancha

Sistema de soporte para objetivos de acero, kit completo combinado con base extra ancha

US$ 30,00-40,00
100 Piezas(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de cobre, objetivo de recubrimiento al vacío

Objetivo de cobre, objetivo de recubrimiento al vacío

US$ 692,00
10 Piezas(MOQ)
Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma de doble objetivo para película de AG Pd

Máquina de recubrimiento por pulverización de plasma de doble objetivo para película de AG Pd

US$ 3.000,00-5.000,00
1 set(MOQ)
Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

US$ 8.730,00-8.900,00
1 Pieza(MOQ)
Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

US$ 21.000,00-26.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhuzhou Hongtong Tungsten Carbide Co., Ltd.

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Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

Varios objetivos de tungsteno carburo en diferentes formas para recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

Objetivos de sputtering de carburo de tungsteno para fabricar recubrimientos de DLC

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

Placa de Carburo de Tungsteno con un Lado Estriado

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
Carburo de tungsteno para el stock de 200X200mm placa

Carburo de tungsteno para el stock de 200X200mm placa

US$ 38,00-45,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Aluminio Titanio Alloy/50 para Máquina de Recubrimiento PVD

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
Bloques de aluminio metal para objetivo de sputtering de aluminio para investigación en laboratorio

Bloques de aluminio metal para objetivo de sputtering de aluminio para investigación en laboratorio

US$ 2.960,00
1 Tonelada(MOQ)
Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

Objetivo de sputtering de aluminio y titanio, objetivo de sputtering de titanio y aluminio

US$ 3.380,00
1 Tonelada(MOQ)
Alambre de aluminio para objetivos rotativos de fundición, alambre de aluminio para recubrimiento al vacío

Alambre de aluminio para objetivos rotativos de fundición, alambre de aluminio para recubrimiento al vacío

US$ 2.960,00
1 Tonelada(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Material de objetivo de pulverización para recubrimiento al vacío, objetivo curvado, proceso de alta pureza, placa de hafnio

Material de objetivo de pulverización para recubrimiento al vacío, objetivo curvado, proceso de alta pureza, placa de hafnio

Negociable
2 Kg(MOQ)
Objetivo de tablero de tantalio para aplicaciones aeroespaciales y necesidades de alta precisión

Objetivo de tablero de tantalio para aplicaciones aeroespaciales y necesidades de alta precisión

Negociable
10 Kg(MOQ)
Objetivo de tablero de tantalio para aplicaciones avanzadas en ciencia de materiales e investigación

Objetivo de tablero de tantalio para aplicaciones avanzadas en ciencia de materiales e investigación

Negociable
10 Kg(MOQ)
Placa de objetivo de tantalio de alta pureza para aplicaciones aeroespaciales y de defensa

Placa de objetivo de tantalio de alta pureza para aplicaciones aeroespaciales y de defensa

Negociable
10 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Recubrimiento de Película Delgada PVD

Objetivo de Sputtering de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Recubrimiento de Película Delgada PVD

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Bote y crisol de cerámica de nitruro de boro para recubrimiento por evaporación

Bote y crisol de cerámica de nitruro de boro para recubrimiento por evaporación

US$ 5,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento óptico consumibles Bn nitruro de boro barco de evaporación cerámico

Equipo de recubrimiento óptico consumibles Bn nitruro de boro barco de evaporación cerámico

US$ 5,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

C110/C10100/Tu00 5n Objetivo de Sputtering de Alta Pureza Cobre 99.999% para Recubrimiento Óptico

US$ 79,99
50 Kg(MOQ)
Personalizado 2mm/3mm/5mm Alta Pureza 6n Pellets de Cobre Materiales de Evaporación

Personalizado 2mm/3mm/5mm Alta Pureza 6n Pellets de Cobre Materiales de Evaporación

US$ 35,00-67,00
100 kilograms(MOQ)
99.9999% Pellets de Cobre Puro 6n 3mm Cu-Ofe/C10100 para Deposición al Vacío &3D Impresión

99.9999% Pellets de Cobre Puro 6n 3mm Cu-Ofe/C10100 para Deposición al Vacío &3D Impresión

US$ 45,99-59,99
100 kilograms(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

Objetivo de pulverización de titanio, aluminio, cobre, cromo, níquel, tubo de magnetrón, recubrimiento PVD rotativo

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
Piezas de torneado de aluminio anodizado de maquinaria de precisión

Piezas de torneado de aluminio anodizado de maquinaria de precisión

US$ 0,50-10,00
10 Piezas(MOQ)
1/4
150
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