Equipo de deposición de vapor químico reforzado por plasma (PECVD) con rebobinado y. Dispositivo de desenrollado para el cultivo de película de nitruro de silicio

• After-sales Service: 12 Months
• Warranty: 12 Months
• Certificación: CE
• sistema de suministro de gas: caudalímetro de gas
• potencia de salida de rf: 50w
• método de enfriamiento: refrigeración por agua
• No. de Modelo.: TN-OTF-1200X-II-PEC3-Q
• bomba de vacío: bomba de vacío de paletas giratorias bipolares
• temperatura de trabajo: <=1200c
• caudalímetro de masa: tres vías
• frecuencia de rf: 13,56mhz
• vacío final: 10-1pa
• zona de calefacción: zonas duales 200mm+200mm
• Paquete de Transporte: Standard Export Fumigation Sign Wooden Box Package
• Marca Comercial: TN
• Origen: Henan China
• Código del HS: 8486209000
• Capacidad de Producción: 5000/Month

Descripción de Producto

Equipo de deposición de vapor químico reforzado por plasma (PECVD) con rebobinado y. Dispositivo de desenrollado para el cultivo de película de nitruro de silicio

Descripción del producto

El instrumento es un dispositivo de deposición de vapor químico reforzado por plasma (PECVD) equipado con un sistema de movimiento de rollo a rollo. No solo se utiliza en el proceso de tratamiento continuo de calor de la barra de alambre, como la preparación de fibra de carbono, la modificación de la aleación y otros materiales de la barra de alambre, sino también se utiliza para el crecimiento continuo de grafeno en la bobina.
El equipo está compuesto por cinco partes: Un sistema de movimiento rollo a rollo, horno de tubo abierto de zona de calefacción 1200ºC2, sistema de mejora de plasma de PE, sistema de vacío y sistema de suministro de gas de flujómetro de protones de tres vías. Todo el sistema puede funcionar en el entorno de protección de vacío / atmósfera.
La velocidad del dispositivo de bobinado puede ajustarse de 1 a 400mm / min, y el mecanismo adopta el ajuste de retroalimentación, que puede corregir automáticamente la desviación de velocidad y asegurar la estabilidad de velocidad de la muestra, asegurando así la precisión del experimento.  

Parámetros del producto

 

Horno de tubo	Elemento	Detalle
	Voltaje	ac220v,50Hz
	Potencia máxima	3KW
	Zona de calefacción	Zonas duales 200mm+200mm
	Temperatura de trabajo	≤1200ºC.
	Precisión de control de temperatura	±1ºC.
	Método de control de temperatura	AI-PID curva de proceso de 30 etapas, puede almacenar múltiples
	Material del tubo	Cuarzo de alta pureza
	Tamaño del tubo	φ80mm D.I. x 1400mm l
	Modo de sellado	Brida de vacío de acero inoxidable
	Medición de vacío	Indicador de resistencia
	Gas de trabajo	Gases no corrosivos como el hidrógeno, el nitrógeno, el argón y el oxígeno
	Bomba de vacío	Bomba de vacío de paletas giratorias bipolares
	Vacío final	10-1Pa
Caudalímetro de masa de tres vías	Elemento	Detalle
	Tipo de válvula	Válvula de aguja de acero inoxidable
	Canales de gas	Tres vías
	Rango de presión	0,05~0,3MPa
	Rango	0~100 SCCM (Ar) 0~200 SCCM(H2) 0~500 SCCM(CH4)
	Rango de control de flujo	±1,5%
	Volumen del depósito de mezcla	750ml
	Material de la trayectoria del gas	acero inoxidable 304
	Interfaz de tubería	6,35mm Junta tipo morcique
	Fuente de alimentación	ac220v 50Hz
Fuente de alimentación de RF	Elemento	Detalle
	Potencia de salida	500W
	Precisión de salida	±1%
	Frecuencia de RF	13,56MHz
	Estabilidad de RF	±0,005%
	Método de enfriamiento	Refrigeración por agua

 

Fotos detalladas

 

Perfil de la empresa

 

PREGUNTAS FRECUENTES

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