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Mo3 Destino Sputter magnetrón Sputtering meta para el recubrimiento de película fina

Tipo: Objetivo de cerámica
Proceso de dar un título: YO ASI
certificado: tuv/sgs/ce/rohs
muestra: proporcionar
moq: 1pcs
transporte: dhl/ups/fedx/tnt

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Miembro Diamante Desde 2018

Proveedores con licencias comerciales verificadas

Fabricante/Fábrica

Información Básica.

No. de Modelo.
XK-MO3
entrega
5-10 días
origen del país
china
material
mo3
tamaño
personalizado
cc
100% antes del envío
tolerancia de tamaño
+/-0,1mm
superficie
liso y plano
unión
con placa de cobre
nombre del producto
mo3 objetivo de derrame
Paquete de Transporte
Vacuum Sealed
Código del HS
8486909900
Capacidad de Producción
1000PCS/Year

Descripción de Producto

Perfil de la empresa:   Desde 2014 Especializada en la pureza de sputtering objetivos. Empresa líder fabricante de materiales de sputtering en China. Calificó el mundo certificados como ISO9001: 2008 y SGS. Amplio en la I+D, fabricación y venta de materiales de película fina. La exportación a más de 15 países de Europa, Sudeste de Asia, América del Sur y zonas, etc...Nuestra ventaja 1, muchos años de fabricación y exportación de la experiencia. 2 el estricto y completo systerm QC 3, perfecta después de la venta systerm                                       Gold/Au  sputtering meta  Características: Composición química: Oro puro Pureza Disponible: 4N-5N La tecnología de producción: Fusión EB Las formas: Planar metas, objetivos de rotary El tamaño de grano medio: <   100um   La plata es un tipo de materiales preciosos.   El oro de sputtering metas es muy importante de materiales de semiconductores, se utiliza para la colocación de película delgada de oro en la superficie de chips semiconductores, para formar valor óhmico  Póngase en contacto con la película, electrodo o otras películas, puede formar varias películas metálicas del sistema. La mayoría de la película de óxido de oro El sistema puede utilizarse para la fabricación de LED, dispositivo de comunicación por microondas, ampliamente aplicado en los vuelos espaciales, la  Aviación, chips semiconductores y las células solares.     Perfil de la empresa: Desde 2014 Especializada en la pureza de sputtering objetivos. Empresa líder fabricante de materiales de sputtering en China. Calificó el mundo certificados como ISO9001: 2008 y SGS. Amplio en la I+D, fabricación y venta de materiales de película fina. La exportación a más de 15 países de Europa, Sudeste de Asia, América del Sur y zonas, etc...Nuestros productos       *El objetivo de metal: W, Mo, Ta, Nb, Cu, V, Ni, Ti, Fe, Al, Zr, Co, Au, Ag, Pt, etc...*Objetivo: Aleación  NiFe,   NiCr,   NiV,   CuNi,   CoCr  CoFe TiAl, , , , , CuInGa CoTaZr WTi, ZnSn  CuZn, ...*El  Objetivo de cerámica: TiO2, Al2O3, TA2O5, ZrO2, SiC, SiO, SiO2, Ito, GZO, AZO, WS2,   MoS2, Ga2O3, HfO2, etc. *La evaporación  Materiales: Crisol,   Pastillas, gránulos, Piezas, etc. *La Placa de apoyo: Cu, Mo, SS, etc. *El Pegado de Servicio: Indio, Elastómeros                                                   Nuestra ventaja 1, muchos años de fabricación y exportación de la experiencia. 2 el estricto y completo systerm QC 3, perfecta después de la venta systerm                                                       El proceso de producción El embalaje y entrega  
Embalaje detalle: Interior: Agente desecante y sellado al vacío para evitar la oxidación Exterior: Caja de madera para evitar daños durante el transporte  
El detalle de entrega: Dentro de 3-15 días laborables. DHL, FedEx, UPS servicio puerta a puerta, 5-7 días desde China a su país.  
Nuestro certificado   Nuestra encuesta Somos distribuidor recuriting organismos en diferentes países y regiones, póngase en contacto si estás interesado para abastecerse de nuestra fábrica. Si hay alguna preocupación, simplemente pon tus preguntas sobre el siguiente cuadro de mensaje y haga clic en Enviar. Vamos a resolver el problema, detalle enviar parámetros técnicos o citas dentro de 1 días.  

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