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Proveedor Auditado Máquina de recubrimiento de Magnetron de doble objetivo para conductores de metales y óxido Película
ESPUMACIÓN DE MAGNETRÓN: DESCRIPCIÓN GENERAL
El esputo es un proceso de deposición basado en plasma en el cual los iones energéticos se aceleran hacia un objetivo. Los iones golpean el objetivo y los átomos son expulsados (o escupidos) de la superficie. Estos átomos viajan hacia el sustrato e incorporan en la película creciente.
El equipo de recubrimiento de espumación de magnetrón es un instrumento especial de recubrimiento de laboratorio desarrollado por nuestra empresa. El equipo puede estar equipado con fuente de alimentación de CC y fuente de alimentación de RF. La potencia oscila entre 500W y 1000W. Puede usarse para preparar películas delgadas ferroeléctricas de una o varias capas, películas conductoras, películas de aleación, películas de semiconductores, películas cerámicas, películas dieléctricas, películas ópticas.
Especificaciones del espumador de magnetrón:
| Nombre del producto | Coater de espita Magnetron de doble objetivo | |
| Modelo | TN-MSV325-II-DCRF-SS | |
| Volatge | ac220v, 50Hz | |
| Potencia total | 6KW | |
| Sistema de vacío | <=5×10-4PA | |
| Etapa de muestra | Tamaño | φ150mm |
| Temperatura de calentamiento | <=500ºC. | |
| Precisión | ±1ºC. | |
| Velocidad de rotación | 0~20rpm, ajustable | |
| Pistola de pulverización | Tamaño objetivo | Φ50.8mm, grosor <=3mm |
| Refrigeración | Refrigeración por agua | |
| Flujo | 10L/min | |
| Cámara de vacío | Tamaño de la cámara | φ325mm*500mm |
| Material de la cámara | SUS304 | |
| La obtención | φ100mm | |
| Apertura | Arriba abierta | |
| Sistema de gas | Caudalímetro de masa unidireccional, Ar-200SCCM | |
| Sistema de vacío | Sistema de bomba molecular--600L/s | |
| Grosor de película | Monitor de espesor de película de cristal de cuarzo, frecuencia 0,10 Å | |
| El poder de la agitación | Suministro de energía de CC 500W*2 | |
| Control | PLC+pantalla táctil | |
| Tamaño total | 540*540*1000mm | |
| Peso | 145kg | |
1. Tenemos un matador de espita de magnetrón con 1 objetivos, 2 objetivos, 3 objetivos, 4 objetivos, etc. el objetivo puede ser diseñado en la parte superior o inferior de la cámara.
2. 0-1000W se dispone de potencia de CC o de destino de potencia de RF. La función de sesgo es opcional.
3. Tamaño objetivo: 1 pulgadas, 2 pulgadas, 3 pulgadas, 4 pulgadas, etc.
4. El objetivo magnético fuerte y el objetivo magnético permanente son opcionales.
5. Magnetrón esputtering coater con evaporación, E-beam está disponible.
6. Servicio personalizado siempre disponible!
Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd. Es una empresa integral que integra diseño, investigación y desarrollo, producción y ventas.
Los principales productos de nuestra empresa son: Espumador, coater de evaporación térmica, coater de espumador de magnetrón, coater de espumador de plasma, coater de evaporación de haz electrónico, Máquina de recubrimiento láser de impulsos PLD, limpiador de plasma, sistema CVD, sistema PECVD, máquina de corte de hilo de diamante, horno de fusión/estufa, horno de fusión de arco, etc.
Nuestros productos se utilizan ampliamente en el campo de la investigación científica de materiales. Tenemos una amplia cooperación con universidades nacionales, laboratorios y nuevas empresas de materiales. Ha sido exportado con éxito a más de 20 países y regiones, incluyendo los Estados Unidos, el Reino Unido, Alemania, Rusia, Suiza, Canadá, Brasil, etc. y han establecido relaciones de cooperación a largo plazo con los comerciantes locales.
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Podemos enviar el magnetrón esputtering coater por tierra, por mar, por aire, por expreso, también puede organizar el paquete y el envío de acuerdo con sus necesidades.
P. ¿es usted fabricante o empresa comercial?
R. Somos fabricantes profesionales de instrumentos de laboratorio, contamos con un equipo de I+D y un taller profesionales, que pueden prometer la calidad y el servicio de posventa.
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