• 99,95% Alta pureza RU Rutenio esputtering Target Plate / RU Blanco de metal rutenio
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99,95% Alta pureza RU Rutenio esputtering Target Plate / RU Blanco de metal rutenio

Application: Industrial
fórmula: rutenio
clasificación: Metal Traget
estándar de grado: grado industrial
certificación: iso
forma: Rotary,Flat,Round

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Proveedores con licencias comerciales verificadas

Guangdong, China
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Información Básica.

No. de Modelo.
CYT-Ru
Paquete de Transporte
Wooden Box
Especificación
Customized Size
Marca Comercial
CANYUAN
Origen
China
Capacidad de Producción
1000PCS

Descripción de Producto


 
99.95% High Purity Ru Ruthenium Sputtering Target Plate / Ru Ruthenium Metal Target
El rutenio, también conocido como RU, es un elemento metálico raro, difícil, frágil, gris claro y polivalente. Es miembro del grupo de platino de metales y es uno de los metales más rajantes de las tierras. El rutenio es muy estable y altamente resistente a la corrosión. El rutenio tiene una excelente actividad catalítica, buena conductividad eléctrica, alta resistencia a la temperatura y resistencia a la corrosión. Actualmente, la mayoría del rutenio se utiliza en la producción de discos duros de grabación perpendicular, y también se utiliza ampliamente en la industria electrónica, la industria química, la industria electroquímica y otros campos de alta tecnología.

Los materiales de rutenio objetivo se utilizan generalmente como aditivos elementales en la fabricación de aleaciones de alta temperatura a base de níquel para turbinas de gas industriales y de aviación.

Los materiales rutenio que podemos hacer incluyen alambre de rutenio, partículas de rutenio, blancos de esputo de platino, etc.
Las especificaciones y la pureza pueden personalizarse.
La tabla de análisis de composición de  la meta de rutenio de alta pureza 3N5 como se indica a continuación;
  Especificación de objetivos
Aplicación Materiales de pulverización PVD
Material Rutenio  
Pureza 3N5
Tamaño personalizado
Grosor personalizado
Forma Objetivo de pulverización giratoria, Tipo de anillo, Tipo de hoja, Tipo de plat y Tipo de tubo
Densidad 21,45g/cm3
Punto de fusión 1772ºC.
Método de producción fundición
99.95% High Purity Ru Ruthenium Sputtering Target Plate / Ru Ruthenium Metal Target


Nuestra ventaja
99.95% High Purity Ru Ruthenium Sputtering Target Plate / Ru Ruthenium Metal Target
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Proceso de operación
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Imagen de embalaje
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Aplicación:
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Producto relacionado
Material Pureza
N)
Componentes
(peso %)
Densidad Fusión
 Punto
Térmica
Conductividad
(WM-1K-1)
Coeficiente de
 expansión
(10-6k-1)
Producción
 Proceso
Aleación al 5N - 2,7 660 235 23,1 Fundición
CR 3N5 - 7,22 1907 94 4,9 CADERA
Cu 4N - 8,9 1084 400 16,5 Fundición
Aleación MO 3N5 - 10,28 2623 139 4,8 CADERA
N. 4N - 8,6 2477 54 7,3 Fundición
Ta 4N - 16,7 3017 57 6,3 Fundición
Si 4N - 2,33 1414 150 2,6 Sintering&Spray
TI 5N - 4,5 1670 22 8,6 Fundición
W 4N - 19,25 3422 174 4,5 CADERA
AZO 3N5 98:2 5,6 1975 22 1,5 Sintering
ITO 4N 90:10 7,15 2000 15 2,0 Sintering
GZO 3N5 COMO SE SOLICITA 7,15 - - - Sintering
IGZO 4N COMO SE SOLICITA - - - - Sintering
NbOx 4N - 4,6 1460 5 1,5 Sintering&Spray
TIOx 4N - 4,23 1800 4 7,14 Sintering&Spray
 

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Fabricante/Fábrica
Productos Principales
Sputtering Target
Número de Empleados
6