Sistema de recubrimiento por CVD mejorado por plasma para la deposición de nitruro de silicio, silicio amorfo, películas delgadas de silicio microcristalino y fibra de carbono

Detalles de Producto
Servicio postventa: 12 meses
Garantía: 12 meses
Certificación: CE
Miembro de Oro Desde 2023

Proveedores con licencias comerciales verificadas

Proveedor Auditado Proveedor Auditado

Auditado por una agencia de inspección externa independiente

para ver todas las etiquetas de fortaleza verificadas (15)
  • Sistema de recubrimiento por CVD mejorado por plasma para la deposición de nitruro de silicio, silicio amorfo, películas delgadas de silicio microcristalino y fibra de carbono
  • Sistema de recubrimiento por CVD mejorado por plasma para la deposición de nitruro de silicio, silicio amorfo, películas delgadas de silicio microcristalino y fibra de carbono
  • Sistema de recubrimiento por CVD mejorado por plasma para la deposición de nitruro de silicio, silicio amorfo, películas delgadas de silicio microcristalino y fibra de carbono
  • Sistema de recubrimiento por CVD mejorado por plasma para la deposición de nitruro de silicio, silicio amorfo, películas delgadas de silicio microcristalino y fibra de carbono
  • Sistema de recubrimiento por CVD mejorado por plasma para la deposición de nitruro de silicio, silicio amorfo, películas delgadas de silicio microcristalino y fibra de carbono
  • Sistema de recubrimiento por CVD mejorado por plasma para la deposición de nitruro de silicio, silicio amorfo, películas delgadas de silicio microcristalino y fibra de carbono
Buscar productos similares
  • Visión General
  • Descripción del producto
  • Parámetros del producto
  • Fotos detalladas
  • Perfil de la empresa
  • PREGUNTAS FRECUENTES
Visión General

Información Básica.

No. de Modelo.
TN-DCCVD
sistema de suministro de gas
caudalímetro de gas
potencia de salida de rf
50W
método de enfriamiento
refrigeración por agua
bomba de vacío
bomba de vacío de paletas giratorias bipolares
temperatura de trabajo
<=1200c
caudalímetro de masa
tres vías
frecuencia de rf
13,56mhz
vacío final
10-1pa
zona de calefacción
zonas duales 200mm+200mm
Paquete de Transporte
paquete de caja de madera de signo de fumigación de exportación estándar
Marca Comercial
no
Origen
Henan China
Código del HS
8486209000
Capacidad de Producción
5000/mes

Descripción de Producto

Sistema de recubrimiento CVD reforzado por plasma para deposición de nitruro de silicio, silicio amorfo, películas delgadas de silicio microcristalino y fibra de carbono  

Descripción del producto

El instrumento es un dispositivo de deposición de vapor químico reforzado por plasma (PECVD) equipado con un sistema de movimiento de rollo a rollo. No solo se utiliza en el proceso de tratamiento continuo de calor de la barra de alambre, como la preparación de fibra de carbono, la modificación de la aleación y otros materiales de la barra de alambre, sino también se utiliza para el crecimiento continuo de grafeno en la bobina.
El equipo está compuesto por cinco partes: Un sistema de movimiento rollo a rollo, horno de tubo abierto de zona de calefacción 1200ºC2, sistema de mejora de plasma de PE, sistema de vacío y sistema de suministro de gas de flujómetro de protones de tres vías. Todo el sistema puede funcionar en el entorno de protección de vacío / atmósfera.
La velocidad del dispositivo de bobinado puede ajustarse de 1 a 400mm / min, y el mecanismo adopta el ajuste de retroalimentación, que puede corregir automáticamente la desviación de velocidad y asegurar la estabilidad de velocidad de la muestra, asegurando así la precisión del experimento.

 
Parámetros del producto
 








1200ºC2-calefacción-zona de horno de tubo abierto
 
Elemento Detalle
Voltaje ac220v,50Hz
Potencia máxima 3KW
Zona de calefacción Zonas duales 200mm+200mm
Temperatura de trabajo 1200ºC.
Precisión de control de temperatura ±1ºC.
Método de control de temperatura AI-PID curva de proceso de 30 etapas, puede almacenar múltiples
Material del tubo Cuarzo de alta pureza
Tamaño del tubo φ80mm D.I. x 1400mm l
Modo de sellado Brida de vacío de acero inoxidable
Medición de vacío Indicador de resistencia
Gas de trabajo Gases no corrosivos como el hidrógeno, el nitrógeno, el argón y el oxígeno
Bomba de vacío Bomba de vacío de paletas giratorias bipolares
Vacío final 10-1Pa





