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sobre objetivos de sputtering de cerámica de boruro
  • Innovación tecnológica
  • Cadenas de suministro confiables
  • Capacidades de fabricación sustanciales

objetivos de sputtering de cerámica de boruro10+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.5% Tib2 Objetivo de cerámica de boruro de titanio para recubrimiento PVD

99.5% Tib2 Objetivo de cerámica de boruro de titanio para recubrimiento PVD

US$ 25,00-30,00
10 Piezas(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Boruro de Molibdeno de Alta Pureza (MoB) para Aplicaciones de Recubrimiento

Objetivo de Sputtering de Boruro de Molibdeno de Alta Pureza (MoB) para Aplicaciones de Recubrimiento

US$ 25,00-30,00
10 Piezas(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Boruro de Titanio de Alta Pureza 99.5% Tib2 para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Boruro de Titanio de Alta Pureza 99.5% Tib2 para Recubrimiento PVD

US$ 25,00-30,00
10 Piezas(MOQ)
Zrb2 Objetivo de Sputtering de Boruro de Zirconio de Magnetrón del Proveedor Xinkang

Zrb2 Objetivo de Sputtering de Boruro de Zirconio de Magnetrón del Proveedor Xinkang

US$ 150,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Recubrimiento de Película Delgada PVD

Objetivo de Sputtering de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Recubrimiento de Película Delgada PVD

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Disco de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Sputtering

Disco de Cerámica de Hexaburó de Lantano Lab6 para Sputtering

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos de cerámica de hexaboruro de lantano de alta emisividad electrónica Lab6

Objetivos de cerámica de hexaboruro de lantano de alta emisividad electrónica Lab6

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
Disco Cerámico de Boruro de Lantano para Objetivo de Sputtering Lab6

Disco Cerámico de Boruro de Lantano para Objetivo de Sputtering Lab6

US$ 50,00-200,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Nitruro de boro (BN) Ceramic nitruro PVD esputtering Target, Titanium Diboride, Titanium Boride, Customized Size, Afizing Plate

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shandong Pengcheng Advanced Ceramics Co., Ltd.

12 años·5.0
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Placas de Cerámica de Discos de Sputtering de Diboruro de Titanio (TiB2)

Placas de Cerámica de Discos de Sputtering de Diboruro de Titanio (TiB2)

US$ 30,00
50 Kg(MOQ)
Tib2 Objetivo de Sputtering de Cerámica de Disulfuro de Titanio

Tib2 Objetivo de Sputtering de Cerámica de Disulfuro de Titanio

US$ 30,00
50 Kg(MOQ)
1/4

Guangdong Rongsin New Material Co., Ltd.

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Objetivo de sputtering de alta pureza y pellet de evaporación para recubrimiento PVD

Objetivo de sputtering de alta pureza y pellet de evaporación para recubrimiento PVD

US$ 1,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización

Objetivo de pulverización

US$ 1,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Polvo de Hexaboruro de Terbio TBB6 CAS 12008-31-0

Polvo de Hexaboruro de Terbio TBB6 CAS 12008-31-0

US$ 120,00-150,00
1 Kg(MOQ)
Polvo de Hexaboruro de Erbio Puro Erb6 CAS 12310-44-0

Polvo de Hexaboruro de Erbio Puro Erb6 CAS 12310-44-0

US$ 120,00-150,00
1 Kg(MOQ)
Mob2 Polvo de Disulfuro de Molibdeno CAS 12007-27-1

Mob2 Polvo de Disulfuro de Molibdeno CAS 12007-27-1

US$ 120,00-150,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Hebei Suoyi New Material Technology Co., Ltd.

12 años·5.0
·Empresa Comercial
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Objetivo de Carburo de Boro de Alta Pureza B4c para Sputtering Target/99.5% con el Mejor Precio

Objetivo de Carburo de Boro de Alta Pureza B4c para Sputtering Target/99.5% con el Mejor Precio

US$ 30,00-60,00
1 Kg(MOQ)
Suministro de objetivo de carburo de boro de alta pureza B4c para sputtering Target/99.5% con el mejor precio

Suministro de objetivo de carburo de boro de alta pureza B4c para sputtering Target/99.5% con el mejor precio

US$ 30,00-60,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

Equipo de recubrimiento por pulverización de plasma, antiadherente, resistente al desgaste, silicio, aluminio, alúmina, circonio

US$ 35.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shanghai Epoch Material Co., Ltd.

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Pólder de Boruro de Titanio Nano (Diboruro) Tib2 Nanopartículas y Nanopólder

Pólder de Boruro de Titanio Nano (Diboruro) Tib2 Nanopartículas y Nanopólder

US$ 200,00-500,00
1 Kg(MOQ)
1/3
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