• 99,99% Round Nbo2 esputtering objetivo Cerámica objetivos para recubrimiento de vacío
  • 99,99% Round Nbo2 esputtering objetivo Cerámica objetivos para recubrimiento de vacío
  • 99,99% Round Nbo2 esputtering objetivo Cerámica objetivos para recubrimiento de vacío
  • 99,99% Round Nbo2 esputtering objetivo Cerámica objetivos para recubrimiento de vacío
  • 99,99% Round Nbo2 esputtering objetivo Cerámica objetivos para recubrimiento de vacío
  • 99,99% Round Nbo2 esputtering objetivo Cerámica objetivos para recubrimiento de vacío
Favoritos

99,99% Round Nbo2 esputtering objetivo Cerámica objetivos para recubrimiento de vacío

Application: Industrial
fórmula: óxido de niobio
clasificación: Ceranic Traget
estándar de grado: grado industrial
certificación: iso
forma: Rotary,Flat,Round

Contactar al Proveedor

Miembro de Oro Desde 2023

Proveedores con licencias comerciales verificadas

Guangdong, China
para ver todas las etiquetas de fortaleza verificadas (14)

Información Básica.

No. de Modelo.
CYT-NbO2
Paquete de Transporte
Wooden Box
Especificación
Customized Size
Marca Comercial
CANYUAN
Origen
China
Capacidad de Producción
1000PCS

Descripción de Producto

99.99% Round Nbo2 Sputtering Target Ceramic Targets for Vacuum CoatingDESCRIPCIÓN DEL PRODUCTO

EL objetivo AZO es un objetivo de óxido de zinc aluminio, compuesto principalmente de óxido de zinc dopado con óxido de aluminio, que es un material semiconductor tipo N. La sinterización del objetivo AZO se realiza generalmente usando sinterización a presión atmosférica, sinterización en caliente y sinterización atmosférica.

El método más común de sinterización es la sinterización de presión atmosférica; los métodos comunes de formación incluyen prensado seco y prensado isostático frío.

El objetivo de rotación AZO se realiza mediante proceso de prensado en frío y sinterizado, y se une al tubo posterior. El tamaño puede personalizarse según las necesidades del cliente.

El objetivo plano AZO se realiza mediante el proceso de sinterizado de la inyección y se deposita en la placa posterior. El tamaño puede personalizarse según las necesidades del cliente.

Parámetros técnicos

Pureza: 99,95%, 99,99%; resistividad (20C): ≤1x10Ω.cm.

Relación común: ZnO:Al2O3=98:2 (peso%).

Áreas de aplicación: Electrodos para células solares de película fina, vidrio conductivo transparente y películas flexibles, pantallas de plasma, reflexión y protección por infrarrojos, y otros campos.

Podemos hacer objetivos planos AZO y rotativos de esputo.
La especificación y la pureza se pueden personalizar.
La tabla de descripción y análisis de composición de 4N
AZO
  como se indica a continuación:
  Especificación de objetivos
Aplicación Materiales de pulverización PVD
Material AZO (ZnO:Al2O3)
Pureza 4N
Tamaño personalizado
Grosor personalizado
Forma Objetivo de pulverización giratoria, Tipo de anillo, Tipo de hoja, Tipo de plat y Tipo de tubo
Densidad -g/cm3
Punto de fusión -ºC
Método de producción CADERA

99.99% Round Nbo2 Sputtering Target Ceramic Targets for Vacuum Coating
Nuestra ventaja
99.99% Round Nbo2 Sputtering Target Ceramic Targets for Vacuum Coating
99.99% Round Nbo2 Sputtering Target Ceramic Targets for Vacuum Coating


Proceso de operación
99.99% Round Nbo2 Sputtering Target Ceramic Targets for Vacuum Coating
99.99% Round Nbo2 Sputtering Target Ceramic Targets for Vacuum Coating

Imagen de embalaje
99.99% Round Nbo2 Sputtering Target Ceramic Targets for Vacuum Coating
99.99% Round Nbo2 Sputtering Target Ceramic Targets for Vacuum Coating
99.99% Round Nbo2 Sputtering Target Ceramic Targets for Vacuum Coating


Aplicación:
99.99% Round Nbo2 Sputtering Target Ceramic Targets for Vacuum Coating
99.99% Round Nbo2 Sputtering Target Ceramic Targets for Vacuum Coating
99.99% Round Nbo2 Sputtering Target Ceramic Targets for Vacuum Coating

Producto relacionado
Material Pureza
N)
Componentes
(peso %)
Densidad Fusión
 Punto
Térmica
Conductividad
(WM-1K-1)
Coeficiente de
 expansión
(10-6k-1)
Producción
 Proceso
Aleación al 5N - 2,7 660 235 23,1 Fundición
CR 3N5 - 7,22 1907 94 4,9 CADERA
Cu 4N - 8,9 1084 400 16,5 Fundición
Aleación MO 3N5 - 10,28 2623 139 4,8 CADERA
N. 4N - 8,6 2477 54 7,3 Fundición
Ta 4N - 16,7 3017 57 6,3 Fundición
Si 4N - 2,33 1414 150 2,6 Sintering&Spray
TI 5N - 4,5 1670 22 8,6 Fundición
W 4N - 19,25 3422 174 4,5 CADERA
AZO 3N5 98:2 5,6 1975 22 1,5 Sintering
ITO 4N 90:10 7,15 2000 15 2,0 Sintering
GZO 3N5 COMO SE SOLICITA 7,15 - - - Sintering
IGZO 4N COMO SE SOLICITA - - - - Sintering
NbOx 4N - 4,6 1460 5 1,5 Sintering&Spray
TIOx 4N - 4,23 1800 4 7,14 Sintering&Spray
 

Enviar directamente tu consulta a este proveedor

*De:
*A:
*Mensaje:

Pone entre 20 y 4000 caracteres.

Esto no es lo que buscas? Publique Solicitud de Compra Ahora

Buscar Productos Similares Por Categoría

Página Web del Proveedor Productos Objetivo cerámico 99,99% Round Nbo2 esputtering objetivo Cerámica objetivos para recubrimiento de vacío

Também Poderá Querer

Contactar al Proveedor

Miembro de Oro Desde 2023

Proveedores con licencias comerciales verificadas

Fabricante/Fábrica
Productos Principales
Sputtering Target
Número de Empleados
6