El carbono de alta pureza Tetrafluoride CF4 Gas para la industria de semiconductores aguafuerte

• CAS No.: 75-73-0
• Formula: CF4
• EINECS: 200-896-5
• Constituent: Industrial Pure Air
• Grade Standard: Industrial Grade
• Chemical Property: Non-Flammable Gas
• No. de Modelo.: 40L-50L
• número onu: 1982
• nombre del envío: tetrafluorometano
• clase de peligro: 2,2
• etiqueta: gas no inflamable
• descripción general: gas incoloro/no inflamable
• archivo mol: 75-73-0.mol
• Paquete de Transporte: Cylinder
• Especificación: 1.603g/cm3(-128º C) 27.330(cm· mol)
• Marca Comercial: RM/OEM
• Origen: Qingdao, China
• Código del HS: 2826199090
• Capacidad de Producción: 1000 PCS Per Month

Descripción de Producto

La aplicación de SF4:
Tetrafluoride de carbono es la mayor cantidad de plasma aguafuerte gas en la industria microelectrónica en la actualidad. Es una mezcla de gas de alta pureza y el oxígeno de alta pureza tetrafluoride de carbono. Puede ser ampliamente utilizado en el grabado de silicio, dióxido de silicio, el nitruro de silicio, fósforo cristal de silicio y tungsteno film de materiales.
Por el silicio y sistemas de dióxido de silicio, la selectividad de 45: 1 puede obtenerse mediante el ajuste de la relación entre los dos gases reactivos cuando se utiliza el grabado de iones de CF4-H2, que es muy útil para grabar la película de dióxido de silicio en la puerta de silicio policristalino.

También es ampliamente utilizado en limpieza de superficies de los dispositivos electrónicos, la producción de células solares, la tecnología láser, la fase de gas criogénico de aislamiento, la refrigeración, el agente de la prueba de fugas de cohete espacial, el control de actitud, y el detergente en la impresión de la producción de circuitos.

  COA de CF4 Gas

El tema	Index
CF4,   %(V/V)≥	99.999	99, 995	99.99
N2, 10-6(V/V) ≤	4	20	40
O2, 10-6(V/V) ≤	1	5	10
El CO2, 10-6(V/V) ≤	1	5	10
CO, 10-6(V/V) ≤	0.3	0.5	1
El SF6  10-6(V/V) ≤	1	1	5
H2O, 10-6(V/V) ≤	1	5	10
HF, 10-6(V/V) ≤	0.1	0.3	0.3
Cft(CH2F2, CHF3, C2F3, C3F8), 10-6(V/V) ≤	1	10	30
Total el contenido de impurezas, ppm (V/V) ≤	10	50	100

Especificación de CF4

El parámetro Ensayo crítico	Unidad	Empresa La especificación	Análisis Los resultados	Método de análisis
Tetrafluoromethane (CF4).	%(V/V).	El 99, 999% Mín.	> El 99, 999%	G. C
El oxígeno (O2)	V. Ppm	< 1, 0	< 0, 2	G. C
El nitrógeno (N2)	V. Ppm	< 1, 0	< 0.6	G. C
El Monóxido de Carbono (CO)	V. Ppm	< 0, 5	< 0, 2	G. C
El dióxido de carbono(CO2)	V. Ppm	< 0, 5	< 0, 2	G. C
El hexafluoruro de azufre (SF6)	V. Ppm	< 0, 2	< 0, 1	G. C
Trifluoromethane(CHF3).	V. Ppm	< 0, 5	< 0, 1	G. C
Otros halocarbonos (OFC)*.	V. Ppm	< 1, 0	< 0, 7	G. C
El total de los hidrocarburos (THC)*.	V. Ppm	< 0, 5	< 0, 1	G. C
La humedad(H2O)	V. Ppm	< 0, 5	< 0, 2	El analizador de humedad
La acidez(como HF)	V. Ppm	< 0, 1	< 0, 08	El analizador de acidez
Contenido total de la impureza	V. Ppm	≤10.0	< 10.0	G. C
Particale(> 0.1μm)	Pc/litro	< 10.0	< 1, 0	ICP-MS

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