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sobre objetivo de material de cerámica
  • Innovación tecnológica
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  • Capacidades de fabricación sustanciales

objetivo de material de cerámica600+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Wo3 Material de recubrimiento cerámico de óxido de tungsteno objetivo

Wo3 Material de recubrimiento cerámico de óxido de tungsteno objetivo

US$ 100,00-500,00
1 Pieza(MOQ)
Disco redondo de material cerámico ITO, objetivo de óxido de indio y estaño para recubrimiento de película delgada

Disco redondo de material cerámico ITO, objetivo de óxido de indio y estaño para recubrimiento de película delgada

US$ 100,00-120,00
1 pieces(MOQ)
Placa de Cobre de Unión de Alto Carbono Puro 99.999% Materiales Cerámicos Tamaño Personalizado

Placa de Cobre de Unión de Alto Carbono Puro 99.999% Materiales Cerámicos Tamaño Personalizado

US$ 110,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Materiales Cerámicos Objetivo Znse Objetivo de Sputtering Znse para Recubrimiento

99.99% Materiales Cerámicos Objetivo Znse Objetivo de Sputtering Znse para Recubrimiento

US$ 110,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Objetivo cerámico de Poli-silicio para esputo Blanco/Solar Fotovoltaica

Objetivo cerámico de Poli-silicio para esputo Blanco/Solar Fotovoltaica

US$ 35,00-50,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Silicio Monocristalino Mono-Si para Objetivo de Sputtering en Fotovoltaica Solar para Teléfonos Móviles

Objetivo de Silicio Monocristalino Mono-Si para Objetivo de Sputtering en Fotovoltaica Solar para Teléfonos Móviles

US$ 35,00-75,00
1 Kg(MOQ)
In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
SrRuO3 objetivo de estroncio Rutenato Cerámica esputante objetivo de delgado óptico Revestimiento de película

SrRuO3 objetivo de estroncio Rutenato Cerámica esputante objetivo de delgado óptico Revestimiento de película

US$ 40,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

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Disco de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Sputtering

Disco de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Sputtering

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Recubrimiento de Película Delgada PVD

Objetivo de Sputtering de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Recubrimiento de Película Delgada PVD

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de cerámica de hexaboruro de lantano de alta emisividad electrónica Lab6

Objetivos de cerámica de hexaboruro de lantano de alta emisividad electrónica Lab6

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Material Compuesto Personalizado de Nitruro de Boro con Cerámica de Nitruro de Silicio

Material Compuesto Personalizado de Nitruro de Boro con Cerámica de Nitruro de Silicio

US$ 5,00-50,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Material objetivo cromo para máquina de recubrimiento al vacío

Material objetivo cromo para máquina de recubrimiento al vacío

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

Metalización al vacío de aleación de titanio y aluminio

US$ 30,00-100,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento al vacío PVD horizontal de buena calidad en China

Equipo de recubrimiento al vacío PVD horizontal de buena calidad en China

US$ 23.000,00-89.000,00
1 Pieza(MOQ)
Fabricante de máquina de recubrimiento PVD para grifos de acero inoxidable

Fabricante de máquina de recubrimiento PVD para grifos de acero inoxidable

US$ 15.000,00-150.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shandong Pengcheng Advanced Ceramics Co., Ltd.

12 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Objetivo de sputtering de nitruro de boro, barcos de evaporación de nitruro de boro, crisol eléctrico de cerámica de nitruro de boro

Objetivo de sputtering de nitruro de boro, barcos de evaporación de nitruro de boro, crisol eléctrico de cerámica de nitruro de boro

US$ 150,00-160,00
100 Kg(MOQ)
Placas de Cerámica de Discos de Sputtering de Diboruro de Titanio (TiB2)

Placas de Cerámica de Discos de Sputtering de Diboruro de Titanio (TiB2)

US$ 30,00
50 Kg(MOQ)
Tib2 Objetivo de Sputtering de Cerámica de Disulfuro de Titanio

Tib2 Objetivo de Sputtering de Cerámica de Disulfuro de Titanio

US$ 30,00
50 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Objetivo de rutenio por sputtering magnetrón de alta pureza

Objetivo de rutenio por sputtering magnetrón de alta pureza

US$ 32.000,00
1 Pieza(MOQ)
4n Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Precisión

4n Objetivo de Sputtering de Tungsteno de Alta Precisión

US$ 3.500,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de rutenio de alta pureza para pulverización en forma de disco

