• Hcvac magnetrón pulverice el recubrimiento PVD/máquina estucadora vacío Sputter magnetrón
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Favoritos

Hcvac magnetrón pulverice el recubrimiento PVD/máquina estucadora vacío Sputter magnetrón

Servicio postventa: instalación y formación gratuitas, asistencia técnica
Garantía: garantía limitada de un año
Tipo: máquina de recubrimiento de vacío pvd
Revestimiento: Revestimiento de Vacío
Sustrato: Acero
Certificación: CE, ISO

Contactar al Proveedor

Miembro Diamante Desde 2009

Proveedores con licencias comerciales verificadas

Fabricante/Fábrica

Información Básica.

No. de Modelo.
Magnetron sputter
Condición
Nueva
escriba 1
espumador de magnetrón
modelo
jt-1214, jt-1418, jt-1619, jt-1820
cetificaión
ce, sgs, tuv
tamaño de la cámara
1250*1500mm, 1600*1800mm
tecnología de revestimiento
espumante de magnetrón+revestimiento iónico multiarco
película de recubrimiento
tin, tic, ticn, tialn, crn, cu, au, etc.
color del revestimiento
plata, oro, negro, rosa de oro, bronce, café
material de recubrimiento
acero inoxidable, aleación de metal, cerámica, vidrio, etc.
aplicación
joyería, reloj, teléfono móvil, etc
modo de control
control automático de pantalla táctil plc
Paquete de Transporte
Wooden Package
Especificación
customized
Marca Comercial
HCVAC
Origen
China Guangdong
Código del HS
8543300090

Descripción de Producto

Magnetrón pulverice el recubrimiento PVD/máquina estucadora vacío sputter magnetrón

Magnetrón Sputtering

¿Qué es el magnetrón sputtering tecnología?
Magnetrón sputtering PVD es otra forma de tecnología de recubrimiento.

El recubrimiento de plasma
Magnetrón sputtering es un proceso de recubrimiento de plasma en el cual se expulsa el material de sputtering debido al bombardeo de iones en el destino de la superficie. La cámara de vacío de la máquina de revestimiento PVD se llena con un gas inerte, como el argón. Mediante la aplicación de alta tensión, un resplandor de descarga es creado, provocando la aceleración de los iones en el destino de la superficie y un recubrimiento de plasma. Los iones de argón expulsará de sputtering materiales de la superficie (sputtering), resultando en una capa de recubrimiento sputtered sobre los productos en la parte frontal del objetivo.

Sputtering reactivo
A menudo un gas adicional como el nitrógeno o el acetileno es usado, que reaccionará con el material expulsado (sputtering reactivo). Una amplia gama de recubrimientos sputtered es alcanzable con esta técnica de recubrimiento PVD. Magnetrón sputtering tecnología es muy ventajoso para decretive coating (e. G. Ti, Cr, el ZR y carbono nitruros), debido a su buen carácter. La misma ventaja hace magnetrón sputtering ampliamente utilizado para el revestimiento tribológicas de los mercados en el sector automotriz (e. G. CrN, Cr2n y varias combinaciones con revestimiento DLC - Recubrimiento de carbono tipo diamante).

Hcvac Magnetron Sputter PVD Coating Machine/Magnetron Sputter Vacuum Coater

Campos magnéticos.
Magnetrón sputtering es algo diferente de la tecnología de sputtering general La diferencia es que magnetrón sputtering tecnología utiliza campos magnéticos para mantener el plasma en la parte delantera de la meta, intensificando el bombardeo de iones. Un plasma de alta densidad es el resultado de esta tecnología de recubrimiento PVD.

Magnetrón sputtering tecnología se caracteriza por:
Un objetivo refrigerado por agua, tan poco el calor se genera radiación
Casi cualquier objeto metálico material puede ser sputtered sin descomposición
Los materiales no conductores pueden ser sputtered mediante radio frecuencia (RF)
O la frecuencia media (MF) de potencia
Los recubrimientos de óxido se puede sputtered (sputtering reactivo)
Una excelente uniformidad de la capa
Los recubrimientos sputtered muy suave (sin gotitas)
Los cátodos (de hasta 2 metros de largo) se pueden utilizar en cualquier posición, por lo tanto alto
La flexibilidad de diseño del equipo de pulverización catódica

Hcvac Magnetron Sputter PVD Coating Machine/Magnetron Sputter Vacuum Coater

Huicheng fabrica y suministra todo tipo de máquinas de recubrimiento vacío PVD Ahora es el líder del mercado en el campo de tratamiento de alto vacío con los clientes de todo el mundo. Huicheng produce una gama completa de maquinaria, que se ofrecen diferentes tipos de procesos: alta evaporación al vacío, multi-arc, DC sputtering, MF magnetrón sputtering, continuo magnetrón sputtering línea, etc.


