• Placa calefactora de bandeja cerámica de nitruro de aluminio ALN para alta temperatura Industria de semiconductores
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Favoritos

Placa calefactora de bandeja cerámica de nitruro de aluminio ALN para alta temperatura Industria de semiconductores

Aplicación: Aeroespacial, Electrónica, Medicina, cerámica industrial
Tipo: placas cerámicas
fuerza flexural: >=450mpa
rugosidad de la superficie: 0,3-0,6um
color: gris
densidad de volumen: >=3.3G/Cm3

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Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial

Tour Virtual 360 °

Miembro Diamante Desde 2024

Proveedores con licencias comerciales verificadas

Fujian, China
Marca propia
El proveedor tiene 1 marcas propias, consulte el Audit Report para obtener más información.
Inspectores de control de calidad
El proveedor cuenta con 3 personal de inspección de control de calidad y control de calidad.
Capacidades de I+D
El proveedor cuenta con 2 ingenieros de I+D, puedes consultar el Audit Report para más información
Certificación de Producto
Los productos del proveedor ya cuentan con calificaciones de certificación relevantes, que incluyen:
CE
para ver todas las etiquetas de fortaleza verificadas (26)

Información Básica.

No. de Modelo.
INCA03
absorción de agua
0
conductividad térmica
>=180W/M.K
expansividad térmica
4.8*10-6
servicio de procesamiento
Cutting, Punching, Moulding, Laser Cutting
Paquete de Transporte
Vacuum Packing
Especificación
Personalizado
Marca Comercial
Innovacera
Origen
Fujian, China
Capacidad de Producción
100 Piece/Pieces Per Month

Descripción de Producto

High Temperature Aln Aluminum Nitride Ceramic Tray Heating Plate for Semiconductor Industry


Función del calentador de nitruro de aluminio

La conductividad térmica es equivalente al aluminio, que puede lograr una respuesta térmica rápida y uniforme
. Densidad de vatio: Hasta 2000 W/pulg ² (310 W/cm ²)
. Conductividad térmica de nitruro de aluminio: 170 W/Mk
. Velocidad de calentamiento rápido: 0-400°C (32 a 752°F), inferior a 2 segundos . Aplicaciones ambientales atmosféricas y de gas inerte . Complejo 3D Geometría . Grosor: 0,05 pulgadas a 0,200 pulgadas (1,27 mm a 5,08 mm) . Tamaño: Hasta 10,25 pulgadas 2 (66,13 cm²)

 
High Temperature Aln Aluminum Nitride Ceramic Tray Heating Plate for Semiconductor Industry
High Temperature Aln Aluminum Nitride Ceramic Tray Heating Plate for Semiconductor Industry

 

 
Aplicación
 
High Temperature Aln Aluminum Nitride Ceramic Tray Heating Plate for Semiconductor Industry
 
 
- componentes RF / Microondas
- módulo de potencia
- transformadores de potencia
- paquete LED de alta potencia
 
 
- Submontajes de Diodo láser
- Sub-montaje de chip LED
- Paquetes microelectrónicos
- transistores
 
High Temperature Aln Aluminum Nitride Ceramic Tray Heating Plate for Semiconductor Industry
High Temperature Aln Aluminum Nitride Ceramic Tray Heating Plate for Semiconductor Industry

- Alta conductividad térmica para LED y electrónica de potencia

- sustratos para electrónica de potencia

 

High Temperature Aln Aluminum Nitride Ceramic Tray Heating Plate for Semiconductor Industry
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