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sobre objetivos de sputtering de azo
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objetivos de sputtering de azo20+ fábricas verificadas

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.5% Azo ZnO/Al2O3 98/2wt% Objetivo de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada

99.5% Azo ZnO/Al2O3 98/2wt% Objetivo de Sputtering para Recubrimiento de Película Delgada

US$ 50,00-300,00
1 pieces(MOQ)
Objetivo de Sputtering ZnO/Al de Alta Calidad Azo ZnO/Al2O3 a Precios Competitivos

Objetivo de Sputtering ZnO/Al de Alta Calidad Azo ZnO/Al2O3 a Precios Competitivos

US$ 50,00-299,00
1 Pieza(MOQ)
99.95% Objetivo de Sputtering de Óxido de Zinc de Aluminio Azo para Recubrimiento PVD

99.95% Objetivo de Sputtering de Óxido de Zinc de Aluminio Azo para Recubrimiento PVD

US$ 200,00-400,00
1 Pieza(MOQ)
99.99% Objetivos de Cerámica Azo ZnO/Al2O3 Objetivos de Sputtering de Óxido de Zinc y Óxido de Aluminio para Recubrimiento

99.99% Objetivos de Cerámica Azo ZnO/Al2O3 Objetivos de Sputtering de Óxido de Zinc y Óxido de Aluminio para Recubrimiento

US$ 110,00-120,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.95% Objetivos de cerámica Azo dopados con aluminio óxido de zinc para recubrimiento PVD

99.95% Objetivos de cerámica Azo dopados con aluminio óxido de zinc para recubrimiento PVD

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
Aleación de Tizr de metal, objetivo de sputtering de titanio y circonio para recubrimiento

Aleación de Tizr de metal, objetivo de sputtering de titanio y circonio para recubrimiento

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.9% Objetivo de aleación CuIn, objetivo de sputtering de cobre e indio

99.9% Objetivo de aleación CuIn, objetivo de sputtering de cobre e indio

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
99.99% Objetivos de Sputtering de Monóxido de Silicio Cerámico Sio para Depósito de Películas Delgadas

99.99% Objetivos de Sputtering de Monóxido de Silicio Cerámico Sio para Depósito de Películas Delgadas

US$ 17,00-55,00
1 Kg(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Objetivo de pulverización Nbox Nb2O5 Destino Sputter girar la pureza del 99,95% de la cadera pic@Uvtm Vicky-Chan destino de exportación. COM Sial Znal Znsn Nicr Azo ITO

Objetivo de pulverización Nbox Nb2O5 Destino Sputter girar la pureza del 99,95% de la cadera pic@Uvtm Vicky-Chan destino de exportación. COM Sial Znal Znsn Nicr Azo ITO

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Azo Sputering Objetivo Material de recubrimiento cerámico blanco para la industria del vidrio de recubrimiento de película fina

Negociable
1 Pieza(MOQ)
PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

PVD de aluminio cilíndrica de destino al destino Sputter giratorio el 99,999% pureza 2n-5n disponible

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Si se puede girar de forma cilíndrica de cátodos de destino de silicio de alta calidad Monilithic rectas y de forma Dogbone

Si se puede girar de forma cilíndrica de cátodos de destino de silicio de alta calidad Monilithic rectas y de forma Dogbone

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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4n Azo Objetivo ZnO: Al2O3 Objetivos de Sputtering Rotatorio

4n Azo Objetivo ZnO: Al2O3 Objetivos de Sputtering Rotatorio

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
Avances en la producción de objetivos rotativos azo ultra puros 4n para sputtering

Avances en la producción de objetivos rotativos azo ultra puros 4n para sputtering

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
4n Nbo2 Objetivos de Óxido de Niobio Rotativos para Recubrimiento al Vacío

4n Nbo2 Objetivos de Óxido de Niobio Rotativos para Recubrimiento al Vacío

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivos Azo Premium para películas conductoras transparentes superiores

Objetivos Azo Premium para películas conductoras transparentes superiores

US$ 200,00-10.000,00
1 Pieza(MOQ)

ATM Material Co., Ltd.

