Máquina de recubrimiento metálico automatizada, equipo de recubrimiento de alta eficiencia

• Personalización: Disponible
• Garantía: un año
• Revestimiento: Revestimiento de Vacío
• No. de Modelo.: DM300
• Sustrato: Acero
• Certificación: CE, ISO
• Condición: Nueva
• Paquete de Transporte: caja de madera
• Especificación: personalizado
• Marca Comercial: acme
• Origen: China
• Capacidad de Producción: 5000

Descripción de Producto

Descripción del producto

Este sistema de recubrimiento es una estructura circular de cámara de vacío, con escape en la parte trasera y una estructura de puerta delantera, y está hecho de acero inoxidable austenítico de alta calidad. En la placa superior de la cámara de depósito de espumación de espumantes se instalan dos (2 pulgadas) (o 3 pulgadas) objetivos de espumación de magnetrón. La dirección del haz saliente es hacia el bastidor de sustrato y se obtiene una película fina en el sustrato. El equipo tiene una estructura simple y puede usarse para investigar y desarrollar películas funcionales de una capa y multicapa a nanoescala, como películas duras, películas metálicas, películas de semiconductores, películas dieléctricas, películas compuestas, películas ferromagnéticas, películas magnéticas y otros nuevos materiales de película fina. .

Parámetros principales del sistema

l Grado de vacío final: ≤6×10-5Pa (obtenido en 12 horas en condiciones de limpieza + horneado y desgasificación);

l tiempo de vacío: En 30 minutos, ≤6×10-4PA;

l temperatura de calentamiento del sustrato: ≤600ºC;

l Tamaño del sustrato: ≤Φ3inch oblea;

l número de gradillas de sustrato: 1;

l Tamaño objetivo: 50mm de diámetro (opcional 3inch);

l número de objetivos: 1 o 2;

l Tamaño de la cámara de vacío: DN250*340 (puede ajustarse adecuadamente según las condiciones reales);

l distancia de movimiento de la gradilla de sustrato: ≤50mm (dirección axial);

l ángulo entre el eje objetivo y el eje de rotación del sustrato: Co-esputtering;

l sistema de gas: Toma de aire de 2 vías, 1 de las cuales se utilizan para el escape;
 

Elemento		Especificaciones y Descripción
Cámara de vacío	Cámara de vacío de pulverización	DN220*320, el tamaño puede ajustarse de acuerdo con los requisitos de diseño, la cubierta superior puede abrirse y la puerta puede abrirse
	Válvula mariposa de vacío ultra alta	DN100, control eléctrico, función de presión constante automática opcional
	Bomba molecular	Bomba molecular 110L/S o 150L/S.
	Bomba mecánica	La bomba de paletas rotativas DVR16 también sirve como bomba de etapa preliminar y pre-bomba
	Válvula deflectora	DN25 válvula electromagnética deflectora, conexión-desconexión de la tubería de la bomba previa
	Válvula de parada	6mm válvula de parada eléctrica de interfaz de casquillo doble
	Dispositivo de iluminación y de cocción	Opcional
	Varios tipos de bridas y ventanas de observación	DN16, 35, 63, 100, 150
	Tuberías de acero inoxidable, juntas de tuberías	Varias especificaciones de precisión de tubos de acero inoxidable, fuelles, juntas de tuberías
Medición de vacío y admisión de aire	Vacuómetro compuesto digital	5227 vacuómetro compuesto o indicador de rango completo importado opcional
	Calibre metálico desnudo	ZJ27, ZJ52T interfaz de metal
	Controlador de flujo de masa	7B-D07 controlador de flujo de masa, rango 100sccm
	Tubos y conectores	Cámara de gas mixto
	Válvula de parada	6mm válvula de parada eléctrica de interfaz de casquillo doble
	Interfaces de admisión y otros controles	Válvula reguladora de presión, control eléctrico, retroalimentación disponible
Rack de muestras	Bastidor de sustrato giratorio	Rotación de sustrato, elevación de bastidor de sustrato
	Dispositivo de elevación	Elevación ajuste manual
	Dispositivo de calentamiento de sustrato de pulverización	≤600ºC dispositivo de calefacción opcional
	Alimentación de control de temperatura	Japón Shimaden control de temperatura, PID control de temperatura
Sistema de pulverización	Objetivo de pulverización de control magnético	Objetivo de pulverización integrado, opcional de 2 o 3 pulgadas, con deflector
	Suministro de energía de pulverización	500W DC o RF opcionales
	Bastidor de equipo	Diseño integrado
	Sistema de agua y gas	Incluye máquina de agua de refrigeración
	Sistema de control	Control automático de pantalla táctil opcional manual estándar

Parámetros principales del sistema:
l Grado de vacío final: ≤5×10-5Pa (obtenido en 12 horas en condiciones de limpieza + horneado y desgasificación);

l tiempo de vacío: En 40 minutos, ≤5×10-4PA;

l temperatura de calentamiento del sustrato: ≤600ºC (calentamiento de la lámpara de tungsteno de yodo);

l Tamaño del sustrato: ≤Φ3inch oblea redonda;

l Tamaño objetivo: 2 pulgadas o 3 pulgadas;

l número de objetivos: 3;

l Tamaño de la cámara de vacío: 400×400×H380~450 (puede ajustarse adecuadamente según las condiciones reales);

l distancia de movimiento de la gradilla de sustrato: ≤50mm (dirección axial);

l ángulo entre el eje objetivo y el eje de rotación del sustrato: Co-esputtering;

l sistema de gas: Toma de aire de 4 vías, 1 de las cuales son para el escape;

Esta pequeña máquina de revestimiento tiene una estructura compacta y un aspecto sencillo y elegante. Es fácil de manejar y mantener y tiene bajos costos de operación. La unidad principal y el sistema de control electrónico de este dispositivo adoptan un diseño integrado. La unidad principal consiste en un bastidor de equipo, un sistema de bombeo y una cámara de vacío. El proceso de recubrimiento se lleva a cabo en la cámara de vacío de pulverización; la parte de control electrónico adopta un armario de control estándar, que contiene varias cajas modulares de conexión. El sistema es potente y tiene un rendimiento estable.

