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Placa de destino de pulverización de Iridiu de infrarrojos de alta pureza al 99,95% Iridiu Metal Target

Application: Industrial
fórmula: iridium
clasificación: Metal Traget
estándar de grado: grado industrial
certificación: iso
forma: Rotary,Flat,Round

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Proveedores con licencias comerciales verificadas

Guangdong, China
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Información Básica.

No. de Modelo.
CYT-IR
Paquete de Transporte
Wooden Box
Especificación
Customized Size
Marca Comercial
CANYUAN
Origen
China
Capacidad de Producción
1000PCS

Descripción de Producto


 
99.95% High Purity IR Iridiu Sputtering Target Plate / IR Iridiu Metal Target
El iridio es blanco como el platino, con un poco de tinte amarillento. El iridio es duro y frágil, su punto de fusión es muy alto, por lo que es difícil de plastificar y moldear. Por lo tanto, el proceso de fabricación generalmente utiliza la metalurgia del polvo. Iridium es el único metal que mantiene excelentes propiedades mecánicas en el aire por encima de 1600 °C. Su punto de ebullición es extremadamente alto, con 10th entre todos los elementos. El iridio es uno de los metales más resistentes a la corrosión. Puede soportar casi todos los ácidos, aguamarina, metal fundido, e incluso silicatos a altas temperaturas.

Los objetivos de esputo Iridium se utilizan para deposición de película fina y se utilizan normalmente en celdas de combustible, decoración, semiconductores, displays, LED, y equipos fotovoltaicos, revestimiento de vidrio, etc.

Los materiales de iridio incluyen alambre de iridio, partículas de iridio, dianas de esputo de iridio, etc.; la pureza y las especificaciones pueden ser personalizadas. Otras formas de aleación de dianas de iridio incluyen el rodio de iridio, aleaciones de platino de iridio, etc.
La siguiente figura es una tabla de análisis de composición química de blanco de iridio de alta pureza 3N5:

Otras aplicaciones del iridio:

1.endurecedor de aleaciones especiales;
2.la aleación de rodio-iridio puede utilizarse para fabricar termopares de alta temperatura;
3.la aleación de iridio-tungsteno puede utilizarse como materiales de resorte de alta temperatura;
4.crisol de iridio, partes de instrumentos, alambres metálicos para instrumentos de vacío de alta temperatura, contactos eléctricos, etc.;
5.utilizado como catalizador para reacciones como hidrogenación, desoxigenación y oxidación;
6.las películas Iridium se utilizan como películas protectoras o contactos eléctricos de servicio pesado.
  Especificación de objetivos
Aplicación Materiales de pulverización PVD
Material Iridium
Pureza 3N5
Tamaño personalizado
Grosor personalizado
Forma Objetivo de pulverización giratoria, Tipo de anillo, Tipo de hoja, Tipo de plat y Tipo de tubo
Densidad 21,45g/cm3
Punto de fusión 1772ºC.
Método de producción Polvo

99.95% High Purity IR Iridiu Sputtering Target Plate / IR Iridiu Metal Target

Nuestra ventaja
99.95% High Purity IR Iridiu Sputtering Target Plate / IR Iridiu Metal Target
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Proceso de operación
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Imagen de embalaje
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Aplicación:
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Producto relacionado
Material Pureza
N)
Componentes
(peso %)
Densidad Fusión
 Punto
Térmica
Conductividad
(WM-1K-1)
Coeficiente de
 expansión
(10-6k-1)
Producción
 Proceso
Aleación al 5N - 2,7 660 235 23,1 Fundición
CR 3N5 - 7,22 1907 94 4,9 CADERA
Cu 4N - 8,9 1084 400 16,5 Fundición
Aleación MO 3N5 - 10,28 2623 139 4,8 CADERA
N. 4N - 8,6 2477 54 7,3 Fundición
Ta 4N - 16,7 3017 57 6,3 Fundición
Si 4N - 2,33 1414 150 2,6 Sintering&Spray
TI 5N - 4,5 1670 22 8,6 Fundición
W 4N - 19,25 3422 174 4,5 CADERA
AZO 3N5 98:2 5,6 1975 22 1,5 Sintering
ITO 4N 90:10 7,15 2000 15 2,0 Sintering
GZO 3N5 COMO SE SOLICITA 7,15 - - - Sintering
IGZO 4N COMO SE SOLICITA - - - - Sintering
NbOx 4N - 4,6 1460 5 1,5 Sintering&Spray
TIOx 4N - 4,23 1800 4 7,14 Sintering&Spray
 

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Fabricante/Fábrica
Productos Principales
Sputtering Target
Número de Empleados
6