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Proveedor Auditado ESPUMACIÓN DE MAGNETRÓN: DESCRIPCIÓN GENERAL
El esputo es un proceso de deposición basado en plasma en el cual los iones energéticos se aceleran hacia un objetivo. Los iones golpean el objetivo y los átomos son expulsados (o escupidos) de la superficie. Estos átomos viajan hacia el sustrato e incorporan en la película creciente.
El equipo de recubrimiento de espumación de magnetrón es un instrumento especial de recubrimiento de laboratorio desarrollado por nuestra empresa. El equipo puede estar equipado con fuente de alimentación de CC y fuente de alimentación de RF. La potencia oscila entre 500W y 1000W. Puede usarse para preparar películas delgadas ferroeléctricas de una o varias capas, películas conductoras, películas de aleación, películas de semiconductores, películas cerámicas, películas dieléctricas, películas ópticas, etc.
Especificaciones del sistema de espumación de magnetrón:
| Nombre del producto | Cubierta de espumación de magnetrón | |
| Modelo | TN-MSZ180-I-RF-SS | |
| Etapa de muestra | Tamaño | φ100mm |
| Temperatura de calentamiento | <500ºC. | |
| Velocidad giratoria | 0~20rpm | |
| Pistola de pulverización | 2 inch1, 50,8mm, grosor < 3mm | |
| Cámara de vacío | Tamaño | φ180mm X 215mm |
| Ventana de observación | Cuarzo | |
| Material de la cámara | SUS304 | |
| Apertura | Arriba-abierta | |
| Sistema de vacío | Bomba de reserva | Bomba de vacío de paletas giratorias, 1,1L/s. |
| Bomba secundaria | Bomba molecular, 600L/S | |
| Medición de vacío | Vacuómetro compuesto, rango:10-5~105Pa | |
| Puerto de succión | KF16, KF40 | |
| Puerto de escape | KF16 | |
| Grado de vacío | 1,0×10-4PA | |
| Voltaje | AC 220V 50/60Hz | |
| El poder de la pulverización | Cantidad | Fuente de alimentación de CC*1 |
| Potencia de salida | 300W | |
| Otros | Voltaje | ac220v,50Hz |
| Potencia total | 2kW | |
| Tamaño total | 550*350*400mm | |
1. Tenemos un matador de espita de magnetrón con 1 objetivos, 2 objetivos, 3 objetivos, 4 objetivos, etc. el objetivo puede ser diseñado en la parte superior o inferior de la cámara.
2. 0-1000W se dispone de potencia de CC o de destino de potencia de RF. La función de sesgo es opcional.
3. Tamaño objetivo: 1 pulgadas, 2 pulgadas, 3 pulgadas, 4 pulgadas, etc.
4. El objetivo magnético fuerte y el objetivo magnético permanente son opcionales.
5. Magnetrón esputtering coater con evaporación, E-beam está disponible.
6. Servicio personalizado siempre disponible!
Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd. Es una empresa integral que integra diseño, investigación y desarrollo, producción y ventas.
Los principales productos de nuestra empresa son: Espumador, coater de evaporación térmica, coater de espumador de magnetrón, coater de espumador de plasma, coater de evaporación de haz electrónico, Máquina de recubrimiento láser de impulsos PLD, limpiador de plasma, sistema CVD, sistema PECVD, máquina de corte de hilo de diamante, horno de fusión/estufa, horno de fusión de arco, etc.
Nuestros productos se utilizan ampliamente en el campo de la investigación científica de materiales. Tenemos una amplia cooperación con universidades nacionales, laboratorios y nuevas empresas de materiales. Ha sido exportado con éxito a más de 20 países y regiones, incluyendo los Estados Unidos, el Reino Unido, Alemania, Rusia, Suiza, Canadá, Brasil, etc. y han establecido relaciones de cooperación a largo plazo con los comerciantes locales.
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P. ¿es usted fabricante o empresa comercial?
R. Somos fabricantes profesionales de instrumentos de laboratorio, contamos con un equipo de I+D y un taller profesionales, que pueden prometer la calidad y el servicio de posventa.
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