• Máquina de plating PVD de vacío de iones Hcvac IPG
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Máquina de plating PVD de vacío de iones Hcvac IPG

Servicio postventa: instalación y formación gratuitas, soporte técnico,
Garantía: garantía limitada de un año
Tipo: máquina de recubrimiento de vacío pvd
Revestimiento: Revestimiento de Vacío
Sustrato: Acero
Certificación: CE, ISO

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Miembro Diamante Desde 2009

Proveedores con licencias comerciales verificadas

Fabricante/Fábrica
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Visión General

Información Básica.

No. de Modelo.
HCMS-series
Condición
Nueva
aplicación
revestimiento decorativo, ampliamente utilizado en la joyería de revestimiento
período de mantenimiento
un año de garantía limitada, mantenimiento de por vida
servicio postventa
ingenieros disponibles para el mantenimiento de maquinaria en el extranjero
tipo de negocio
fabricación+comercio
tecnología de revestimiento
mf sputtering, dc sputtering, arco cátodo sputter
servicio
entrega, formación, soluciones profesionales
marca
hcvac
material
hecho de sus304
color
oro, oro rosa, plata, cobre, azul, negro, etc.
Paquete de Transporte
Wooden Package
Especificación
Personalizado
Marca Comercial
HCVAC
Origen
China Guangdong
Código del HS
8543300090

Descripción de Producto

HCVAC IPG iónica de la máquina de chapado para joyas

La máquina de placas de iones IPG para joyería se utilizó ampliamente en la industria de la joyería, el reloj. Tres tecnologías integradas de espumación de magnetrón dc, espumación de frecuencia media y evaporación de iones de arco eléctrico, combinando la fuente de ionización lineal y el revestimiento de polarización de pulso para delinear las partículas de deposición. Las diferentes prestaciones de la película se han mejorado y pueden cubrir película de aleación, película compuesta, película compuesta multicapa en la superficie del metal y no metal. Después de años de I+D dedicado por nuestro ingeniero, a través de un único sistema de arco eléctrico catódico y magnetrón desequilibrado, desarrollamos un paquete de la serie PROPOWER de sistema de control automático por ordenador. Hace la densidad de adhesión de la película de recubrimiento, así como una buena consistencia compleja, y resuelve los problemas de la complejidad de la operación manual, inconsistencias de color de la película, etc.

Característica:

1. El principio del esputo de magnetrón se basa en la teoría de la descarga de la luz del cátodo, expandiendo el campo magnético de la superficie del cátodo cerca de la superficie de la pieza, para aumentar la tasa ionizada de los átomos de esputo. Retiene lo delicado del magnetrón que escupe y aumentó el brillo.

2. El rendimiento de la fuente de evaporación de plasma de arco eléctrico es fiable, puede trabajar bajo la corriente 30A cuando optimizar el catódico y el recubrimiento de la estructura del campo magnético, y la película de recubrimiento y la interfaz de sustrato producen difusión atómica, más la característica de la deposición asistida por el haz de iones.

Industria aplicada: El equipo se utiliza ampliamente en relojes IPG, relojes IPS y relojes, armas IP, teléfono móvil, hardware, sanitarios, Cortadores, herramientas antifricción, troqueles y moldes, etc. puede cubrir estaño, TiCN, CrN, TiAlN, TinBu, TiCrN, ZrN, y varios tipos de diamantes película (DLC).




Para más información, por favor no dude en contactarnos o visite nuestro sitio web: dg-huicheng.en.made-in-china.com!


Persona de contacto: Kelly
Modo
Dimensión
JTL-900 JTL-1100 JTL-1250
900*1000mm 1100*1000mm 1250*1500mm

 Modo de recubrimiento y.
  confirmación principal
Seis  objetivos multiarco + un conjunto de  
 blancos de columna + un conjunto de planos  
   objetivos de espumación de magnetrón rectangular  

Seis  objetivos multiarco +  un par de
   Espumante de magnetrón doble (MF)  
objetivos
Doce  objetivos multiarco + dos sets
 de  magnetrón rectangular plano  
 escupando objetivos +  un par de
    Dianas de espita de magnetrón doble (MF)
 Fuente de alimentación     Potencia de arco eléctrico,   potencia de magnetrón de CC,   potencia de magnetrón de MF,  potencia de filamento,  potencia de pulso,    fuente ionizada lineal.
  Control de gas de proceso  Caudalímetro de calidad +   válvula cerámica electromagnetismo
  Estructura de la cámara de vacío   Puerta vertical simple (lateral),   postposición del sistema de bomba,  refrigeración doble por agua
 Sistema de vacío  Bomba de molécula + bomba de raíces + bomba mecánica (5,0*10-5Pa)
 Bomba de difusión + bomba de raíces + bomba mecánica (5,0*10-4PA)
 Cocción a pieza
 temperatura

 Temperatura normal a 350 centi-grado control PID , calor de radiación .
  Modo de movimiento de la pieza  Rotación pública  Control de frecuencia: 0-20 rotación por minuto
 Modo de medición Indicador  de vacío compuesto de pantalla numérica : De la atmósfera a 1,0*10-5Pa
 Modo de control Manual/automático/PC/PLC + HMI/PC  cuatro opciones de  modo de control
Observación  Podemos diseñar  la dimensión   del equipo de acuerdo     con los requisitos técnicos especiales del cliente.
 


Hcvac Ipg Ion Vacuum PVD Plating Machine
Hcvac Ipg Ion Vacuum PVD Plating Machine
 
Parámetros del producto
Modelo
(personalizar)
HCCA-1215 HCCA-1818 HCCA-2236 HCCA-2545 HCCA-2270
Dimensión D1250*H1500mm D1800*H1800mm D2200*H3600mm D2500*H4500mm D2200*H7000mm
Capacidad de carga 1000*1300mm máx 1500*1500mm máx Hoja:1250*2500mm  
4 piezas/lote
Hoja:1250*2500mm  
6 piezas/lote
Hoja:1250*2500mm 10 piezas/Lote
           
Tamaño de la máquina L5*W5*H2M L6*W6*H2,5M L6*W8*H11,5M L8*W8*H12,5M L20*W8*H2,5M
Fuente de alimentación Energía de arco eléctrico, energía de filamento,   fuente de alimentación de polarización pulsada
Control de gas de proceso Caudalímetro de masa + válvula cerámica electromagnética
Cámara de vacío
estructura  
Puerta de apertura superior vertical o puerta delantera abierta horizontal, posición del sistema de bombeo, refrigeración por agua doble  
Sistema de vacío Bomba de difusión + bomba de raíces + bomba mecánica (5,0*10-4PA)
Temperatura de cocción de la pieza Temperatura normal a 350 centi-grado control PID, calor de radiación.
Modo de movimiento de la pieza Rotación pública Control de frecuencia: 0-20 rotación por minuto
Modo de medición Indicador de vacío compuesto de pantalla numérica: De la atmósfera a 1,0*10-5Pa
Modo de control Manual/automático/PC/PLC + HMI/PC cuatro opciones de modo de control  
Observación Podemos diseñar la dimensión del equipo de acuerdo con los requisitos técnicos especiales del cliente.
Perfil de la empresa

Hcvac Ipg Ion Vacuum PVD Plating MachineHcvac Ipg Ion Vacuum PVD Plating Machine
Taller:
Hcvac Ipg Ion Vacuum PVD Plating Machine

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