Guangdong, China
Rango de Negocios:
Metalurgia, Mineral y Energía
Tipo de Negocio:
Fabricante/fábrica
Certificación de Sistema de Gestión:
ISO 9001, ISO 14001, QHSE

Fabricante/ proveedor chino de Blanco de Pulverización Catódica, Molibdeno Destino, Blanco de Titanio, ofreciendo La pureza de la placa de la hoja de tungsteno de Sputtering ..., Aleación de Ticr Tial Destino, de aleación de destino, ..., La pureza del 99, 95% Nbox, TiO2, AZO, TZO, Destino Gzo y etc. de calidad.

Gold Member Desde 2018
Audited Supplier
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Conseguir Precio Último
Precio FOB de Referencia
1-99 kg US $ 100,00
100+ kg US $ 90,00
Condiciones de Pago: T/T
Puerto: Hong Kong, Hong Kong
Capacidad de Producción: 500 Tons

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Información Básica

No. de Modelo.
HIP Chrome
Tipo
Meta de metal
Proceso de dar un título
TUV , YO ASI , CE

Información Adicional

Embalaje
Vacuum Packed in Wooden Case
Estándar
customization
Origen
China
Capacidad de Producción
500 Tons

Descripción de Producto

descripción de producto
1. Nombre: HIP puro laminados recubrimiento de cromo de sputtering meta para la película
2. Tamaño:   Arc /  Rectángulo /planar con el agujero o paso  como personalizado
3. El pegado en la placa de cobre como dibujo

4. Aplicaciones:   Revestimiento decorativo de la industria,   Gran zona recubrimiento de vidrio, recubrimiento tribológicas
5. Certificación: ISO9001, SGS, CTI, RoHS
El nombre del producto
Laminados de CHIP de cromo puro sputtering meta para la película de recubrimiento
Material
Cromo puro
El color
Metal
Standard
La pureza, por encima de 99, 95%
El tamaño
Tubo/ Placa, personalizar
Palabra clave
Cromo puro
Technics
Hot prensa isostática, metalurgia de polvos
Usa
La industria de recubrimiento decorativo
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Hot Isostatic Pressing Hip Chrome Tube Target 99.95% Chromium Target
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Nuestros objetivos de sputtering consisten principalmente en metales puros y aleaciones, disponible tanto en plana y girar las formas.

Los objetivos de Rhexon destacados:
1. Metal Puro:
Ti, en el ZR, Ta, Nb, Mo, W, Ni, Cr, Al, Zn, IS, Cu, ITO, AZO. TZO, ASEO, Nb2O5, TiO2, SiO2 con la  Plana  Y de    Tipo rotativo.

2. aleación típico  objetivo  :
1) de Ti/al  objetivo de aleación  (67: 33, 50: 50por ciento)
2) W/    destino de aleación de Ti  (90: 10wt%),
3) Ni la  aleación/V  objetivo  (93: 7, wt%)
4) Ni la  aleación/Cr  objetivo    (80: 20, 70: 30, wt%),
5) al      objetivo de la aleación/Cr  (70: 30, 50: 50por ciento)
6) Nb/Zr      objetivo  (aleación de 97: 3, 90: 10wt%
7) Si/al    objetivo de aleación  (90: 10, 95: 5, 98: 2, 70: 30, wt%)
8) Zn/  aleación al.
9)Cr puro  objetivo  (99, 95%, el 99, 995%)
10)al    objetivo de la aleación/Cr (70: 30, 50: 50, 15: 85, 67: 33, wt%y en %)
11) ni de aleación de cobre y de  destino  (70: 30, 80: 20, wt%)
12)al    objetivo de la aleación/Nd  (98: 2wt%)
13)Mo/Nb de  destino  (aleación de 90: 10, wt%)
14)TiAlSi  Objetivo (aleación de Ti/Al/IE=30/60/10, 33/67, 40/50/10, y en el wt%%)
15)  Aleación CrAlSi objetivo  (Cr/Al/IE=30/60/10, y en el wt%%)y así sucesivamente, y la ayuda de material objetivo
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