Caudalímetro de masa de tres vías
 
Elemento Detalle
Tipo de válvula Válvula de aguja de acero inoxidable
Canales de gas Tres vías
Rango de presión 0,05~0,3MPa
Rango 0~100 SCCM (Ar)
0~200 SCCM(H2)
0~500 SCCM(CH4)
Rango de control de flujo ±1,5%
Volumen del depósito de mezcla 750ml
Material de la trayectoria del gas acero inoxidable 304
Interfaz de tubería 6,35mm Junta tipo morcique
Fuente de alimentación ac220v 50Hz
Potencia de RF
 
Elemento Detalle
Potencia de salida 500W
Precisión de salida ±1%
Frecuencia de RF 13,56MHz
Estabilidad de RF ±0,005%
Método de enfriamiento Refrigeración por agua
 
Fotos detalladas

Plasma Enhanced CVD Coating System for Deposition of Silicon Nitride, Amorphous Silicon, Microcrystalline Silicon Thin Films and Carbon FiberPlasma Enhanced CVD Coating System for Deposition of Silicon Nitride, Amorphous Silicon, Microcrystalline Silicon Thin Films and Carbon FiberPlasma Enhanced CVD Coating System for Deposition of Silicon Nitride, Amorphous Silicon, Microcrystalline Silicon Thin Films and Carbon FiberPlasma Enhanced CVD Coating System for Deposition of Silicon Nitride, Amorphous Silicon, Microcrystalline Silicon Thin Films and Carbon Fiber





 
Perfil de la empresa

 


Plasma Enhanced CVD Coating System for Deposition of Silicon Nitride, Amorphous Silicon, Microcrystalline Silicon Thin Films and Carbon FiberPlasma Enhanced CVD Coating System for Deposition of Silicon Nitride, Amorphous Silicon, Microcrystalline Silicon Thin Films and Carbon FiberPlasma Enhanced CVD Coating System for Deposition of Silicon Nitride, Amorphous Silicon, Microcrystalline Silicon Thin Films and Carbon FiberPlasma Enhanced CVD Coating System for Deposition of Silicon Nitride, Amorphous Silicon, Microcrystalline Silicon Thin Films and Carbon FiberPlasma Enhanced CVD Coating System for Deposition of Silicon Nitride, Amorphous Silicon, Microcrystalline Silicon Thin Films and Carbon FiberPlasma Enhanced CVD Coating System for Deposition of Silicon Nitride, Amorphous Silicon, Microcrystalline Silicon Thin Films and Carbon FiberPlasma Enhanced CVD Coating System for Deposition of Silicon Nitride, Amorphous Silicon, Microcrystalline Silicon Thin Films and Carbon Fiber
PREGUNTAS FRECUENTES

P. ¿es usted un fabricante o una empresa comercial?

R. Somos fabricantes profesionales de instrumentos de laboratorio, tenemos su propio equipo de diseño y fábrica, tenemos una experiencia técnica madura, y podemos garantizar la calidad de los productos y el precio óptimo.

P. ¿Cómo es el sistema de servicio postventa de su empresa?
R. el período de garantía del producto es de 12 meses, podemos proporcionar mantenimiento de por vida. Contamos con departamentos profesionales de preventa y posventa que pueden responder a usted en 24 horas para resolver cualquier problema técnico.

P. ¿Cuánto tiempo dura su entrega? Si quiero personalizar el instrumento, ¿cuánto tiempo tarda?
A.1. Si los bienes están en stock, es de 5-10 días. 2. Podemos proporcionar servicios personalizados para nuestros clientes. Normalmente toma 30-60 días dependiendo de las especificaciones del instrumento personalizado.

P. el suministro de energía y el enchufe de nuestro país son diferentes. ¿Cómo lo solucionas?
R. podemos suministrar un transformador y enchufe de acuerdo con sus requisitos locales de acuerdo con el enchufe de alimentación de diferentes países.

P. ¿Cómo pagar?
A.T / T, L / C, D / P, etc., se recomienda utilizar la Garantía Comercial de Made-in-China.

P. ¿Cómo está el paquete de mercancías? ¿métodos de entrega?
A.1. Modelo de exportación fumigación signo de madera embalaje de cajas 2. Express, aire, transporte marítimo de acuerdo con las necesidades del cliente, encontrar la manera más adecuada.

Más preguntas, por favor contácteme.
 

Enviar directamente tu consulta a este proveedor

*De:
*A:
*Mensaje:

Pone entre 20 y 4000 caracteres.

Esto no es lo que buscas? Publique Solicitud de Compra Ahora
Contactar al Proveedor

Buscar Productos Similares Por Categoría

Página Web del Proveedor Productos Coater de plasma Sistema de recubrimiento por CVD mejorado por plasma para la deposición de nitruro de silicio, silicio amorfo, películas delgadas de silicio microcristalino y fibra de carbono