En la cima de arco de máquina de recubrimiento múltiple de iones de vacío / máquina de recubrimiento

En la cima de arco de máquina de recubrimiento múltiple de iones de vacío / máquina de recubrimiento  

Campo de aplicación
Se aplica al hardware,artesanía en vidrio, cerámica artesanía,tales como los relojes,teléfono móvil de armazón metálico, medidas sanitarias
Ware,molde,los productos electrónicos, cristal de vidrio, vasos, cubiertos, cuchillos y así sucesivamente. Usted puede hacer el super-duro resistente al desgaste de la película de revestimiento anticorrosión, cine, la película decorativa(color oro, oro rosa, café, marrón,bronce,azul,negro,blanco,gris y otros colores),junto con el magnetrón sputtering técnica puede ser compuesto multicapa chapado en la membrana y chapado en fabricado de acero inoxidable, aluminio, titanio, tungsteno y otras películas puede ser fabricado de metal recubierto de estaño, TIC, TICN, TIALN, la CRN, CU, AU, la película diamante (DLC), película decorativos de metal, la película y compuestos no metálicos y sus compuestos, película de recubrimiento de película.

La característica principal
1. Los equipos que ion criogénicos fuente secundaria, algunos sustrato sin calentar el material, puede hacer directamente el frío cine chapado a temperatura ambiente, ahorrar energía, aumentar la productividad.
2. El máximo de la temperatura para el revestimiento de la herramienta de la cámara se puede 600 grados, además de la herramienta Coater requieren las aplicaciones de revestimiento de dispositivo de calentamiento, otras aplicaciones no necesitan el dispositivo.
3. La deposición de alta velocidad, recubrimiento de alta velocidad, puede ser utilizado para hacer el revestimiento decorativo, funcional, recubrimiento de una variedad de productos. Por lo que es un equipo ideal para hacer la alta calidad y mejor recubrimiento para la producción en masa.
4. Magnetrón sputtering principio se basa en la teoría del cátodo de descarga de resplandor, se gastan el cátodo de campo magnético de la superficie cerca de la superficie de la pieza de trabajo. A continuación, se mejora la tasa de ionización de átomos sputtered. Mantiene el magnetrón sputtering uniformidad, también puede mejorar la superficie brillante efecto.
5. El arco de evaporación de plasma fuente es fiable, puede funcionar bajo 40una corriente en la optimización del cátodo y el campo magnético la estructura. Sucederá difusión atómica entre el revestimiento y el material. También tiene las ventajas que lon asistida haz deposición.
6. Sistema de bombeo de vacío, el sistema de control eléctrico y completo sistema de recubrimiento vacío pueden ser personalizados según las necesidades del usuario.