• Sistema de tratamiento de vacío de plasma con la cámara
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Sistema de tratamiento de vacío de plasma con la cámara

After-sales Service: Engineer at Site
Warranty: 1 Year
Application: Semiconductor Cleaning
Cleaning Media: Dry Cleaning
Automation: Semi-automatic
Cleaning Precision: Ultra-Precision Industrial Cleaning

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Miembro Diamante Desde 2010

Proveedores con licencias comerciales verificadas

Fabricante/Fábrica & Empresa Comercial

Información Básica.

No. de Modelo.
VPC42
Control
PLC
Principle
Physical Cleaning
Certification
CE, RoHS
Condition
New
Customized
Customized
Feature
Clean Thoroughly
potencia
380VAC 20A
ambiente
nitrógeno
nitrógeno
0,5mpa
sensor de temperatura
nosotros omega
zona de limpieza individual
350 *350mm
tamaño
85*170*96cm
Paquete de Transporte
Polywood Case
Especificación
350 *350mm*5 layers
Marca Comercial
Torch
Origen
Beijing
Capacidad de Producción
50sets/Month

Descripción de Producto


Sistema de tratamiento de vacío de plasma con la cámara

Plasma Vacuum Treatment System with ChamberI. Nombre de equipo, tipo número, el origen y fecha de entrega
1.1 nombre de equipo: Máquina de limpieza de plasma de vacío
1.2 nº de modelo: VPC42
1.3 Origen (país, el fabricante): antorcha de Beijing SMT incorpora Empresa
1.4 fecha de entrega: 4-8 semanas después de que el contrato entrará en vigor
1.5 utiliza principalmente para el proceso de tratamiento de superficie de la plasma en el gabinete de semiconductores campos como la oblea de silicio, el sustrato de vidrio, cerámica, el IC de sustrato soporte de la placa de cobre, plomo, el bastidor de gran tamaño de una sola cara de la junta de energía del sustrato, el módulo de IGBT, MEMS sensor con el accesorio, dispositivo de microondas, filtro, dispositivo de radiofrecuencia, etc..

II.  Los parámetros de rendimiento técnico principal:
2.1 El volumen de la cámara de vacío: 42L
2.2 grado de vacío:
El vacío máximo grado de VPC42 limpiador de plasma de vacío sea inferior al 2 Pa (mecánica de la bomba en seco 40 L/minuto)
2.3 Área de limpieza eficaces:
Área de limpieza único: 350 *350mm
15 capas: intervalo de 15 mm: 40khz de frecuencia intermedia de 2KW (tratamiento de superficie)
5 capas: intervalo de 50mm 13.56Hz de frecuencia de radio de 300W (volumen de procesamiento, con el agua de refrigeración)
2.4 La altura de la cámara de vacío:
 La altura de la cámara:  350mm (tamaño efectivo)
2.5 La limpieza de la temperatura:
Limpieza de baja temperatura (por debajo de la temperatura ambiente).
2.6 La frecuencia de limpieza: 30-120s
2.7 Efecto de limpieza: el valor de dina puede llegar a 70. La gota de agua es el ángulo de 15 grados, y puede ser controlado de forma óptima en el plazo de 10 grados(Taller con la limpieza de aire en la Clase 100 libre de polvo puede ser limpiado en 4 horas).
2.8 Gas puede ser utilizado:
El argón, nitrógeno, oxígeno, mezcla de hidrógeno, nitrógeno, hidrógeno y carbono tetrafluoride, etc..
2.9 VPC42 plasma vacío limpieza de la máquina está equipada con software de sistema de control:
El software de sistema de control es fácil de manejar, permite la conexión de equipos de control, y diversos procesos de limpieza las curvas se pueden establecer, y las curvas se pueden establecer, modificar, almacenar y seleccione de acuerdo con los diferentes procesos; el software tiene su propia función de análisis, que puede analizar el proceso curva. El sistema de control software registrará automáticamente el proceso de limpieza de datos, la curva de temperatura, tiempo y datos relacionados con la alarma en tiempo real para garantizar la trazabilidad del producto proceso de limpieza.


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