Objetivo de rutenio de alta pureza para pulverización en forma de disco

US$ 75.000,00
1 Pieza(MOQ)
Material de objetivo de nitruro de silicio de alta pureza

Material de objetivo de nitruro de silicio de alta pureza

US$ 15.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.99% Objetivos de Cerámica Tac Objetivos de Sputtering de Carburo de Tantalio

99.99% Objetivos de Cerámica Tac Objetivos de Sputtering de Carburo de Tantalio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% VSI2 Objetivos de Cerámica Disiliciuro de Vanadio Objetivos de Sputtering

99.99% VSI2 Objetivos de Cerámica Disiliciuro de Vanadio Objetivos de Sputtering

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Objetivo de tungsteno de carburo de tungsteno para recubrimientos de DLC

99.9% Objetivo de tungsteno de carburo de tungsteno para recubrimientos de DLC

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Cerámica de Carburo de Aluminio de Alta Calidad Al4c3

Objetivo de Cerámica de Carburo de Aluminio de Alta Calidad Al4c3

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de Carburo de Silicio Sic 99.9% Recubrimiento por Sputtering Objetivo Cerámico

Objetivo de Carburo de Silicio Sic 99.9% Recubrimiento por Sputtering Objetivo Cerámico

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo cerámico recubierto de carburo de silicio de alta pureza para procesamiento por sputtering magnetrón personalizable

Objetivo cerámico recubierto de carburo de silicio de alta pureza para procesamiento por sputtering magnetrón personalizable

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Alta Pureza 99.9%- 99.99% Ruo2 Objetivo, 1-10inch Dióxido de Rutenio Objetivo de Sputtering

Alta Pureza 99.9%- 99.99% Ruo2 Objetivo, 1-10inch Dióxido de Rutenio Objetivo de Sputtering

US$ 2.000,00-4.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de metal de tantalio de alta pureza para recubrimiento de película delgada, objetivo de sputtering de titanio, rodio / rutenio

Objetivo de sputtering de metal de tantalio de alta pureza para recubrimiento de película delgada, objetivo de sputtering de titanio, rodio / rutenio

US$ 700,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Objetivo redondo de níquel de alta calidad para pulverización

Objetivo redondo de níquel de alta calidad para pulverización

US$ 10,00
1 pcs(MOQ)
Superficie pulida de alta dureza y objetivo de tubo de níquel de mayor pureza

Superficie pulida de alta dureza y objetivo de tubo de níquel de mayor pureza

US$ 30,00
10 Piezas(MOQ)
Objetivo de Sputtering Redondo de Zirconio de Alta Fusión Zr702

Objetivo de Sputtering Redondo de Zirconio de Alta Fusión Zr702

US$ 15,00
1 pcs(MOQ)
Buena conductividad térmica y eléctrica varilla redonda de zirconio puro

Buena conductividad térmica y eléctrica varilla redonda de zirconio puro

US$ 15,00
10 kg(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

Precio de objetivos de titanio de alta pureza para recubrimiento PVD/objetivo de titanio por pulverización, objetivo redondo de titanio en venta

US$ 80,00-300,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de recubrimiento PVD para láminas de acero inoxidable de alta calidad, máquina de recubrimiento al vacío PVD para tubos de acero inoxidable de gran tamaño, lámina de acero inoxidable coloreada

Máquina de recubrimiento PVD para láminas de acero inoxidable de alta calidad, máquina de recubrimiento al vacío PVD para tubos de acero inoxidable de gran tamaño, lámina de acero inoxidable coloreada

US$ 45.000,00-150.000,00
1 Set(MOQ)
Máquina de recubrimiento al vacío Cicel PVD para lavabo o fregadero

Máquina de recubrimiento al vacío Cicel PVD para lavabo o fregadero

US$ 20.000,00-55.000,00
1 Pieza(MOQ)
Equipo de recubrimiento al vacío PVD para gafas de sol

Equipo de recubrimiento al vacío PVD para gafas de sol

US$ 30.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd

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Objetivo Tiox

Objetivo Tiox

Negociable
5 Piezas(MOQ)
Destino DE ITO

Destino DE ITO

Negociable
5 Piezas(MOQ)
ITO (tabletas) Sputtering meta

ITO (tabletas) Sputtering meta

Negociable
5 Piezas(MOQ)
Rotación de destino de silicio

Rotación de destino de silicio

Negociable
5 Conjuntos(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 años
·Fabricante/Fábrica
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Recubridor de magnetrón de sputtering de doble objetivo RF de cerámica, dieléctrico, óptico, óxido, película dura, película de PTFE

