• 4N objetivo de alúmina Al2O3 objetivo, objetivos rotativos de óxido de aluminio/objetivos planos
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4N objetivo de alúmina Al2O3 objetivo, objetivos rotativos de óxido de aluminio/objetivos planos

Application: Industrial
fórmula: Alumimium Oxide
clasificación: Ceramic Traget
estándar de grado: grado industrial
certificación: iso
forma: Rotary,Flat,Round

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Proveedores con licencias comerciales verificadas

Guangdong, China
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Información Básica.

No. de Modelo.
CYT-AL2O3
Paquete de Transporte
Wooden Box
Especificación
Customized Size
Marca Comercial
CANYUAN
Origen
China
Capacidad de Producción
1000PCS

Descripción de Producto

4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
DESCRIPCIÓN DEL PRODUCTO

Los materiales objetivo de alúmina se obtienen mediante procesos de prensado en caliente al vacío y sinterización atmosférica para obtener blancos objetivo de alúmina, que luego se mecanizan para producir el objetivo final. Los blancos rotatorios suelen estar ligados a un tubo de apoyo para su uso, mientras que los blancos planos se utilizan en procesos de sinterización por vacío.

Se recomienda utilizar el objetivo de superficie conectado a un plano posterior de cobre y el tamaño se puede personalizar de acuerdo con los requisitos del cliente.

Parámetros técnicos

Pureza: 99,99%.

Áreas de aplicación: Equipo mecánico, campo óptico, campo microelectrónico, semiconductor.
Podemos hacer OBJETIVOS planos AL2O3 y rotativos de pulverización.
La especificación y la pureza se pueden personalizar.
La tabla de análisis de descripción y composición de 4N
AL2O3
 , como se indica a continuación:
  Especificación de objetivos
Aplicación Materiales de pulverización PVD
Material Al2O3 (óxido de aluminio)
Pureza 4N
Tamaño personalizado
Grosor personalizado
Forma Objetivo de pulverización giratoria, Tipo de anillo, Tipo de hoja, Tipo de plat y Tipo de tubo
Densidad -g/cm3
Punto de fusión -ºC
Método de producción CADERA

4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
Nuestra ventaja
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
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Proceso de operación
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
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Imagen de embalaje
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
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Aplicación:
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
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Material Pureza
N)
Componentes
(peso %)
Densidad Fusión
 Punto
Térmica
Conductividad
(WM-1K-1)
Coeficiente de
 expansión
(10-6k-1)
Producción
 Proceso
Aleación al 5N - 2,7 660 235 23,1 Fundición
CR 3N5 - 7,22 1907 94 4,9 CADERA
Cu 4N - 8,9 1084 400 16,5 Fundición
Aleación MO 3N5 - 10,28 2623 139 4,8 CADERA
N. 4N - 8,6 2477 54 7,3 Fundición
Ta 4N - 16,7 3017 57 6,3 Fundición
Si 4N - 2,33 1414 150 2,6 Sintering&Spray
TI 5N - 4,5 1670 22 8,6 Fundición
W 4N - 19,25 3422 174 4,5 CADERA
AZO 3N5 98:2 5,6 1975 22 1,5 Sintering
ITO 4N 90:10 7,15 2000 15 2,0 Sintering
GZO 3N5 COMO SE SOLICITA 7,15 - - - Sintering
IGZO 4N COMO SE SOLICITA - - - - Sintering
NbOx 4N - 4,6 1460 5 1,5 Sintering&Spray
TIOx 4N - 4,23 1800 4 7,14 Sintering&Spray
 

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Fabricante/Fábrica
Productos Principales
Sputtering Target
Número de Empleados
6