99,999% de alta pureza Tantalum ta esputtering Target Plate /Tantalum ta Objetivo de metal

• Aplicación: Industrial
• fórmula: tantalio
• clasificación: Metal Traget
• estándar de grado: grado industrial
• certificación: iso
• forma: Rotary,Flat,Round
• No. de Modelo.: CYT-TA
• Paquete de Transporte: Wooden Box
• Especificación: Customized Size
• Marca Comercial: CANYUAN
• Origen: China
• Capacidad de Producción: 1000PCS

Descripción de Producto

 

El tantalio puro tiene un color ligeramente azul y una excelente ductilidad. Puede enrollarse en placas muy finas (menos de 0,01 mm) sin recocido intermedio en estado frío. La resistencia a la corrosión del tantalio es la misma que la del vidrio. El tantalio metálico es estable en el aire a temperatura ambiente. Cuando se calienta a más de 500°C, oxidación y se convierte en forma Ta205. El tántalo tiene una serie de excelentes propiedades como un alto punto de fusión, baja presión de vapor, buen rendimiento en frío, alta estabilidad química, fuerte resistencia a la corrosión de metales líquidos, y una gran constante dieléctrica de la película de óxido superficial. Es ampliamente utilizado en electrónica, metalurgia, acero, industria química, metal duro, Tiene importantes aplicaciones en campos de alta tecnología como la energía atómica, la tecnología de superconducción, la electrónica de automoción, la industria aeroespacial, la atención médica y médica, y la investigación científica.
Los objetivos de tántalo se utilizan principalmente en recubrimientos de semiconductores y recubrimientos ópticos.
Los objetivos de tántalo se pueden hacer en tipos planos y rotatorios, las especificaciones y la pureza se pueden personalizar. La siguiente imagen es la tabla de análisis de composición de la meta de tántalo de alta pureza 3N5:

 

Especificación de objetivos
Aplicación	Materiales de pulverización PVD
Material	Tantalio
Pureza	3N5
Tamaño	personalizado
Grosor	personalizado
Forma	Objetivo de pulverización de cromo rotatorio, tipo de anillo, tipo de hoja, tipo de plat y tipo de tubo
Densidad	16,68g/cm3
Punto de fusión	2980 ºC
Método de producción	CADERA

Nuestra ventaja

Proceso de operación

Imagen de embalaje

Aplicación:

Producto relacionado

Material	Pureza N)	Componentes (peso %)	Densidad	Fusión  Punto	Térmica Conductividad (WM-1K-1)	Coeficiente de  expansión (10-6k-1)	Producción  Proceso
Aleación al	5N	-	2,7	660	235	23,1	Fundición
CR	3N5	-	7,22	1907	94	4,9	CADERA
Cu	4N	-	8,9	1084	400	16,5	Fundición
Aleación MO	3N5	-	10,28	2623	139	4,8	CADERA
N.	4N	-	8,6	2477	54	7,3	Fundición
Ta	4N	-	16,7	3017	57	6,3	Fundición
Si	4N	-	2,33	1414	150	2,6	Sintering&Spray
TI	5N	-	4,5	1670	22	8,6	Fundición
W	4N	-	19,25	3422	174	4,5	CADERA
AZO	3N5	98:2	5,6	1975	22	1,5	Sintering
ITO	4N	90:10	7,15	2000	15	2,0	Sintering
GZO	3N5	COMO SE SOLICITA	7,15	-	-	-	Sintering
IGZO	4N	COMO SE SOLICITA	-	-	-	-	Sintering
NbOx	4N	-	4,6	1460	5	1,5	Sintering&Spray
TIOx	4N	-	4,23	1800	4	7,14	Sintering&Spray