| Personalización: | Disponible |
|---|---|
| Aplicación: | semidesestándar |
| Material: | Semiconductor Compuesto |
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| Elemento | Especificación | ||
| Diámetro | 150mm | 200mm | 300mm |
| Tipo | N.O REF | N.O REF | N.O REF |
| Muesca | SEMI/JEIDA | Muesca/DE | Muesca |
| Grosor (μm) | 675±25/625±25 | 725±25 | 725±25 |
| Superficie | Pulido | Pulido | Pulido |
| Dentro | Grabado | Grabado | Grabado |
| Paquete | Rollo de papel | Rollo de papel | Rollo de papel |
150mm/200mm oblea de prueba - precisión para pruebas críticas
| 150MM | ||
| ESPECIFICACIONES | 0,2um≤30ea | |
| Diámetro (mm) | 150±0,2mm | |
| Tipo | P | |
| Longitud de los OLIfra | 57,5mm±2,5mm | 47,5mm±2,5mm |
| Valor de resistencia ( Ω·cm ) | 1-100 | |
| Grosor (μm) | SEMI | JEIDA |
| 675um±25um | 675um±25um | |
| TTV (μm) | ≤30um | |
| ARCO (μm) | ≤40um | |
| WARP(μm) | ≤40um | |
| Impureza superficial | ≤5,0E 10 átomo/cm² | |
| 200MM | ||
| ESPECIFICACIONES | 0,2um≤30ea | - |
| Diámetro (mm) | 200±0,2mm | |
| Tipo | P | |
| Orientación cristalina | <110>±1 | |
| Dirección de muesca | ||
| Valor de resistencia ( Ω·cm ) | 1-100 | |
| Grosor (μm) | 725um±25um | |
| TTV (μm) | ≤25um | ≤2um |
| ARCO (μm) | ≤40um | |
| WARP(μm) | ||
| LM | NO | |
| Impureza superficial | ≤5,0E 10 átomo/cm² | |
| 300MM | ||||
| ESPECIFICACIONES | 0,045um≤50ea | 0,065um≤50ea | 0,09um<50ea | 0,12um<50ea |
| Método de fabricación | CZ | |||
| Diámetro (mm) | 300±0,2mm | |||
| Tipo/Dopant | P/boro | |||
| Orientación cristalina | <100>±1 | |||
| Dirección de muesca | ||||
| Valor de resistencia (Ω·cm) | 1-100 | |||
| Grosor (μm) | 775±25 | |||
| TTV (μm) | ≤10 | |||
| ARCO (μm) | ≤40 | |||
| WARP(μm) | ||||
| LM | T7+ OCR | |||
| Impureza superficial | <1 E10 átomos/cm² | |||
| 200MM | 300MM | |
| Espesor de óxido | 500±25nm | |
| Variación en el espesor del óxido (para una oblea) |
<3% | |
| Variación en el espesor del óxido (para varias obleas) |
<3% | |
| ESPECIFICACIONES | 0.2μm≤30ea | |
| Diámetro (mm) | 200±0,2mm | 300±0,2mm |
| Tipo | P | |
| Orientación cristalina | <100>±1 | |
| Dirección de muesca | <100>±1 | |
| Valor de resistencia (Ω·cm) | 1-100 | |
| Grosor (μm) | 725±25 | |
| TTV (μm) | ≤25 | ≤10 |
| ARCO (μm) | ≤40 | |
| WARP(μm) | ≤40 | |
| Impureza superficial | ≤5,0 E10 Atom/cm² | <1 E10 átomos/cm² |
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