Función: | Almacenamiento de recipientes a presión |
---|---|
Aplicación: | Gas |
Material: | Acero inoxidable |
Presión: | 10.0MPa≤p <100.0MPa |
Medio de almacenamiento: | Food Grade CO2 |
Nivel de presión: | Alta Presión (10.0MPa ≤ p <100.0MPa) |
Proveedores con licencias comerciales verificadas
1. La aplicación y los detalles específicos De gases | ||||
La pureza del Helio (He) | ||||
La Aplicación principal: Se utiliza En El Estudio De la Temperatura de ultrabajo, Análisis de cromatografía de gases, la Soldadura de metales no ferrosos, Fuga, Química , la deposición en fase gas Crecimiento del cristal, La Configuración Del Plasma Seco, Mezcla especial, que Se utiliza Como Un Estándar de Gas, Balance de gas Gas medicas, Balón inflable Del tubo, Trajes de buceo, Etc... |
||||
El Nombre Del Gas | Especificaciones | El contenido de impurezas(10-6) | El estándar Número | |
Él | El 99, 999% | Ne≤4 O2≤1.0 H2≤1 ≤N2 ≤2 Co 0, 5 el CO2≤0.5 CH4≤0, 5 H2O≤3 | GB/T48443-1995 | |
Un 99, 995% | Ne≤15 S2≤3 ≤3 H2 N2≤10 CO≤1 de CO2≤1 CH4≤1 H2O≤10 | GB/T48442-1995 | ||
El óxido nitroso (N2O) | ||||
Propósito: 1. La Medicina Inmune: La Regulación de Presión arterial, La transmisión nerviosa, la Regulación fisiológica Y de la Función fisiológica Como La inhibición De La Agregación plaquetaria 2. Los campos de petroquímica: En El Campo De la Industria petroquímica Para Desarrollar Nuevas Aplicaciones, Utilizado En Una Reacción de polimerización Terminación 3. Otras Áreas: Refrigerantes, Accelerant, Conservantes, Materias Primas químicas, Espectrometría de absorción atómica Con Gas, la Fabricación de semiconductores Equilibrio con el Agente de la inyección de gas, la Oxidación de Gas estándar Y el Humo, Depresión, La Detección de fugas de Agente de cassette, Etc. |
||||
El Nombre Del Gas | Especificaciones | El contenido de impurezas(10-6) | El estándar Número | |
N2O. | El 99, 9% y un 99, 999% | CO≤5 Halógenas de CO2≤10 ¤0.2 La humedad≤100 NO, NO2≤0, 5 NH3≤5 | CP2005 Y T/H3901-1999 | |
La pureza del Argón (Ar) | ||||
Propósito: Se utiliza Para la Soldadura, Fabricación de acero inoxidable, Y la Fundición De Metales no ferrosos, También Se utiliza En El Proceso de fabricación de semiconductores Inchemical De Deposición de vapor, Crystal Sound Field, Una fuerte Oxidación, Extensión, Difusión, de Polisilicio, Tungsteno, la Implantación iónica, la Sinterización, Etc. ), utilizado Como Equilibrio cero estándar el gas, Gas, Gas, Cromatografía de gas Gas portador, Etc. |
||||
El Nombre Del Gas | Especificaciones | El contenido de impurezas(10-6) | El estándar Número | |
Ar | 99.9993% | N2≤4 O2≤1 H2≤1 THC≤1 H2O≤2.6 | GB/T4842-2006 | |
El 99, 999% | N2≤5 O2≤2 H2≤1 THC≤2 H2O≤4 | |||
El Dióxido de carbono de alta pureza | (CO2) | |||
Propósito: Láser, la Industria electrónica, el Refrigerante del reactor, La Investigación científica, Etc. | ||||
El Nombre Del Gas | Especificaciones | El contenido de impurezas(10-6) | El estándar Número | |
El CO2 | El 99, 99% | H2≤50 O 2≤10 N2≤50 CO≤5 THC≤5 H2O≤15 | El Estándar de la empresa | |
Un 99, 995% | H2≤20 S2≤ N2 5≤30 CO≤2 THC≤3 H2O≤8 | |||
El 99, 999% | H2≤5 O2≤1 ≤N2 3 Co 0, 5≤ THC≤2 H2O≤3 |
Proveedores con licencias comerciales verificadas