• Material de la SIC PVD placa de carburo de silicio objetivo de espumación para Magnetron Sistema de pulverización
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Favoritos

Material de la SIC PVD placa de carburo de silicio objetivo de espumación para Magnetron Sistema de pulverización

Tipo: Objetivo de cerámica
Proceso de dar un título: TUV, YO ASI, CE
material: carburo de silicio
pureza: 99,5%
tamaño: personalizado
moq: 1 pc

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Miembro Diamante Desde 2018

Proveedores con licencias comerciales verificadas

Fabricante/Fábrica

Información Básica.

No. de Modelo.
XK-SiC
muestra gratuita
aceptar
aplicación
revestimiento de vidrio/metal/plástico/cerámica
embalaje
caja de madera
certificado
proporcione para cada objetivo
transporte
por express
entrega
5-10 días
Paquete de Transporte
Vacuum Sealed
Especificación
customized
Marca Comercial
no
Origen
China
Código del HS
8486909900
Capacidad de Producción
1000 PCS/Year

Descripción de Producto

               Materiales de recubrimiento de película fina SiC destino de pulverización  

Nuestra fábrica de suministro de alta calidad Al2O3, SiO2, Si3N4, SiC, Nb2Ox, TiOx, ITO, AZO esputtering objetivos, así como muchos otros materiales compuestos. Como los objetivos de espumación cerámica son muy frágiles con muy mala conductividad térmica, por lo que normalmente se unirá con la placa de refuerzo de cobre por el indio o elastómero, para prolongar el tiempo de servicio.

La tecnología de sinterizado se utiliza para producir blancos de sputtering cerámicos, la forma puede ser redonda y rectangular.para blanco redondo, el diámetro puede ser de 1" a 14", mientras que el grosor puede ser de 3mm a 6,35mm, tamaño especial puede ser personalizado. Para el objetivo rectangular, monolítico o varios azulejos construcción se proporcionará en función del tamaño.

  
Producto:  Objetivo de sputtering SIC
Pureza:  99,5%
Tamaño:  personalizado
Forma:  plana
Tecnología:  Metalurgia en polvo
Embalaje:  Vacumm sellado, caja de madera
 Sic PVD Material Silicon Carbide Plate Sputtering Target for Magnetron Sputtering System  

Características

Composición química: SIC

Pureza disponible: 2N5

Tecnología de producción: Metalurgia de polvo

Formas: Objetivos planos

Tamaño disponible: Blanco redondo, diámetro ≤ 14", blanco rectangular, según sus necesidades

Se recomienda la adhesión de indio para estos materiales

Ventajas: Color uniforme, superficie lisa, sin grietas, sin astillamiento, sin inclusiones y contaminantes extraños.  
Sic PVD Material Silicon Carbide Plate Sputtering Target for Magnetron Sputtering System

Perfil de la empresa:

Desde 2014

Especializándose en blancos de la pulverización de alta pureza.

Fabricante líder de materiales de pulverización en China.

Calificaron los certificados mundiales como ISO9001:2008 y SGS.

Completo en I+D, fabricación y ventas de materiales de película fina.

Exporta a más de 15 países de Europa, Asia Sudoriental, América del Sur y zonas, etc.
Sic PVD Material Silicon Carbide Plate Sputtering Target for Magnetron Sputtering SystemSic PVD Material Silicon Carbide Plate Sputtering Target for Magnetron Sputtering System

 NUESTROS PRODUCTOS                
  Sic PVD Material Silicon Carbide Plate Sputtering Target for Magnetron Sputtering System
 NUESTRA VENTAJA

1, muchos años de experiencia en la fabricación y exportación.

2 sistema de control de calidad estricto y completo

3, perfecto después de la venta systerm  
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