300D-inorgánicos orgánicos combinan la evaporación del sistema de revestimiento para la preparación de la nano escala nueva película de los materiales
descripción de producto de la 300D-inorgánicos orgánicos evaporación combinado de sistema de recubrimiento:
Que consta principalmente de la cámara de vacío sistema cámara de evaporación evaporación, sistema de origen, la etapa de la muestra, el vacío del sistema de bombeo y el sistema de medición, el sistema de gas, sistema de control, Sistema de pruebas de espesor de película, la cubierta superior mecanismo de apertura hidráulica y sistema de control electrónico.
Aplicación de la 300D-inorgánicos orgánicos evaporación combinado de sistema de recubrimiento:
Se utiliza para la preparación de nuevos materiales de película delgada como nano-escala de una capa y multi-funcional de la capa de películas, películas, películas de metal duro, semiconductor films y dieléctrico de películas. Es ampliamente utilizado en la investigación y el lote pequeño de película delgada de preparación de materiales en las universidades e institutos de investigación.
Las especificaciones técnicas del 300D-inorgánicos orgánicos evaporación combinado de sistema de recubrimiento:
Vacío final |
6.7*10-5PA |
Tiempo de vacío de recuperación |
6.6×10 Pa en 40 minutos (corto tiempo de exposición a la atmósfera y llenado con nitrógeno seco para comenzar a bombear) |
Tasa de fuga del sistema |
1*10-7PaL/S |
La cámara de vacío |
Cámara de vacío circular, el tamaño 300 * 350 mm |
Etapa de la muestra |
Muestra un plano la medición de 3 pulgadas por 3 pulgadas y con un espesor de 3, 2 mm. |
Electrodo |
Cantidad: 4 piezas, tipo estándar soldó indirecta, refrigerado por agua la estructura; Diámetro Φ20mm, de agua de refrigeración interna. La evaporación en el cine; Muestras de sustrato: Sesgo negativo -200 V |
Fuente de luz orgánica horno |
Cantidad: 3, tipo estándar de 600 grados de temperatura de evaporación de control, a la película. |
Plataforma giratoria de la muestra |
Coloque el titular de la muestra en el sustrato corona con una posición de sustrato (el titular de la muestra se pueden colocar 2 pulgadas por separado) para instalar el horno. |
Sustrato |
Con el fin de aumentar la uniformidad del espesor de película sobre un sustrato de 2 pulgadas de etapa, el sustrato gira en el revestimiento de posición. La temperatura del sustrato es a partir de la temperatura a 600 ° C (la temperatura de la superficie superior de la oblea de silicio, sólo necesita calibrarse una vez) |
4 conjuntos de sistema deflector |
El deflector deflector de origen y el sustrato; 3 juegos de target deflector, junta dinámica, suelta de la transmisión, control manual; Muestra el deflector (1), magnético, horquilla |
Sistema de gas de control manual |
Controlador de flujo de masa de 1 vías |
Controlador de flujo de masa de 1 vías |
Rango de medición de espesor de película 0-999999Å |
La bomba |
Bomba molecular opcional o cryopump vortex combinado de la bomba en seco el sistema de bombeo |
Imágenes relacionadas de la 300D-inorgánicos orgánicos evaporación combinado de sistema de recubrimiento:
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