• 99,95% de alta pureza PD paladio esputante placa de destino / PD Paladio Metal Target
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99,95% de alta pureza PD paladio esputante placa de destino / PD Paladio Metal Target

Application: Industrial
fórmula: paladio
clasificación: Metal Traget
estándar de grado: grado industrial
certificación: iso
forma: Rotary,Flat,Round

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Proveedores con licencias comerciales verificadas

Guangdong, China
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Información Básica.

No. de Modelo.
CYT-Pd
Paquete de Transporte
Wooden Box
Especificación
Customized Size
Marca Comercial
CANYUAN
Origen
China
Capacidad de Producción
1000PCS

Descripción de Producto


 
99.95% High Purity Pd Palladium Sputtering Target Plate / Pd Palladium Metal Target
Palladium es un metal de transición blanco-plateado. Es suave, tiene buena ductilidad y plasticidad que puede ser forjado, laminado y dibujado.
Palladium es un material clave indispensable en campos de alta tecnología como el aeroespacial y la aviación, así como en la industria de fabricación de automóviles. También es una especie de inversión que no puede ser ignorada en el mercado internacional de inversión de metales preciosos. El paladio se utiliza principalmente como catalizador en química y también se utiliza en la fabricación de materiales dentales, relojes e instrumentos quirúrgicos.
Los materiales de esputo de paladio pueden usarse en el revestimiento de película fina, CD-ROM, decoración, pantallas planas, recubrimiento funcional, Y otras industrias espaciales de almacenamiento de información óptica, industrias de revestimiento de vidrio como vidrio de automoción y vidrio arquitectónico, comunicaciones ópticas, etc. otras aplicaciones importantes del metal de paladio incluyen el uso como catalizadores, un catalizador clave en la producción de poliéster, eliminando las emisiones perjudiciales de los motores de combustión interna,  desarrollo de materias primas para caucho sintético y nylon.
Podemos hacer cables de paladio, partículas de paladio, objetivos de paladio, etc.
 
  Especificación de objetivos
Aplicación Materiales de pulverización PVD
Material Paladio
Pureza 4N
Tamaño personalizado
Grosor personalizado
Forma Objetivo de pulverización giratoria, Tipo de anillo, Tipo de hoja, Tipo de plat y Tipo de tubo
Densidad 7,28g/cm3
Punto de fusión 22600ºC.
Método de producción fundición

99.95% High Purity Pd Palladium Sputtering Target Plate / Pd Palladium Metal Target

Nuestra ventaja
99.95% High Purity Pd Palladium Sputtering Target Plate / Pd Palladium Metal Target
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Proceso de operación
99.95% High Purity Pd Palladium Sputtering Target Plate / Pd Palladium Metal Target
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Imagen de embalaje
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Aplicación:
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Material Pureza
N)
Componentes
(peso %)
Densidad Fusión
 Punto
Térmica
Conductividad
(WM-1K-1)
Coeficiente de
 expansión
(10-6k-1)
Producción
 Proceso
Aleación al 5N - 2,7 660 235 23,1 Fundición
CR 3N5 - 7,22 1907 94 4,9 CADERA
Cu 4N - 8,9 1084 400 16,5 Fundición
Aleación MO 3N5 - 10,28 2623 139 4,8 CADERA
N. 4N - 8,6 2477 54 7,3 Fundición
Ta 4N - 16,7 3017 57 6,3 Fundición
Si 4N - 2,33 1414 150 2,6 Sintering&Spray
TI 5N - 4,5 1670 22 8,6 Fundición
W 4N - 19,25 3422 174 4,5 CADERA
AZO 3N5 98:2 5,6 1975 22 1,5 Sintering
ITO 4N 90:10 7,15 2000 15 2,0 Sintering
GZO 3N5 COMO SE SOLICITA 7,15 - - - Sintering
IGZO 4N COMO SE SOLICITA - - - - Sintering
NbOx 4N - 4,6 1460 5 1,5 Sintering&Spray
TIOx 4N - 4,23 1800 4 7,14 Sintering&Spray
 

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Fabricante/Fábrica
Productos Principales
Sputtering Target
Número de Empleados
6