Espumación de magnetrón con proceso de limpieza de iones DC/RF Doble-cabeza de vacío alto 2" Magnetron plasma esputtering Coater
Breve introducción del sistema de espumación de magnetrón:
CY-MSP-RFDC es un sistema compacto de espumación de magnetrón con dos fuentes de destino de 2", por ejemplo, una fuente de CC para el revestimiento de películas metálicas y otra fuente de RF para el revestimiento de material no metálico. Se incluye un dispositivo de seguimiento del grosor de la película para permitir al usuario controlar el procesamiento fácilmente. Este coater está diseñado para cubrir capas de película única o múltiple para una amplia gama de materiales, como aleación, ferroeléctrica, semiconductor, cerámica, Dieléctrico, óptico, PTFE, etc. a bajo costo.
Descripción del producto
Breve introducción del sistema de espumación de magnetrón:
CY-MSP-RFDC es un sistema compacto de espumación de magnetrón con dos fuentes de destino de 2", por ejemplo, una fuente de CC para el revestimiento de películas metálicas y otra fuente de RF para el revestimiento de material no metálico. Se incluye un dispositivo de seguimiento del grosor de la película para permitir al usuario controlar el procesamiento fácilmente. Este coater está diseñado para cubrir capas de película única o múltiple para una amplia gama de materiales, como aleación, ferroeléctrica, semiconductor, cerámica, Dieléctrico, óptico, PTFE, etc. a bajo costo.
Fotos detalladas
Especificación del DC/RF de doble cabeza de vacío de 2" Magnetron plasma Sistema de revestimiento de pulverización
| Estructura compacta |
|
| Potencia de entrada |
- 220vac 50/60Hz, monofásico
- 2000W (incluida la bomba)
|
| Fuente de alimentación |
Dos fuentes de alimentación de pulverización están integradas en una caja de control
- Fuente DC: 500W para el recubrimiento de materiales metálicos
- Fuente de RF: 600W con autómata para el recubrimiento de materiales no metálicos ( Centro)
- La fuente de RF compacta 300 está disponible con un coste adicional
|
| Cabeza de espumación de magnetrón |
- Dos cabezas de espumación Magnetron de 2" con chaquetas de enfriamiento de agua son incluido
- Uno está conectado a la fuente de alimentación de RF para materiales no conductores
- Otro está conectado a la fuente de alimentación de pulverización de CC para el revestimiento materiales metálicos
- Tamaño objetivo requisito: 2" de diámetro
- Rango de espesor: 0,1 - 5 mm para objetivos metálicos y no conductores
- Se incluyen una diana de acero inoxidable y una cerámica Al2O3 para pruebas de demostración
- Refrigeración de agua de la cabeza: Se requiere un flujo de agua de 10ml/min, y se incluye un enfriador de agua recirculante controlado digitalmente de 16ml/min para enfriar ambas cabezas de espumante de magnetrón
- Coater personalizado: Dos cabezales de CC sin, RF con sputtering, RF con cabezal sin DC con sputtering, 3 cabezales de RF disponibles a petición
|
| Cámara de vacío |
- Cámara de vacío: 300 mm de diámetro x 400 mm de altura, de acero inoxidable
- Ventana de observación: Diámetro de 100 mm
- Cubierta tipo bisagra en la parte superior con muelle neumático deportivo hace intercambio de objetivos fácil
|
| Soporte de muestras |
- Tamaño del soporte de muestras: 140mm diám. Para. 4" oblea máx
- La velocidad de rotación del portamuestras es ajustable: 1 - 20 rpm para un revestimiento uniforme
- La temperatura del soporte se puede ajustar de RT a 500°C máx Con precisión +/- 1,0 °C.
|
| Control de flujo de gas |
- Dos MFC digitales de precisión (controlador de flujo masivo) se instalan para permitir dos tipos de gases rellenado
- Caudal: 200 ml/min máx
- El caudal se puede ajustar en el control de pantalla táctil de 6" panel
|
| Estación de bombeo de vacío |
- El sistema de bomba de vacío turbo de alta velocidad (fabricado en Alemania) se instala directamente en la cámara de vacío para un nivel máximo de vacío
- La bomba mecánica de dos etapas de servicio pesado está conectada al turbo bomba para una velocidad de bomba más rápida
- La estación móvil de la bomba está incluida y el coater compacto del sputtering se puede poner en la parte superior de la estación
- Nivel de vacío máx.: 10 -6 torr con horno de cámara
|
| Monitor de espesor |
- Un sensor de grosor de cuarzo de precisión está integrado en la cámara Para controlar el espesor del recubrimiento con precisión de 0,10 Å
- Unidad de pantalla LED exterior de la cámara CAN:5 sensores de cuarzo (consumible) están incluidos
- Material de entrada que se debe revestir de acuerdo con la base de datos incluida
- Mostrar espesor total de revestimiento y velocidad de recubrimiento
-
- Se requiere refrigeración por agua
|
| Dimensiones totales |
L1300mm× W660mm× H1200mm |
| Peso neto |
460 kg |
| Garantía |
Garantía limitada de un año con soporte de por vida |
| Nota de aplicación |
- Para eliminar el oxígeno de la cámara, sugiérale que use 5% de Hytrogen + 95% de nitrógeno en la cámara del clan 2-3 veces, lo que puede reducir el oxígeno a menos de 10 ppm
- Utilice gas argón de pureza > 5N para espumación de plasma. Aunque 5N pureza Ar, por lo general contienen 10- 100 ppm de oxígeno y H2O
|
Parámetros del producto
Pantalla del plasma Magnetrón de 2" de cabeza doble de DC/RF de vacío alto Sistema de revestimiento de pulverización
otros espumantes y cotaras de evaporación de plasma que usted puede necesitar:
Proveedor Auditado 