Recubridor de magnetrón de sputtering de doble objetivo RF de cerámica, dieléctrico, óptico, óxido, película dura, película de PTFE

US$ 26.500,00
1 Pieza(MOQ)
Recubrimiento por sputtering magnetrón de un solo objetivo con monitor de grosor de película

Recubrimiento por sputtering magnetrón de un solo objetivo con monitor de grosor de película

US$ 18.000,00-19.200,00
1 set(MOQ)
Recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo, doble y triple objetivo con monitor de grosor de película

Recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo, doble y triple objetivo con monitor de grosor de película

US$ 60.000,00-61.200,00
1 set(MOQ)
Sputtering magnetrón de un solo objetivo con función de bobinado de fibra óptica

Sputtering magnetrón de un solo objetivo con función de bobinado de fibra óptica

US$ 28.000,00-29.500,00
1 set(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Material objetivo DE ITO (óxido de estaño de Indium), película conductiva transparente de Indium Tin Oxide Semiconductor, objetivo de espumación de Magnetron, Especificaciones personalizadas

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Titanato de bario BaTiO3 Target, Titanato de estroncio de bario Target Basrtio3, PVD Magnetron sputtering Target, Consumibles de laboratorio, partículas, Unión de la lámina de refuerzo

Titanato de bario BaTiO3 Target, Titanato de estroncio de bario Target Basrtio3, PVD Magnetron sputtering Target, Consumibles de laboratorio, partículas, Unión de la lámina de refuerzo

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Material objetivo de IGZO (óxido de zinc galio-indico) de alta pureza para espumación de magnetrón PVD, recubrimiento de vacío, investigación y material experimental

Material objetivo de IGZO (óxido de zinc galio-indico) de alta pureza para espumación de magnetrón PVD, recubrimiento de vacío, investigación y material experimental

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Jiangsu Haitai Optoelectronic Materials Technology Co., Ltd.

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Objetivo Nbox

Objetivo Nbox

US$ 1.400,00-9.200,00
2 Piezas(MOQ)
Objetivo Sizr

Objetivo Sizr

US$ 5.000,00-12.600,00
2 Piezas(MOQ)
Sial Target

Sial Target

US$ 280,00-2.230,00
2 Piezas(MOQ)

Hebei Zhongyi Import and Export Co., Ltd.

3 años
·Empresa Comercial
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Objetivo de Sputtering de Disulfuro de Tungsteno de Alta Pureza Ws2 para Aplicaciones de Recubrimiento

Objetivo de Sputtering de Disulfuro de Tungsteno de Alta Pureza Ws2 para Aplicaciones de Recubrimiento

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
Recubrimiento cerámico de disulfuro de tungsteno puro Ws2 para un recubrimiento de alta calidad mediante pulverización

Recubrimiento cerámico de disulfuro de tungsteno puro Ws2 para un recubrimiento de alta calidad mediante pulverización

US$ 9,00-12,00
10 Kg(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

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Ybco Yba2Cu3O7 itrio de óxido de cobre de bario de Sputtering meta

Ybco Yba2Cu3O7 itrio de óxido de cobre de bario de Sputtering meta

US$ 250,00-500,00
1 Pieza(MOQ)

China Rare Metal Material Co., Ltd.

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Los objetivos de Sputtering cerámica

Los objetivos de Sputtering cerámica

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Objetivo de Gadolinio de Alta Pureza para la Fabricación de Electrónica Avanzada

Objetivo de Gadolinio de Alta Pureza para la Fabricación de Electrónica Avanzada

US$ 55,00-85,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Metal de Yttrio de Alta Pureza para Almacenamiento de Datos Avanzado

Objetivo de Metal de Yttrio de Alta Pureza para Almacenamiento de Datos Avanzado

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de lanthanum de alta pureza premium para electrónica

Objetivo de sputtering de lanthanum de alta pureza premium para electrónica

US$ 150,00-350,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de sputtering de alta pureza de itrio para tecnología láser avanzada

Objetivo de sputtering de alta pureza de itrio para tecnología láser avanzada

US$ 115,00-130,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

Mo1 Precio del objetivo de molibdeno para sputtering

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Placa de molibdeno de alta calidad

