El 99,9% de grado de electrones Trichlorosilane Sihcl Gas3
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El 99,9% de grado de electrones Trichlorosilane Sihcl Gas3

Conseguir Precio Último
Cantidad Mínima: 20 L
Condiciones de Pago: LC, T/T, Western Union, PayPal
Puerto: Shanghai, China
Capacidad de Producción: 500ton/Month

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Información Básica

No. de Modelo.
SiHCl3
Proceso de dar un título
CE , RoHS , ISO
Pureza
≥99%
Estándar Grado
Grado de Electrón

Información Adicional

Marca
Kaimei
Embalaje
Y-Cylinder, T-Drum, Tt, Tanker
Estándar
20L, 40L, 280L and customizable
Origen
Suzhou
Código del HS
2812190091
Capacidad de Producción
500ton/Month

Descripción de Producto

Especificación:

Trichlorosilane
  Es un precursor de silicio El silicio epitaxial que contienen las películas delgadas, especialmente para los
Preparación de obleas de arranque.

Especificaciones:
 

% De pureza: ≥99.85
La resistividad: ≥ 300 ohmios cm
Boro: ≤ 0, 1 ppba silicon  
El total de carbono: ≤ 5  Ppma
Hierro:   Ppba ≤ 5
Otros Chlorosilane:   ≤ 500 ppm
Estado del cilindro @  21.1°C: Líquido
Límites de inflamabilidad en el aire: 7-83%
Encendido automático de temperatura (°C ). 182
Peso Molecular (g/mol): 135.45
La gravedad específica (aire =1): 4.67
La temperatura crítica (  °C ). 242.5

Tipo de paquete:
99.9% Electron Grade Trichlorosilane Sihcl3 Gas
Información de la empresa:


Suzhou Xunhe Chemical  Co., Ltd es atendido por personal capacitado, se combinan muchos años de experiencia en la industria del gas. El cilindro de suministro de gas, gas electrónico, etc., y el gas titular, en el panel, válvulas y accesorios y otros equipos, piezas y servicios de ingeniería para nuestros clientes en China y en todo el mundo; Los productos están involucrados en diversos campos industriales, tales como el chip semiconductor, célula solar, LED, pantalla TFT-LCD, fibra óptica, vidrio, láser, la medicina, etc., Nuestra misión es socio con nuestros clientes globales para proporcionar apoyo, soluciones y productos de calidad que sean innovadores, fiables y seguras.
Nuestros productos incluyen principalmente: H2, O2, N2, Ar, el CO2, el propano, acetileno, láser de helio, mezcla de gas,   SiH4, Sih2Cl2, SiHCL3 SiCL4, NH3, el CF4, la NF3, el SF6, HCL, N2O, el dopaje gas mixto (TMB, PH3, B2H6) y otros medios electrónicos de los gases.

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