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sobre batio3 objetivo
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batio3 objetivo9 fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering de Alta Pureza 99.95% Batio3 para Recubrimiento Avanzado por PLD

Objetivo de Sputtering de Alta Pureza 99.95% Batio3 para Recubrimiento Avanzado por PLD

US$ 100,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputter de Grado Semiconductores Batio3

Objetivo de Sputter de Grado Semiconductores Batio3

US$ 100,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Titanato de Bario de Alta Pureza para Aplicaciones de Recubrimiento Cerámico Batio3

Objetivo de Sputtering de Titanato de Bario de Alta Pureza para Aplicaciones de Recubrimiento Cerámico Batio3

US$ 25,00-30,00
10 Piezas(MOQ)
99.9% 99.99% Objetivo de Sputtering de Cerámica de Titanato de Bario Batio3 Objetivos de Disco

99.9% 99.99% Objetivo de Sputtering de Cerámica de Titanato de Bario Batio3 Objetivos de Disco

US$ 25,00-30,00
10 Piezas(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Titanato de bario BaTiO3 Target, Titanato de estroncio de bario Target Basrtio3, PVD Magnetron sputtering Target, Laboratory Consumibles

Titanato de bario BaTiO3 Target, Titanato de estroncio de bario Target Basrtio3, PVD Magnetron sputtering Target, Laboratory Consumibles

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Titanato de bario BaTiO3 Target, Titanato de estroncio de bario Target Basrtio3, PVD Magnetron sputtering Target, Consumibles de laboratorio, partículas, Unión de la lámina de refuerzo

Titanato de bario BaTiO3 Target, Titanato de estroncio de bario Target Basrtio3, PVD Magnetron sputtering Target, Consumibles de laboratorio, partículas, Unión de la lámina de refuerzo

Negociable
1 Pieza(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Los objetivos de sputtering

Los objetivos de sputtering

US$ 60,00
1 Pieza(MOQ)

Zhangzhou Quark Metal Products Co., Ltd

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Batio3 Material Objetivo Objetivo de metal magnetrón Sputtering meta

Batio3 Material Objetivo Objetivo de metal magnetrón Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Wuxi Kingful Corporation., Ltd

9 años
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4/6/8/12 Oblea de silicio de pulgada para chips Mosfet

4/6/8/12 Oblea de silicio de pulgada para chips Mosfet

US$ 650,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shanghai Opticrystal Materials Co., Ltd.

12 años
·Empresa Comercial
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Cristal de Escintilación Cdwo4 con Fuerte Resistencia al Daño por Radiación

Cristal de Escintilación Cdwo4 con Fuerte Resistencia al Daño por Radiación

US$ 40,00-50,00
1 pieces(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Esputo cerámico Target BaTiO3 Barium óxido de titanio con Cu Back Placa

Esputo cerámico Target BaTiO3 Barium óxido de titanio con Cu Back Placa

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)
BaTiO3 Barium Titanium Oxide esputtering Target Manufacture Bonding Service

BaTiO3 Barium Titanium Oxide esputtering Target Manufacture Bonding Service

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)
BaTiO3 Baritum Titanium Oxide esputtering Target Factory China

BaTiO3 Baritum Titanium Oxide esputtering Target Factory China

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)
BaTiO3 Barium óxido de titanio Bto Ceramic Plane esputtering Target

BaTiO3 Barium óxido de titanio Bto Ceramic Plane esputtering Target

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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RF de cerámica de alta pureza de Sputtering objetivos tales como: Bazrtio3, Ga2o3, Lasrfeo3, el Sb2Se3, Znga, Bacatio3 Ga: ZnO, Lasrmno3, Sc2O3, Znmno3, BI, GaAs Lasrnio3...

RF de cerámica de alta pureza de Sputtering objetivos tales como: Bazrtio3, Ga2o3, Lasrfeo3, el Sb2Se3, Znga, Bacatio3 Ga: ZnO, Lasrmno3, Sc2O3, Znmno3, BI, GaAs Lasrnio3...

US$ 200,00
1 Pieza(MOQ)
1/2
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