Gas hexafluoruro de azufre 5n% 99,999 de alta pureza para venta

• No CAS.: 2551-62-4
• Fórmula: sf6
• EINECS: 7783-82-6
• Constituyente: Aire Puro Industrial
• Estándar Grado: Grado Industrial
• Química de la propiedad: Tóxicos
• No. de Modelo.: SF6
• producto: sf6
• moq: 10pcs
• Paquete de Transporte: Cylinder, Canister, T-Drum, Y-Drum, ISO Tank
• Especificación: 20L, 40L, 200L, 280L or customized
• Marca Comercial: kaimei
• Origen: Suzhou
• Código del HS: 2812190091

Descripción de Producto

Especificaciones del producto:

El hexafluoruro de azufre se utiliza para el grabado en plasma antes de la deposición química de vapor (ECV). Sus usos incluyen grabado de óxido, grabado de nitruro, y limpieza de obleas. El hexafluoruro de azufre también se utiliza en los procesos de limpieza de cámaras de plasma.

Especificaciones:
 

Nombre del producto	Hexafluoruro de azufre
Tipo	SF6
Pureza	n5,0
Especificaciones del cilindro	47L / 470L
Contens. Llenado (20 °C)	50kg / 500kg
Presión de llenado (20 °C,-5%)	23 bares
Tipo de válvula	DISS 716
Aplicaciones	El campo semiconductor se utiliza en el proceso de deposición de vapor químico, debido a la alta resistencia a altas tensiones, como agente aislante para equipos eléctricos, gas de detección de fugas,   Y espectrómetro de la pausa en el laboratorio.

Tipo de paquete:


Información de la empresa:

Jiangsu Kaimei Electronic material  Co., Ltd está formado por personal capacitado, combina muchos años de experiencia en la industria del gas. Suministramos gas de botella, gas electrónico, etc ., y el gas de sostenedor, panel, válvulas y accesorios y otros equipos, piezas y servicios de ingeniería a nuestros clientes en China y en todo el mundo; Los productos están implicados en diversos campos industriales, como chip semiconductor, célula solar, LED, TFT-LCD, fibra óptica, Vidrio, láser, medicina, etc., nuestra misión es asociarse con nuestros clientes globales para proporcionar soporte, soluciones y productos de calidad innovadores, confiables y seguros.
Nuestros productos incluyen principalmente: H2, O2, N2, Ar, CO2, Propano, acetileno, helio, gas mezclado con láser, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, Nf3, SF6, HCL, N2O, gases mixtos dopantes (TMB, PH3, B2H6) y otros gases electrónicos.