Los parámetros básicos de la máquina de recubrimiento de espumación de magnetrón de ultra-alto vacío son los siguientes:

l vacío final de la cámara de recubrimiento: ≤6×10-5Pa;

l tiempo de bombeo: Mejor que 6×10-4PA en 30 minutos;

l Tamaño de la cámara de vacío: 300×300×H350mm, la cámara de vacío está fabricada en acero inoxidable;

l Tamaño y cantidad objetivo: Objetivos magnéticos permanentes de 2 φ50mm;

l la distancia objetivo-sustrato es ajustable (40~100mm, ajustada por la posición objetivo);

l rotación del sustrato: Ajustable de 0 a 60 rpm; equipado con calefacción, puede calentarse hasta 500 grados;

l Tamaño de la máquina principal: Aproximadamente 1100mm de largo × 750mm de ancho × 1650mm de alto;

l Tipo de gas: MFC de 2 vías, gas de trabajo Ar+gas de reacción;

l medición del grosor de la película: Equipada con un juego de medidor de grosor de película de cristal de cuarzo y sonda original (opcional);

l sistema de control: Pantalla táctil + PLC para controlar el arranque y parada de bombas, válvulas y varias alarmas de salida;
 

Parámetros principales del sistema:

l Grado de vacío final: ≤5×10-5Pa (obtenido en 12 horas en condiciones de limpieza + horneado y desgasificación);

l tiempo de vacío: En 40 minutos, ≤5×10-4PA;

l temperatura de calentamiento del sustrato: ≤600ºC (calentamiento de la lámpara de tungsteno de yodo);

l Tamaño del sustrato: ≤Φ3inch oblea redonda;

l Tamaño objetivo: 2 pulgadas o 3 pulgadas;

l número de objetivos: 4;

l Tamaño de la cámara de vacío: 500×500×H450 (puede ajustarse adecuadamente según las condiciones reales);

l distancia de movimiento de la gradilla de sustrato: ≤50mm (dirección axial);

l ángulo entre el eje objetivo y el eje de rotación del sustrato: Co-esputtering;

l sistema de gas: 4 tomas de aire, 1 de las cuales son para el escape;

   

Los parámetros básicos de la máquina de recubrimiento de espumación de magnetrón de ultra-alto vacío son los siguientes:

l vacío final de la cámara de recubrimiento: ≤6×10-5Pa;

l tiempo de bombeo: Mejor que 8×10-4PA en 30 minutos;

l Tamaño de la cámara de vacío: 300mm×300mm×H400mm, la cámara de vacío está fabricada en acero inoxidable y equipada con una ventana de observación de vidrio;

l Tamaño y cantidad objetivo: Objetivos magnéticos permanentes de 2 φ50mm (integrados);

l Fuente de alimentación de pulverización: 2 500W fuentes de alimentación de CC digital;

l Control de presión, equipado con un medidor de película y una válvula de mariposa eléctrica para lograr un control de presión constante;

l distancia de movimiento horizontal 0~80mm, equipada con placa de aislamiento para evitar que caiga escoria durante el movimiento;

l sistema de prensado en caliente: Temperatura de calentamiento del sustrato inferior: 0~600ºC ajustable continuamente. La placa superior se controla neumáticamente para presionar hacia abajo;

l Tamaño de la unidad principal: Longitud 1060mm×ancho 600mm×altura 1600mm; (el tamaño se ajustará adecuadamente según las necesidades)

l Tipo de gas: Controlador de flujo de masa de 2 vías, entrada de aire de 2 vías;

Perfil de la empresa

Nuestra empresa puede ofrecer a los clientes soluciones de diseño de sistemas de recubrimiento de vacío diversificados, que pueden lograr de forma flexible la deposición de co-esputtering, la deposición de película multicapa, las películas aislantes y la preparación de películas compuestas, cumpliendo con los requisitos de preparación de películas en diversos campos. La máquina de recubrimiento por evaporación multifuncional desarrollada se utiliza ampliamente en la investigación y desarrollo de productos OLED y OPV. Sobre la base de la configuración estándar, nuestra empresa puede personalizar las máquinas de recubrimiento para propósitos específicos, instrumentos de recubrimiento portátiles, instrumentos de prueba y productos de vacío no estándar de acuerdo con las necesidades del cliente.

 

Certificaciones

Embalaje y envío

Satisfacción del cliente, nuestra responsabilidad!
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3)Equipo de servicio:
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4)Plan de servicio humanizado
 Orientación remota:proporcionar  asistencia técnica  como   teléfono y   correo remotos;      servicio in situ:proporcionar  mantenimiento in situ, asistencia técnica  y  otros  servicios;
Servicio de inspección:proporcionar visitas de retorno y servicios de inspección regulares;
Servicio de estancamiento: Proporcionar  servicios de estancamiento a largo plazo  necesarios para el  proyecto.