Relleno falso Si sustrato de cristal 6 pulgadas oblea de silicio

• Manufacturing Technology: Integrated Circuits Device
• Material: Compound Semiconductor
• Type: P-type Semiconductor
• Package: Semi Standard
• Signal Processing: Na
• Application: Equipment
• No. de Modelo.: 6Inch
• Model: Custimize
• Batch Number: Na
• Brand: Fsm
• método de crecimiento: Cz
• orientación cristalina: 100
• dopante: boro
• resistividad: 1-100Ω
• Frront Side: pulido
• borde: pulido
• Paquete de Transporte: Semi Standard
• Especificación: TBD
• Marca Comercial: FSM
• Origen: China
• Código del HS: 3818001920
• Capacidad de Producción: 5000PCS/Month

Descripción de Producto

Descripción del producto

Parámetros del producto

Utilizar valor de referencia
 

Elemento	Especificación
Diámetro	150mm	200mm	300mm
Tipo	N.O REF	N.O REF	N.O REF
Muesca	SEMI/JEIDA	Muesca/DE	Muesca
Grosor (μm)	675±25/625±25	725±25	725±25
Superficie	Pulido	Pulido	Pulido
Dentro	Grabado	Grabado	Grabado
Paquete	Rollo de papel	Rollo de papel	Rollo de papel

150mm/200mm oblea de prueba
 

150MM
ESPECIFICACIONES	0,2um≤30ea
Diámetro (mm)	150±0,2mm
Tipo	P
Longitud de los OLIfra	57,5mm±2,5mm	47,5mm±2,5mm
Valor de resistencia ( Ω·cm )	1-100
Grosor (μm)	SEMI	JEIDA
	675um±25um	675um±25um
TTV (μm)	≤30um
ARCO (μm)	≤40um
WARP(μm)	≤40um
Impureza superficial	≤5,0E 10 átomo/cm²

 

200MM
ESPECIFICACIONES	0,2um≤30ea	-
Diámetro (mm)	200±0,2mm
Tipo	P
Orientación cristalina	<110>±1
Dirección de muesca
Valor de resistencia ( Ω·cm )	1-100
Grosor (μm)	725um±25um
TTV (μm)	≤25um	≤2um
ARCO (μm)	≤40um
WARP(μm)
LM	NO
Impureza superficial	≤5,0E 10 átomo/cm²

300mm oblea de prueba
 

300MM
ESPECIFICACIONES	0,045um≤50ea	0,065um≤50ea	0,09um<50ea	0,12um<50ea
Método de fabricación	CZ
Diámetro (mm)	300±0,2mm
Tipo/Dopant	P/boro
Orientación cristalina	<100>±1
Dirección de muesca
Valor de resistencia (Ω·cm)	1-100
Grosor (μm)	775±25
TTV (μm)	≤10
ARCO (μm)	≤40
WARP(μm)
LM	T7+ OCR
Impureza superficial	<1 E10 átomos/cm²

200mm/300mm oblea de óxido

 

	200MM	300MM
Espesor de óxido	500±25nm
Variación en el espesor del óxido (para una oblea)	<3%
Variación en el espesor del óxido (para varias obleas)	<3%
ESPECIFICACIONES	0.2μm≤30ea
Diámetro (mm)	200±0,2mm	300±0,2mm
Tipo	P
Orientación cristalina	<100>±1
Dirección de muesca	<100>±1
Valor de resistencia (Ω·cm)	1-100
Grosor (μm)	725±25
TTV (μm)	≤25	≤10
ARCO (μm)	≤40
WARP(μm)	≤40
Impureza superficial	≤5,0 E10 Atom/cm²	<1 E10 átomos/cm²

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R: Sí, podemos personalizar el material, las especificaciones y el revestimiento óptico para sus componentes ópticos en función de sus necesidades.

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