Type: | Cleaning Machine |
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Feature: | Plasma Cleaning |
Condition: | New |
Customized: | Customized |
nombre del producto: | limpiador de plasma |
material de la cámara: | cuarzo de alta pureza |
Proveedores con licencias comerciales verificadas
Introducción del limpiador de plasma:
Plasma cleaner es una nueva tecnología de alta tecnología que utiliza plasma para lograr efectos que no pueden lograrse con métodos de limpieza convencionales. El plasma es un estado de la materia, también llamado el cuarto estado de la materia, y no es los tres estados comunes de sólido, líquido y gas. Aplique suficiente energía al gas para ionizar y convertirse en un estado plasmático. Los componentes "activos" del plasma incluyen: Iones, electrones, átomos, grupos activos, nucleidos excitados (estados metastatizables), fotones, etc. el limpiador de plasma utiliza las propiedades de estos componentes activos para tratar la superficie de la muestra, para lograr el propósito de limpieza, recubrimiento, etc.Metal: Eliminar el aceite, la suciedad grasosa y otras materias orgánicas y la capa de óxido en la superficie del metal;
Fabricación de automóviles: Se utiliza para el tratamiento previo de plásticos y la pulverización de pintura en los procesos de fabricación de automóviles;
Producción textil: Utilizada para la hidrofilicidad, la hidrofobicidad y la modificación de superficies de textiles, filtros y películas;
Biomedicina: Las placas Petri mejoran la actividad, los stents vasculares, las jeringas, los catéteres y la prohumectación de diversos materiales, antes del tratamiento de revestimiento cruzado;
Aeroespacial: Tratamiento previo de los materiales aislantes, componentes electrónicos, etc., para el revestimiento de superficies;
Electrónica: Limpieza y grabado de placas de circuitos. Tratamiento de la no oxidación y activación de PP y otros materiales, para mejorar la solderabilidad;
Industria de semiconductores: Procesamiento y procesamiento de obleas para eliminar la fotorresistencia, pretratamiento del envase;
LED: Pretratamiento antes de limpiar y embalar el soporte;
Caucho plástico: Mejorar la actividad superficial de PS, PE, PTFE, TPE, POM, AS y PP, lo que facilita la unión e impresión.
Parámetros técnicos del limpiador de plasma:
Partes principales |
Elemento |
Parámetros |
Limpieza |
Cámara |
Cuarzo de alta pureza |
Cámara |
Diámetro 200 mm; longitud 170 mm |
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Fuente de alimentación de RF |
Fuente de alimentación |
La fuente de alimentación es una fuente de alimentación RF de estado sólido y adopta un módulo de amplificador de potencia de alta estabilidad y fiabilidad, así como un módulo de CC, que garantiza de forma eficaz la salida de potencia de RF de la fuente de alimentación. Los componentes electrónicos de alta calidad se utilizan para garantizar la fiabilidad de los productos. |
Potencia |
Funcionamiento normal durante mucho tiempo Funcionamiento sencillo y flexible Alta eficiencia de la fuente de alimentación y baja generación de calor Con función de protección de potencia de reflexión perfecta |
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Potencia de RF |
0~500W continuamente ajustable/0~1000W continuamente ajustable |
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Frecuencia de la señal |
13,56MHz ±0,005% |
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Poder reflejado |
≤200W |
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Estabilidad de potencia |
±0,1% |
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Conector RF |
Conector tipo N. |
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Máquina |
≥75% |
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Armónico |
≤-50 dBc |
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método de enfriamiento |
Refrigeración forzada por aire |
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Medición de gases |
Unidad de medición |
Caudalímetro de flotación |
Canal de gas |
Dos canales |
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Un rango de canales |
10~100ml |
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Rango de canales B. |
16~160ml |
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Vacío |
Vacío |
Vacuómetro digital (medidor de resistencia) |
Bomba de vacío |
Bomba de vacío de paletas rotativas de dos etapas |
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Velocidad del motor |
50 Hz: 1440; 60 Hz: 1720 |
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Velocidad de bombeo |
50 Hz: 1,1L/s; 60 Hz: 1,3L/s |
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Rango de vacío |
0,1Pa~10000Pa |
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Vacío final |
0,5Pa |
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Ruido del motor |
≤56dB |
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Interfaz de tubería |
Entrada de gases: KF16; puerto de escape KF16. |
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Tubo de conexión |
KF16 fuelles de vacío |
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Válvula de vacío |
Válvula de solenoide |
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Potencia del motor |
400W |
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Otros |
Fuente de alimentación |
ac220v 50/60Hz |
Potencia total |
1000W/1500W |
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En funcionamiento |
-10ºC- 40ºC. |
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Vacío de trabajo |
≤40Pa |
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Tamaño total |
600mm×650mm×730mm |
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Peso total |
80kg (incluido el embalaje) |
1 . VOLUMEN: 1L, 2L, 5L, 10L,20L, 30L , ETC.
2. ALIMENTACIÓN DE RF: 100W, 150W, 300W, 300W, 1000W, ajustable. 13,56MHz
3. Medidor de flujo de gas de doble canal
4 . Vacío: Bomba de vacío de paletas rotativas de dos etapas, 0,5Pa
5. Limpiador de plasma personalizado de acuerdo a sus necesidades está disponible
Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd. Es una empresa integral que integra diseño, investigación y desarrollo, producción y ventas.
Los principales productos de nuestra empresa son: Espumador, coater de evaporación térmica, coater de espumador de magnetrón, coater de espumador de plasma, coater de evaporación de haz electrónico, Máquina de recubrimiento láser de impulsos PLD, limpiador de plasma, sistema CVD, sistema PECVD, máquina de corte de hilo de diamante, horno de fusión/estufa, horno de fusión de arco, etc.
Nuestros productos se utilizan ampliamente en el campo de la investigación científica de materiales. Tenemos una amplia cooperación con universidades nacionales, laboratorios y nuevas empresas de materiales. Ha sido exportado con éxito a más de 20 países y regiones, incluyendo los Estados Unidos, el Reino Unido, Alemania, Rusia, Suiza, Canadá, Brasil, etc. y han establecido relaciones de cooperación a largo plazo con los comerciantes locales.
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P. ¿es usted fabricante o empresa comercial?
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