La pureza del CF4 Gas para la industria de semiconductores aguafuerte

• CAS No.: 75-73-0
• Formula: CF4
• EINECS: 200-896-5
• Constituent: Industrial Pure Air
• Grade Standard: Industrial Grade
• Chemical Property: Non-Flammable Gas
• No. de Modelo.: 99.9%
• número onu: 1982
• nombre del envío: tetrafluorometano
• clase de peligro: 2,2
• etiqueta: gas no inflamable
• descripción general: gas incoloro/no inflamable
• archivo mol: 75-73-0.mol
• Paquete de Transporte: Cylinder
• Especificación: 1.603g/cm3(-128º C) 27.330(cm· mol)
• Marca Comercial: RM/OEM
• Origen: Qingdao, China
• Código del HS: 2826199090
• Capacidad de Producción: 1000 PCS Per Month

Descripción de Producto

La aplicación de SF4:
El carbono tetrafluoride es la mayor cantidad de plasma aguafuerte gas en la industria microelectrónica en la actualidad. Es una mezcla de gas de alta pureza y la pureza del oxígeno de la carbon tetrafluoride. Puede ser ampliamente utilizado en el grabado de silicio, dióxido de silicio, el nitruro de silicio El silicio, fósforo y el tungsteno de vidrio material de película.
Por el silicio y sistemas de dióxido de silicio, la selectividad de 45:1 puede obtenerse mediante el ajuste de la relación entre los dos gases reactivos cuando se utiliza el grabado de iones de CF4-H2, que es muy útil para grabar la película de dióxido de silicio en la puerta de silicio policristalino.

También es ampliamente utilizado en limpieza de superficies de los dispositivos electrónicos, la producción de células solares, la tecnología láser, la fase de gas criogénico de aislamiento, la refrigeración, el agente de pruebas de fugas, el control de cohete espacial actitud, y el detergente en la impresión de la producción de circuitos.

 COA de CF4 Gas

El tema	Index
CF4, %(V/V)≥	99.999	99,995	99.99
N2, 10-6(V/V) ≤	4	20	40
O2, 10-6(V/V) ≤	1	5	10
El CO2, 10-6(V/V) ≤	1	5	10
CO, 10-6(V/V) ≤	0.3	0.5	1
El SF6 10-6(V/V) ≤	1	1	5
H2O, 10-6(V/V) ≤	1	5	10
HF, 10-6(V/V) ≤	0.1	0.3	0.3
Cft(CH2F2,CHF3,C2F3,C3F8),10-6(V/V) ≤	1	10	30
El total de impurezas, ppm (V/V) ≤	10	50	100

Especificación de CF4

El parámetro Ensayo crítico	Unidad	Empresa La especificación	Análisis Los resultados	Método de análisis
Tetrafluoromethane (CF4)	%(V/V).	El 99,999% Mín.	>el 99,999%	G.C
El oxígeno (O2)	V.ppm	<1,0	<0,2	G.C
El nitrógeno (N2)	V.ppm	<1,0	<0.6	G.C
El Monóxido de Carbono (CO)	V.ppm	<0,5	<0,2	G.C
El dióxido de carbono(CO2)	V.ppm	<0,5	<0,2	G.C
El hexafluoruro de azufre (SF6)	V.ppm	<0,2	<0,1	G.C
Trifluoromethane(CHF3).	V.ppm	<0,5	<0,1	G.C
Otros(OFC halocarbonos)*.	V.ppm	<1,0	<0,7	G.C
El total de los hidrocarburos (THC)*.	V.ppm	<0,5	<0,1	G.C
La humedad(H2O)	V.ppm	<0,5	<0,2	El analizador de humedad
La acidez(como HF)	V.ppm	<0,1	<0,08	El analizador de acidez
Contenido total de la impureza	V.ppm	≤10.0	<10.0	G.C
Particale(>0.1μm)	Pc/litro	<10.0	<1,0	ICP-MS

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