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sobre batio3 objetivo
  • Innovación tecnológica
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  • Capacidades de fabricación sustanciales

batio3 objetivo9 fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Objetivo de Sputtering Cerámico de Alta Pureza Batio3

Objetivo de Sputtering Cerámico de Alta Pureza Batio3

US$ 100,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Alta Pureza 99 9% Batio3 para Recubrimiento PVD

Objetivo de Sputtering de Alta Pureza 99 9% Batio3 para Recubrimiento PVD

US$ 100,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputter de Grado Semiconductores Batio3

Objetivo de Sputter de Grado Semiconductores Batio3

US$ 100,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo personalizado Batio3 para deposición de películas delgadas avanzadas

Objetivo personalizado Batio3 para deposición de películas delgadas avanzadas

US$ 100,00-1.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Titanato de bario BaTiO3 Target, Titanato de estroncio de bario Target Basrtio3, PVD Magnetron sputtering Target, Laboratory Consumibles

Titanato de bario BaTiO3 Target, Titanato de estroncio de bario Target Basrtio3, PVD Magnetron sputtering Target, Laboratory Consumibles

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Titanato de bario BaTiO3 Target, Titanato de estroncio de bario Target Basrtio3, PVD Magnetron sputtering Target, Consumibles de laboratorio, partículas, Unión de la lámina de refuerzo

Titanato de bario BaTiO3 Target, Titanato de estroncio de bario Target Basrtio3, PVD Magnetron sputtering Target, Consumibles de laboratorio, partículas, Unión de la lámina de refuerzo

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Zhangzhou Quark Metal Products Co., Ltd

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Batio3 Material Objetivo Objetivo de metal magnetrón Sputtering meta

Batio3 Material Objetivo Objetivo de metal magnetrón Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Los objetivos de sputtering

Los objetivos de sputtering

US$ 60,00
1 Pieza(MOQ)

Wuxi Kingful Corporation., Ltd

9 años
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4/6/8/12 Oblea de silicio de pulgada para chips Mosfet

4/6/8/12 Oblea de silicio de pulgada para chips Mosfet

US$ 650,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Shanghai Opticrystal Materials Co., Ltd.

12 años
·Empresa Comercial
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Cristal de Escintilación Cdwo4 con Fuerte Resistencia al Daño por Radiación

Cristal de Escintilación Cdwo4 con Fuerte Resistencia al Daño por Radiación

US$ 40,00-50,00
1 pieces(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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BaTiO3 Baritum Titanium Oxide esputtering Target Factory China

BaTiO3 Baritum Titanium Oxide esputtering Target Factory China

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)
Alta pureza 4n Barium Titanium Oxide BaTiO3 Sputtering Target

Alta pureza 4n Barium Titanium Oxide BaTiO3 Sputtering Target

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)
99,99% pureza Barium Titanium Oxide BaTiO3 esputtering Target for Magnetron Revestimiento de vacío

99,99% pureza Barium Titanium Oxide BaTiO3 esputtering Target for Magnetron Revestimiento de vacío

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)
Esputo cerámico Target Barium Titanium Oxide BaTiO3 para recubrimiento PVD

Esputo cerámico Target Barium Titanium Oxide BaTiO3 para recubrimiento PVD

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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RF de cerámica de alta pureza de Sputtering objetivos tales como: Bazrtio3, Ga2o3, Lasrfeo3, el Sb2Se3, Znga, Bacatio3 Ga: ZnO, Lasrmno3, Sc2O3, Znmno3, BI, GaAs Lasrnio3...

RF de cerámica de alta pureza de Sputtering objetivos tales como: Bazrtio3, Ga2o3, Lasrfeo3, el Sb2Se3, Znga, Bacatio3 Ga: ZnO, Lasrmno3, Sc2O3, Znmno3, BI, GaAs Lasrnio3...

US$ 200,00
1 Pieza(MOQ)
1/2
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