4.0
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Objetivo de Cr con alta calidad

Objetivo de Cr con alta calidad

US$ 0,10-100,00
1.000 Piezas(MOQ)
W Objetivo

W Objetivo

US$ 100,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Able Target Limited

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Los objetivos de sputtering

Los objetivos de sputtering

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Sputtering Meta, Al2O3/Óxido de aluminio, Al2O3/ZnO/Azo de óxido de zinc aluminio

Sputtering Meta, Al2O3/Óxido de aluminio, Al2O3/ZnO/Azo de óxido de zinc aluminio

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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Objetivos cilíndrico azo

Objetivos cilíndrico azo

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Azo de aluminio blanco de Sputtering meta de óxido de zinc

Azo de aluminio blanco de Sputtering meta de óxido de zinc

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Azoespumante objetivo de óxido de zinc de aluminio para evaporación película fina óptica Revestimiento

Azoespumante objetivo de óxido de zinc de aluminio para evaporación película fina óptica Revestimiento

Negociable
1 Pieza(MOQ)

China Material Technology Co., Ltd

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La pureza del blanco de Sputtering ---- Objetivo Azo

La pureza del blanco de Sputtering ---- Objetivo Azo

US$ 50,00
1 Pieza(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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sputtering

sputtering

US$ 18,00-20,00
1 Pieza(MOQ)

Yochane Vacuum Technology Limited

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Blanco Azo de la capa de la farfulla

Blanco Azo de la capa de la farfulla

US$ 30,00
1 Pieza(MOQ)

Ningbo Sunlit Electronic Material Co. Ltd

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Dopada de alúmina el óxido de Zinc blanco

Dopada de alúmina el óxido de Zinc blanco

US$ 200,00-300,00
2 Piezas(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Material objetivo de aluminio óxido de zinc de alta pureza (AZO), óxido de zinc (ZnO) dopado con óxido de aluminio (Al2O3), objetivo de óxido de esputo de magnetrón, unión de placa trasera.

Material objetivo de aluminio óxido de zinc de alta pureza (AZO), óxido de zinc (ZnO) dopado con óxido de aluminio (Al2O3), objetivo de óxido de esputo de magnetrón, unión de placa trasera.

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 años
·Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial
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Línea de máquina de recubrimiento PVD por sputtering magnetrón Hcvac para celdas de película delgada CIGS/ITO, Azo, vidrio de baja emisividad

Línea de máquina de recubrimiento PVD por sputtering magnetrón Hcvac para celdas de película delgada CIGS/ITO, Azo, vidrio de baja emisividad

US$ 150.000,00
1 Set(MOQ)
Sistema de recubrimiento en línea por sputtering PVD con magnetrón de Azo Hcvac

Sistema de recubrimiento en línea por sputtering PVD con magnetrón de Azo Hcvac

US$ 150.000,00-500.000,00
1 Set(MOQ)
Sistema de recubrimiento por pulverización en línea Hcvac para película conductora de ITO, Azo, ZnO

Sistema de recubrimiento por pulverización en línea Hcvac para película conductora de ITO, Azo, ZnO

US$ 150.000,00-500.000,00
1 Set(MOQ)
Línea de máquina de recubrimiento al vacío por sputtering de magnetrón de vidrio Hcvac ITO, Azo, vidrio de baja emisividad / sistema de recubrimiento en línea para vidrio

Línea de máquina de recubrimiento al vacío por sputtering de magnetrón de vidrio Hcvac ITO, Azo, vidrio de baja emisividad / sistema de recubrimiento en línea para vidrio

US$ 150.000,00
1 Set(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Sistema de máquina de recubrimiento por magnetrón de escritorio para la fabricación de películas delgadas

Sistema de máquina de recubrimiento por magnetrón de escritorio para la fabricación de películas delgadas

US$ 40.000,00
1 Pieza(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Óxido de zinc de alta pureza aluminio (AZO) material objetivo, óxido de zinc (ZnO) dopado con óxido de aluminio (Al2O3), óxido de esputo Magnetron objetivo, Unión de placa trasera

Óxido de zinc de alta pureza aluminio (AZO) material objetivo, óxido de zinc (ZnO) dopado con óxido de aluminio (Al2O3), óxido de esputo Magnetron objetivo, Unión de placa trasera

Negociable
1 Pieza(MOQ)

