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El tetrafluoridees un refrigerante criogénico que es relativamente inerte en condiciones normales, un desplazador de oxígeno, y también se utiliza en varios procesos de grabado de obleas.
CF4 es actualmente el gas de grabado de plasma más utilizado en la industria microelectrónica. Puede ser ampliamente utilizado en el grabado de materiales de película fina como silicio, dióxido de silicio, nitruro de silicio, vidrio de fosfosilicato y tungsteno, y en la limpieza de superficies de dispositivos electrónicos y células solares. También se utiliza ampliamente en la producción de tecnología láser, aislamiento de fase gaseosa, refrigeración a baja temperatura, agentes de detección de fugas, control de la actitud de los cohetes espaciales, y agentes de descontaminación en la producción de circuitos impresos.
Debido a la estabilidad química del tetrafluoruro de carbono, el tetrafluoruro de carbono puede usarse en las industrias de fundición de metales y plásticos
Especificaciones:
| Especificaciones | Estándar de la empresa |
| CF4 | ≥ 99,999% |
| O2+AR | ≤ 1 ppm |
| N2 | ≤ 2 ppm |
| H2 | ≤ 0,3 ppm |
| CO | ≤ 0,3 ppm |
| CO2 | ≤ 0,3 ppm |
| SF6 | ≤ 0,3 ppm |
| THC | ≤ 0,3 ppm |
| OFC | ≤ 1 ppm |
| Humedad | ≤ 1 ppm |
P: ¿Qué son los productos de venta principales DE TAIYU?
R: Principalmente suministramos gases especiales y equipos de gas.
P: ¿Qué es el orden TAIYU MOQ?
R: Aconsejamos a nuestro cliente un contenedor al menos, de todos modos preferimos la demanda de nuestros clientes.
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Chengdu Taiyu Industrial gases Co., Ltd
Add:Room 1104, edificio 4th, Stage II, edificio Shudu Center, Zona de Alta Tecnología, Ciudad de Chengdu, China.
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