Descripción de Producto
Información de la Compañía
Información Básica.
Usage
Inorganic Chemical Material
Product Name
Trichlorosilane Gas
Paquete de Transporte
Sea Transportation
Especificación
40L 50L 200L
Descripción de Producto
Descripción del producto
El triclorosilano (SiHCl3) es un compuesto químico compuesto por un átomo de silicio enlazado a tres átomos de cloro y un átomo de hidrógeno. Es un líquido incoloro y volátil a temperatura ambiente. Aquí están algunos puntos clave sobre el triclorosilano:
Composición química: El triclorosilano consiste en un átomo de silicio (Si) enlazado a tres átomos de cloro (Cl) y un átomo de hidrógeno (H). Su fórmula química es SiHCl3.
Propiedades: El triclorosilano es un líquido volátil que hierve a unos 31,8 grados Celsius (89,2 grados Fahrenheit) y tiene un punto de fusión de -122 grados Celsius (-187,6 grados Fahrenheit). Es altamente reactivo e inflamable. El triclorosilano se descompone fácilmente en presencia de humedad o agua, liberando gas de hidrógeno y formando ácido silícico.
Producción: El triclorosilano se produce principalmente a través de la reacción de silicio metalúrgico (generalmente en forma de trozos o polvo) con gas de cloruro de hidrógeno (HCl) a altas temperaturas:
Si + 3HCl → SiHCl3 + H2
Esta reacción ocurre típicamente en presencia de un catalizador y se lleva a cabo en un sistema cerrado.
Usos: El triclorosilano tiene varias aplicaciones industriales:
Producción de silicio: Es un intermediario clave en la producción de silicio de alta pureza. El triclorosilano se utiliza como precursor en el proceso Siemens o en el proceso Siemens modificado, que implica la producción de silicio policristalino para su uso en semiconductores y células solares.
Síntesis química: El triclorosilano se utiliza como fuente de silicio en la síntesis de varios compuestos de silicio, incluyendo siliconas, silanos y carburo de silicio.
Producción de hidrógeno: El triclorosilano puede usarse como fuente de gas hidrógeno a través de su reacción con vapor de agua o vapor:
SiHCl3 + 3H2O → SiO2 + 3H2 + 3HCl
Esta reacción genera gas de hidrógeno para diversas aplicaciones industriales.
Tratamiento de la superficie metálica: El triclorosilano se utiliza como agente de tratamiento de la superficie para los metales para mejorar la adhesión o proporcionar un revestimiento protector.
Consideraciones de seguridad: El triclorosilano es un líquido inflamable y debe manipularse con precaución. Reacciona vigorosamente con el agua, liberando gas de hidrógeno y formando ácido silicico corrosivo. Los vapores de triclorosilano también son tóxicos y pueden causar irritación respiratoria. Se deben seguir las precauciones de seguridad adecuadas, como la ventilación apropiada, el equipo de protección y los procedimientos de manipulación segura, cuando se trabaje con triclorosilano.
Es importante manejar el triclorosilano de manera segura y seguir los protocolos adecuados para minimizar los riesgos asociados con su reactividad, inflamabilidad y posibles riesgos para la salud.
Información básica
Modelo no: | SiHCl3 | Calidad | Grado de electrones |
Paquete de transporte | Cilindro y, tambor T, TT, tanque | Especificación | 20L, 40L, 280L y personalizable |
Marca comercial | CMC | Origen | Suzhou, China |
Código HS | 2812190091 | Capacidad de producción | 500ton/Mes |
Especificación:
Fotos detalladas
Perfil de la empresa
Shanghai Kemike Chemical Co., Ltd está formado por personal capacitado, combina muchos años de experiencia en la industria del gas. Suministramos gas de botella, gas electrónico, etc ., y el gas de sostenedor, panel, válvulas y accesorios y otros equipos, piezas y servicios de ingeniería a nuestros clientes en China y en todo el mundo; Los productos están implicados en diversos campos industriales, como chip semiconductor, célula solar, LED, TFT-LCD, fibra óptica, Vidrio, láser, medicina, etc., nuestra misión es asociarse con nuestros clientes globales para proporcionar soporte, soluciones y productos de calidad innovadores, confiables y seguros.
Nuestros productos incluyen principalmente: H2, O2, N2, Ar, CO2, Propano, acetileno, helio, gas mezclado con láser, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, Nf3, SF6, HCL, N2O, gases mixtos dopantes (TMB, PH3, B2H6) y otros gases electrónicos.
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7. P: ¿es posible enviar por aire?
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8. P:¿Puedo personalizar el paquete?
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9. P: ¿Cuáles son los detalles del paquete y almacenamiento?
A:cilindro de acero sin costuras con diferentes válvulas, o en cuanto a sus necesidades.
Se almacena en un almacén sombreado, fresco, seco y ventilado, y se mantiene alejado de la luz solar y de los rayos.
10. Más pregunta
No dude en ponerse en contacto con nosotros, recibirá una respuesta inmediata.
Dirección:
Building 1, No. 688, Qiushi Road, Jinshanwei Town, Jinshan District, Shanghai, China
Tipo de Negocio:
Fabricante/Fábrica
Rango de Negocios:
Productos Químicos
Introducción de Empresa:
Shanghai Kemike Chemical Co., Ltd es una empresa profesional dedicada al desarrollo de materiales de depósito de vapor químico semiconductor. Vende todo tipo de materiales avanzados CVD/ALD (deposición de vapores químicos/deposición de capa atómica) de deposición de vapores químicos. Proporciona a las empresas de materiales avanzados de alta tecnología desde el frente [síntesis, purificación, análisis] integración de procesos hasta el reverso [llenado y envasado, fabricación de contenedores, servicios técnicos]. Nuestra misión es asociarse con nuestros clientes globales para proporcionar soporte, soluciones y productos de calidad innovadores, fiables y seguros. Póngase en contacto con nosotros hoy mismo para hablar sobre sus necesidades y averiguar cómo podemos ayudarle.
Shanghai Kemike Chemical Co., Ltd está formado por personal capacitado, combinar muchos años de experiencia en la industria del gas. Suministramos gas de botella, gas electrónico, etc., y el soporte de gas, panel, válvulas y accesorios y otros equipos, piezas y servicios de ingeniería a nuestros clientes en China y en todo el mundo; los productos están involucrados en varios campos industriales, tales como chip semiconductor, célula solar, LED, TFT-LCD, fibra óptica, Vidrio, láser, medicina, etc., nuestra misión es asociarse con nuestros clientes globales para proporcionar soporte, soluciones y productos de calidad que sean innovadores, confiables y seguros.
Nuestros productos incluyen principalmente: H2, O2, N2, Ar, CO2, Propano, acetileno, helio, gas mezclado con láser, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, Nf3, SF6, HCl, N2O, gases mixtos dopantes (TMB, ph3, B2H6) y otros gases electrónicos.