After-sales Service: | Free Installing and Training, Technical Support |
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Warranty: | One Year Limited Warranty |
Tipo: | PVD Vacuum Coating Machine |
Revestimiento: | Revestimiento de Vacío |
Sustrato: | Acero |
Certificación: | CE, ISO |
Proveedores con licencias comerciales verificadas
La máquina es principalmente el diseño de sanitarios/baño montaje de piezas. Está equipado con varios arco eléctrico de gran tamaño de la evaporación fuentes y magnetrón sputtering sistema de recubrimiento, para el depósito de metal de alto rendimiento de la película decorativa en Latón, aleación de zinc, acero inoxidable, plástico y otras partes de metal de la superficie. Puede llegar a todos los tipos de metal color serie sobre sustrato. Revestimiento de la película incluye el estaño, el ZR,T CIE, ZrCN, la CrN, CrCN, latón, bronce, cromo, etc. El color serie incluye AF, SN BN VF, BV, G, BX, la tuberculosis, la AF, SN, 96CB, CB TXB, VS, S, BS, BRZ, BGD, PGD y así sucesivamente. Se puede conseguir diferentes colores mediante el ajuste de las técnicas de revestimiento. Es ampliamente utilizado en los sanitarios/ menaje de cocina.
Equipa con el nuevo destino y del arco fuente de alimentación, el arco spot es estable. No es fácil de ejecutar el arco, el actual es baja y ionparticles es pequeño. Se aplica a metal, cerámica, vidrio y otros materiales de recubrimiento de superficie de la película de metal duro y compuestos metálicos, la película. El bombeo de velocidad, vacío de la estabilidad, y de calidad superior de cine, ampliamente utilizado en hardware, relojes, gafas, herramientas, troqueles, metal, vidrio, cerámica, materiales de construcción, y otros tratamiento de superficie de la industria.
El recubrimiento PVD características:
Mode La dimensión |
JTL-900. | JTL-1100 | JTL-1250 |
900*1000 mm. | 1100*1000mm | 1250*1100mm | |
Modo de recubrimiento y de las principales confirguration |
Los seis objetivos de multi-arc + un conjunto de objetivos de la columna + un juego de aviones rectángulo magnetrón sputtering objetivos | Los seis objetivos de multi-arc + un par de gemelas (MF) magnetrón sputtering objetivos |
Doce multi-objetivos arco + dos conjuntos de rectángulo plano magnetrón sputtering objetivos+ un par de gemelas (MF) magnetrón sputtering objetivos |
Fuente de alimentación | La potencia de arco eléctrico, DC magnetrón potencia, energía, de filamentos de MF magnetrón, el pulso de energía la energía, fuente de ionizado lineal | ||
Control de gases de proceso | Caudalímetro de calidad + el electromagnetismo de la válvula de cerámica | ||
Estructura de la cámara de vacío | Un solo lado) Vertical(puerta, el sistema de bombeo postposition, el doble de refrigeración por agua | ||
Sistema de vacío. | La bomba de la molécula +bomba Roots +bomba mecánica(5.0*10 -5 Pa) Bomba de difusión +bomba Roots +bomba mecánica(5.0*10 -4 Pa) |
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La temperatura de cocción de pieza. | La temperatura normal de 350 centésimas de grado de control PID, radiante. |
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Modo de movimiento de la pieza | Control de frecuencia de rotación de público: 0-20 la rotación por minuto. | ||
Modo de medición | Compuesto de visualización del número de manómetro de vacío: de la atmósfera a 1.0*10 -5 Pa | ||
Modo de control | Manual/Automático/PC/PLC + HMI/PC cuatro opciones de control de modo | ||
Comentario | Podemos diseñar la dimensión de los equipos del cliente según técnica especial exigencia. |
Proveedores con licencias comerciales verificadas