Aplica industrias:

Revestimiento de vacío de la superficie para ver&reloj, joyas, herramientas, plástico, hoja de acero inoxidable, etc.

Hcvac Magnetron Sputter PVD Coating Machine/Magnetron Sputter Vacuum Coater
Hcvac Magnetron Sputter PVD Coating Machine/Magnetron Sputter Vacuum Coater
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HCVAC puede ayudarle a entrar en el revestimiento PVD fácilmente por nuestra máquina de recubrimiento al vacío y la gama completa de servicio. Proporcionaremos con tecnología más adecuada según sus necesidades.

Vamos a hacer el revestimiento especial solución para cada cliente; combinar las técnicas de producción completa para satisfacer sus necesidades, para garantizar una alta eficiencia de producción.

Hcvac Magnetron Sputter PVD Coating Machine/Magnetron Sputter Vacuum Coater


Contacto: Lillian Yang

 


Envíenos sus requisitos detallados. Vamos a ofrecer la mejor solución para usted!



Parámetros técnicos:
Mode
La dimensión
JTL-900. JTL-1100 JTL-1300 JTL-1600
Φ9001000mm Φ11001000mm Φ13001200 mm Φ16001200 mm
 
Modo de recubrimiento y de las principales confirguration
El arco eléctrico de 3+2 pares de cátodo rectangular plano El arco eléctrico de 6+2 pares de cátodo cilíndrico+a pares de cátodo rectangular plano El arco eléctrico de 5+4 pares  de cátodo cilíndrico+a pares de cátodo rectangular plano El arco eléctrico de 6+8 pares de cátodo cilíndrico+a pares de cátodo rectangular plano
Aplicación El revestimiento decorativo de metal
Tipos de película    Películas de metal, películas, películas compuesto dieléctrico,películas de reacción de la función de la capa de Muti,películas
Fuente de alimentación Fuente de alimentación de arco eléctrico,DC magnetrón fuente de alimentación, fuente de alimentación de MF magnetrón.fuente de alimentación de tensión de polarización de pulso.fuente de iones fuente de alimentación.
Control de gases de proceso Caudalímetro de calidad + el electromagnetismo de la válvula de cerámica
Estructura de la cámara de vacío Un solo lado) Vertical(puerta, el sistema de bombeo postposition, el doble de refrigeración por agua
Sistema de vacío. Molécula bombas bomba de difusión)+bomba Roots +bomba mecánica  (8,0*10 -4 Pa)
Velocidad de bombeo El bombeo de tiempo inferior a 15 minutos ,de la presión atmosférica a 310 -3 Pa
La temperatura de cocción de pieza.  
La temperatura normal de 350 centésimas de grado de control PID, radiante.
Modo de movimiento de la pieza Control de frecuencia de rotación de público: 0-20 la rotación por minuto.
Modo de medición Compuesto de visualización del número de manómetro de vacío: de la atmósfera a 1.0*10 -5 Pa
Modo de control La completa automatización del sistema de control PC+PLC/PC+HMI
Comentario Podemos diseñar la dimensión de los equipos a los clientes según técnica especial exigencia.


¿Por qué un sistema HCVAC?
 
Más de 1.000 plantas instaladas en todo el mundo
Los tiempos de ciclo rápido
Alta capacidad de producción con bajo consumo de energía
Más tiempo debido a la facilidad de carga/descarga y de bajo mantenimiento.
Alta productividad con un solo operador
Proceso de acero de salas, construido para durar
Eco-friendly
Diseño compacto
PVD opción disponible en todas las plantas
1 año de garantía del componente y 12 años de vida laboral mínima garantizada
Completar la red global de consultoría, ingeniería y el famoso servicio posventa

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