2022 China vacío limpiador de Plasma de semiconductores en línea
descripción de producto
VPC3i de plasma de vacío máquina de limpieza(en línea)
Máquina de limpieza de plasma de vacío en línea
Modle No.: VPC3I.
Fabricante : la antorcha de Beijing SMT incorpora Empresa
El equipo de I Nombre, escriba el número, origen y fecha de entrega
1.1 nombre de equipo: Máquina de limpieza de plasma de vacío en línea
1.2 nº de modelo: VPC3I.
1.3 Origen (país, el fabricante): antorcha de Beijing SMT incorpora Empresa
1.4 fecha de entrega: 4-8 semanas después de que el contrato entrará en vigor
1.5 utiliza principalmente para el proceso de tratamiento de superficie de plasma en el gabinete de semiconductores campos como la oblea de silicio, el sustrato de vidrio, cerámica, el IC de sustrato soporte de la placa de cobre, plomo, el bastidor de gran tamaño de una sola cara de la junta de energía del sustrato, el módulo de IGBT, MEMS sensor con el accesorio, dispositivo de microondas, filtro, dispositivo de radiofrecuencia, etc..
II Principales parámetros de rendimiento técnico:
2.1 El volumen de la cámara de vacío: 3L
2.2 grado de vacío:
El vacío máximo grado de VPC3i de plasma de vacío limpiador es menos de 10 Pa (mecánico de la bomba seco 8L)
2.3 Área de limpieza eficaces:
Área de limpieza único: 350 * 100 * 85 mm.
La frecuencia de Plasma: 13.56Hz RF 300W (volumen de tratamiento, con el agua de refrigeración)
2.4 La altura de la cámara de vacío:
Horno Altura: 100mm (tamaño efectivo)
2.5 La limpieza de la temperatura:
Limpieza de baja temperatura (por debajo de la temperatura ambiente).
2.6 La frecuencia de limpieza: 30-120s
2.7 Efecto de limpieza: el valor de dina puede llegar a 70. La gota de agua es el ángulo de 15 grados, y puede ser controlado de forma óptima en
Proveedor Auditado 