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 4N Blanco rotatable de ITO de alta pureza para recubrimiento al vacío/recubrimiento PVD

ACETRON 4N Blanco rotatable de ITO de alta pureza para recubrimiento al vacío/recubrimiento PVD

Negociable
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Sputtering de Alta Pureza AZO para Recubrimiento en Vacío/PVD

ACETRON 4N 99.99% Objetivo de Sputtering de Alta Pureza AZO para Recubrimiento en Vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N Objetivo rotatable de alta pureza AZO para recubrimiento al vacío/recubrimiento PVD

ACETRON 4N Objetivo rotatable de alta pureza AZO para recubrimiento al vacío/recubrimiento PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)
ACETRON 4N Blanco de Sputtering de Alta Pureza AZO para Recubrimiento por Vacío/PVD

ACETRON 4N Blanco de Sputtering de Alta Pureza AZO para Recubrimiento por Vacío/PVD

US$ 99,00-99.999,00
1 Pieza(MOQ)

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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Dopada de alúmina el óxido de Zinc blanco de Sputtering Planar

Dopada de alúmina el óxido de Zinc blanco de Sputtering Planar

US$ 146,00-250,00
1 Pieza(MOQ)
La alta calidad Venta caliente Cobalt Sputtering meta

La alta calidad Venta caliente Cobalt Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)
78 pulgadas de alta pureza el cromo de Sputtering meta

78 pulgadas de alta pureza el cromo de Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Cobalto de alta calidad de Sputtering Meta en China

Cobalto de alta calidad de Sputtering Meta en China

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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4N Blanco de espumación giratorio de alta pureza de azo para el vacío de Magnetron Revestimiento

4N Blanco de espumación giratorio de alta pureza de azo para el vacío de Magnetron Revestimiento

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
4N objetivo de espumación giratoria de alta pureza de azo para Magnetron PVD Revestimiento

4N objetivo de espumación giratoria de alta pureza de azo para Magnetron PVD Revestimiento

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de tubo de azo 4N 99,99% de alta pureza para revestimiento de vacío Revestimiento PVD

Objetivo de tubo de azo 4N 99,99% de alta pureza para revestimiento de vacío Revestimiento PVD

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)
Espumación personalizada Target Azo aluminio óxido de zinc ZnO Al2O3 Alto Pureza

Espumación personalizada Target Azo aluminio óxido de zinc ZnO Al2O3 Alto Pureza

US$ 300,00
1 Pieza(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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Girar el objetivo, Azo magnetrón Sputtering Meta, ZnO. Al2O3 objetivo, el zinc de óxido de aluminio blanco

Girar el objetivo, Azo magnetrón Sputtering Meta, ZnO. Al2O3 objetivo, el zinc de óxido de aluminio blanco

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Pegado de buena calidad Azo Sputtering Meta ZnO: Al2O3 = 98: 2wt%/99: 1wt%

Pegado de buena calidad Azo Sputtering Meta ZnO: Al2O3 = 98: 2wt%/99: 1wt%

Negociable
2 Piezas(MOQ)
Rotary Azo Target Al2O3: ZnO blanco

Rotary Azo Target Al2O3: ZnO blanco

US$ 0,01-0,09
1 Pieza(MOQ)
Azoico giratorio de alta calidad de destino de Sputtering meta

Azoico giratorio de alta calidad de destino de Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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Tamaño grande 99,99% de ito de óxido de estaño indio Objetivo Objetivo giratorio y el pegado

Tamaño grande 99,99% de ito de óxido de estaño indio Objetivo Objetivo giratorio y el pegado

Negociable
1 Pieza(MOQ)
La pureza del Indio, óxido de estaño de Sputtering meta el 99,99% de cerámica de 4n objetivo ITO

La pureza del Indio, óxido de estaño de Sputtering meta el 99,99% de cerámica de 4n objetivo ITO

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de cerámica de alta pureza ITO, AZO, TZO, Tiox, Nbox, Gzo, Sic, ZRO2, Al2O3 de Sputtering meta

Objetivo de cerámica de alta pureza ITO, AZO, TZO, Tiox, Nbox, Gzo, Sic, ZRO2, Al2O3 de Sputtering meta

Negociable
1 Pieza(MOQ)
1/2
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