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Proveedor Auditado Laboratorio de evaporación de haz de electrones sistema de vacío depósito de metal elemental nano película
Evaporación del haz de electrones (haz electrónico)--DESCRIPCIÓN GENERAL
Durante un proceso de evaporación de haz electrónico, la corriente pasa primero a través de un filamento de tungsteno que conduce a la calefacción de julios y la emisión de electrones. Se aplica alta tensión entre el filamento y el corazón para acelerar estos electrones liberados hacia el crisol que contiene el material que se va a depositar. Un campo magnético fuerte enfoca los electrones en un haz unificado; a su llegada, la energía de este haz de electrones se transfiere al material de deposición, causando que se evapore (o sublimate) y se deposite en el sustrato. Añadir una presión parcial de gas reactivo, como oxígeno o nitrógeno a la cámara durante la evaporación puede usarse para depositar de forma reactiva películas no metálicas.
La evaporación del haz de electrones tiene muchas ventajas sobre la evaporación térmica resistiva. En primer lugar, la fuente de e-beam es capaz de calentar materiales a temperaturas mucho más altas de lo posible usando un barco resistivo o un calentador de crisol. Esto permite tasas de deposición muy altas y evaporación de materiales de alta temperatura y metales refractarios como tungsteno, tantalio o grafito. Segundo, las películas depositadas por la evaporación del haz de electrones pueden mantener mejor la pureza del material de la fuente; el enfriamiento del agua del crisol limita fuertemente el calentamiento del haz de electrones solo al área ocupada por el material de la fuente, eliminando cualquier contaminación no deseada de los componentes vecinos. Por último, las fuentes de evaporación del haz de electrones están disponibles en una variedad de tamaños y configuraciones, incluyendo bolsas individuales o múltiples. La indexación de bolsillo mediante un carrusel motorizado permite que una fuente deposite muchos materiales desde una única ubicación de origen.Especificaciones del coater de evaporación E-beam:
| Nombre del producto | Máquina de revestimiento de evaporación de haz de electrones |
| Modelo de producto | TN-EBH500-SS |
| Condición de servicio | La temperatura ambiente osciló entre 5 y 40ºC. |
| Fuente | Tres fases 380V |
| Voltaje | 220V 50HZ |
| Potencia | <20 kW |
| Indicador de agua | <2,5bar |
| Supervisión de capas chapadas | Utilizando el monitor de espesor de membrana SQM160, la falta de homogeneidad del espesor del recubrimiento es inferior al 6%. |
| Lámpara de calor | Cuatro lámparas halógenas de calefacción fueron utilizadas para la desgasificación y una lámpara de neón para iluminación |
| La interfaz del electrodo | Con una interfaz de electrodo de evaporación de metal de 2 vías, respaldo |
| Sistema de refrigeración por agua | Control de la presión del agua |
| Ventana de observación | 100mm pulg de diámetro, con filtro de vidrio de rayos X. |
| Sistema de control | Sistema de pantalla táctil |
| Dimensiones de la cámara de vacío | Dimensiones de la cámara de evaporación: φ 500 * H500mm |
| Pistola de electrones | Nueva pistola electrónica, un crisol de 6 agujeros |
| Plato giratorio de muestra | Tamaño de la muestra: <150mm, la mesa de muestras puede girar, la superficie de la mesa de muestras y el ajuste de la distancia de la superficie de la pistola de electrones hacia arriba y hacia abajo, la distancia de ajuste es de 200mm-250mm, la mesa de muestras puede calentarse, temperatura de calentamiento <500ºC. |
| Grado de vacío del sistema | A. Limite el vacío: Horneado durante 12~24 horas, bombeo continuo, vacío menor que 5x10-5Pa B. velocidad de extracción: Un vacío <5x10 en 40 minutos, a partir de la atmósfera-4PA C. velocidad de fuga del sistema: Después de 12 horas de parada, medir el grado de vacío de la cámara de vacío es <10pA |
| La unidad de vacío | FB1200 bomba molecular + bomba de etapa delantera VRD-16 + lado válvula de extracción + válvula de compuerta + válvula de corte + compuesto medidor de vacío + supervisión de revestimiento interfaz de medidor de vacío (en espera) |
1. Tenemos un coater de evaporación térmica con 1/2/3/4/8... fuentes de evaporación, puede evaporación de metal y material orgánico
2. Material de la cámara: Cuarzo de alta pureza--- vacío bajo, cámara SS304-- vacío alto
3. El monitor de grosor de película es opcional
4. Evaporación térmica, E-beam, magnetrón esputtering en una máquina está disponible
5. Hay disponible un material diferente de la fuente de evaporación
6. Personalizar el coater de evaporación térmica de acuerdo con su proceso está disponible
Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd. Es una empresa integral que integra diseño, investigación y desarrollo, producción y ventas.
Los principales productos de nuestra empresa son: Espumador, coater de evaporación térmica, coater de espumador de magnetrón, coater de espumador de plasma, coater de evaporación de haz electrónico, Máquina de recubrimiento láser de impulsos PLD, limpiador de plasma, sistema CVD, sistema PECVD, máquina de corte de hilo de diamante, horno de fusión/estufa, horno de fusión de arco, etc.
Nuestros productos se utilizan ampliamente en el campo de la investigación científica de materiales. Tenemos una amplia cooperación con universidades nacionales, laboratorios y nuevas empresas de materiales. Ha sido exportado con éxito a más de 20 países y regiones, incluyendo los Estados Unidos, el Reino Unido, Alemania, Rusia, Suiza, Canadá, Brasil, etc. y han establecido relaciones de cooperación a largo plazo con los comerciantes locales.
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