Placa de molibdeno de alta calidad

US$ 40,00-88,00
1 kg(MOQ)
Más Trusted TZM Boat TZM Molybybybym Boat

Más Trusted TZM Boat TZM Molybybybym Boat

US$ 31,00-54,00
1 kg(MOQ)
Barco Molybybum profesional en venta

Barco Molybybum profesional en venta

US$ 31,00-54,00
1 kg(MOQ)
1/2

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Marca TMAXCN 99.5% Objetivo de cerámica de carburo de silicio para pulverización para recubrimiento

Marca TMAXCN 99.5% Objetivo de cerámica de carburo de silicio para pulverización para recubrimiento

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Material de recubrimiento cerámico de blanco de pulverización de estaño de zinc de alta densidad de la marca TMAXCN Zn2sno4

Material de recubrimiento cerámico de blanco de pulverización de estaño de zinc de alta densidad de la marca TMAXCN Zn2sno4

US$ 78,00-90,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN - VTC-600-3HD-LD Máquina de recubrimiento por pulverización de alta vacuidad DC/RF 3 Cabezal 2 Recubridor por pulverización de plasma magnetrón

Marca TMAXCN - VTC-600-3HD-LD Máquina de recubrimiento por pulverización de alta vacuidad DC/RF 3 Cabezal 2 Recubridor por pulverización de plasma magnetrón

US$ 18.000,00
1 Pieza(MOQ)
Marca TMAXCN- VTC-600-3HD-GB 3 Cabezas de sputtering y fuentes de alimentación RF/DC Máquina de recubrimiento por sputtering en caja de guantes

Marca TMAXCN- VTC-600-3HD-GB 3 Cabezas de sputtering y fuentes de alimentación RF/DC Máquina de recubrimiento por sputtering en caja de guantes

US$ 16.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

Aparato de recubrimiento por sputtering de magnetrón de un solo objetivo de acero inoxidable de escritorio

US$ 8.730,00-8.900,00
1 Pieza(MOQ)
Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

Depósito por Sputtering de Magnetrón de Doble Objetivo de CC y RF para Películas Delgadas de Metal y Óxido

US$ 21.000,00-26.000,00
1 Pieza(MOQ)
3 Recubridor de Sputtering Magnetrón de Tres Pulgadas

3 Recubridor de Sputtering Magnetrón de Tres Pulgadas

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Pieza(MOQ)
Revestidor de Sputtering Magnetrón de Alto Rendimiento y Bajo Costo (500W DC&500W RF)

Revestidor de Sputtering Magnetrón de Alto Rendimiento y Bajo Costo (500W DC&500W RF)

US$ 28.500,00-40.100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Esputo Target ITO Indium Tin Oxide 4n 99,99% para Optico Revestimiento

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Dióxido de cerio de tierras raras CeO2 99,95% Cerámica esputtering objetivo PVD Revestimiento

Dióxido de cerio de tierras raras CeO2 99,95% Cerámica esputtering objetivo PVD Revestimiento

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Cerámica de Sputtering Meta en diversas formas para el recubrimiento PVD Objetivo compuesto

Cerámica de Sputtering Meta en diversas formas para el recubrimiento PVD Objetivo compuesto

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Sio2 de dióxido de gránulo blanco de Sputtering de cerámica de recubrimiento de evaporación

Sio2 de dióxido de gránulo blanco de Sputtering de cerámica de recubrimiento de evaporación

Negociable
1 Kg(MOQ)

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 años
·Empresa Comercial
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Varilla de metal de tulio objetivo granular CAS No 7440-30-4 TM 2n 3n 3n5

Varilla de metal de tulio objetivo granular CAS No 7440-30-4 TM 2n 3n 3n5

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Precio de fábrica Vender alta calidad objetivo de sputtering ITO 4n In2o3 y Sno2

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Precio de fábrica Vender bajo densidad 4n objetivo redondo pequeño ITO

Negociable
1 Piece(MOQ)
Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Precio de fábrica Vender alta pureza objetivo ITO para Rpd 4n

Negociable
1 Piece(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Cátodo giratorio, objetivo de tubo cilíndrico para máquina de revestimiento

Cátodo giratorio, objetivo de tubo cilíndrico para máquina de revestimiento

US$ 6.700,00-6.800,00
2 sets(MOQ)
5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

5-200kw Fuente de Sputtering Típica para la Industria de Recubrimiento de Películas Delgadas Cátodo de Sputter Magnetrón Rotatorio Objetivo de Sputtering Rotatorio

US$ 6.900,00-7.000,00
2 sets(MOQ)
Máquina de PVD de película delgada con sistema de grabado por plasma

Máquina de PVD de película delgada con sistema de grabado por plasma

US$ 80.000,00-180.000,00
1 Pieza(MOQ)
Máquina de metalización PVD para superficies de partes plásticas cosméticas

Máquina de metalización PVD para superficies de partes plásticas cosméticas

US$ 30.000,00-60.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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Bi2te3 Sputtering meta

Bi2te3 Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Al2O3 blanco de Sputtering cerámica

Al2O3 blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivos cilíndrico azo

Objetivos cilíndrico azo

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Bi2O3 blanco de Sputtering cerámica

Bi2O3 blanco de Sputtering cerámica

Negociable
1 Pieza(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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Rotary el objetivo, ITO Planar magnetrón Sputtering meta, en2o3: Destino Sno2, 90:10 ITO, Ito, 5 de 95: 97: 3 ITO

Rotary el objetivo, ITO Planar magnetrón Sputtering meta, en2o3: Destino Sno2, 90:10 ITO, Ito, 5 de 95: 97: 3 ITO

Negociable
10 Kg(MOQ)
Rotary Tiox destino, principalmente para la aplicación de recubrimiento de vidrio Low-E, el magnetrón Sputtering Meta, meta de óxido de titanio

Rotary Tiox destino, principalmente para la aplicación de recubrimiento de vidrio Low-E, el magnetrón Sputtering Meta, meta de óxido de titanio

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Heterojunction destino ITO, Ito de Alta Pureza Sputtering meta para Heterojunction, 97: 3 Hjt ITO blanco

Heterojunction destino ITO, Ito de Alta Pureza Sputtering meta para Heterojunction, 97: 3 Hjt ITO blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo Nbox giratorio 99,95% de Sputtering meta de alta calidad

Objetivo Nbox giratorio 99,95% de Sputtering meta de alta calidad

Negociable
2 Piezas(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Objetivo de ITO, Ito, Tp objetivo giratorio TFT-LCD STN Tn ITO blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ITO, ITO blanco de Sputtering Planar película de vidrio, Tp/tn/STN/TFT-LCD Meta ITO

ITO, ITO blanco de Sputtering Planar película de vidrio, Tp/tn/STN/TFT-LCD Meta ITO

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de óxido de indio, en2o3 blanco

Objetivo de óxido de indio, en2o3 blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo Igzo, TFT Igzo Indium-Gallium Canal de la capa de óxido de Zinc blanco

Objetivo Igzo, TFT Igzo Indium-Gallium Canal de la capa de óxido de Zinc blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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4n Azo Objetivo ZnO: Al2O3 Objetivos de Sputtering Rotatorio

4n Azo Objetivo ZnO: Al2O3 Objetivos de Sputtering Rotatorio

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
99.999% Placa de objetivo de pulverización de silicio monocristalino de alta pureza / Objetivo de cerámica de silicio

99.999% Placa de objetivo de pulverización de silicio monocristalino de alta pureza / Objetivo de cerámica de silicio

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
4n Nbo2 Objetivos de óxido de niobio Objetivos planos

4n Nbo2 Objetivos de óxido de niobio Objetivos planos

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
4n TiO2 Objetivos de Óxido de Titanio Objetivos Rotativos Objetivos Planos

4n TiO2 Objetivos de Óxido de Titanio Objetivos Rotativos Objetivos Planos

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)

EHW APPLIED MATERIALS CO., LTD.

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La calidad de alta pureza y disco de ito de Sputtering meta para el revestimiento de vacío y la máquina

La calidad de alta pureza y disco de ito de Sputtering meta para el revestimiento de vacío y la máquina

US$ 10,00-5.000,00
30 Piezas(MOQ)
ITO de alta calidad de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (90/10)

ITO de alta calidad de Sputtering meta para la máquina y el revestimiento de vacío (90/10)

US$ 10,00-5.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo Moox

Objetivo Moox

US$ 10,00-5.000,00
1 Pieza(MOQ)
Alta calidad de Nb2ox Sputtering meta para el revestimiento de vacío y la máquina

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